清洗用治具、涂布装置以及清洗方法制造方法及图纸

一种清洗用治具，该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中，在与基板同样地保持在所述旋转保持装置的状态下清洗所述容器内，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。面朝向外周上方倾斜。面朝向外周上方倾斜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洗用治具、涂布装置以及清洗方法


[0001]本公开涉及一种清洗用治具、涂布装置以及清洗方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中，公开了一种清洗用治具，该清洗用治具能够在旋转涂布装置中用于容器的清洗，该旋转涂布装置向在所述容器内被可旋转地保持的基板上滴下处理液，并通过该基板的旋转向该基板上涂布所述处理液的膜，该清洗用治具具备外周面，该外周面形成为在所述旋转涂布装置中该清洗用治具被旋转时，能够保持向背面供给并通过旋转来被引导的溶剂并使其向所述容器内飞散。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2010
‑
16315号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开所涉及的技术是当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时，与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一个方式提供一种清洗用治具，该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种清洗用治具，该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中，在与基板同样地保持在所述旋转保持装置的状态下清洗所述容器内，该清洗用治具的特征在于，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。2.根据权利要求1所述的清洗用治具，其特征在于，通过所述周缘顶部和周缘底部形成所述喷出口。3.根据权利要求1或2所述的清洗用治具，其特征在于，在所述孔的入口部与所述喷出口之间形成的引导通路具有随着朝向所述喷出口而流路截面积变大的形状。4.根据权利要求1～3中的任一项所述的清洗用治具，其特征在于，所述孔在俯视时是圆弧状。5.根据权利要求1～4中的任一项所述的清洗用治具，其特征在于，与所述周缘顶部相比，所述周缘底部向外侧突出。6.根据权利要求1～5中的任一项所述的清洗用治具，其特征在于，多个所述孔相互独立地形成至所述喷出口内的下表面。7.根据权利要求1～6中的任一项所述的清洗用治具，其特征在于，在俯视时所述孔与所述喷出口内的下表面在所述喷出口内的下表面的靠所述清洗用治具的中央的位置处连通。8.一种涂布装置，向容器内的基板上供给涂布液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述涂布液的膜，该涂布装置具备：旋转保持装置，其配置于所述容器内，能够将圆盘状的清洗用治具与被供给所述涂布液的所述基板同样地进行保持；以及清洗喷嘴，向由所述旋转保持装置保持并通过所述旋转保持装置而旋转的所述清洗用治具的下表面供给清洗液，以清洗所述容器内，其中，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出...

【专利技术属性】
技术研发人员：新村聪，高柳康治，柴崎健太，稻田博一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：