本发明的技术问题为抑制配管结露。解决方案为：处理系统(100)包括隔热配管(12)、温度测量器(19)和控制装置(20)。隔热配管(12)具有内管和外管，内管与外管之间形成有气密空间，温度比配置有隔热配管(12)的室内的温度低的流体能够...

本实用新型提供一种对提高在基片的表面形成的有机覆膜的灰化处理的均匀性有效的基片处理装置，基片处理装置(1)包括：保持晶片(W)并使该晶片旋转的旋转保持部(30)，上述晶片在表面(Wa)具有有机覆膜；向晶片的表面照射有机覆膜的灰化用的光的...

本实用新型提供一种涂敷处理装置，即使在涂敷处理粘度高的处理液时发生处理液的拉丝，通过除去拉丝的处理液，缩短处理时间，并且预防拉丝处理液附着在基片上。能够在保持于基片保持部(6)中的晶片(W)的周缘部附近从下方上升的拉丝除去棒(10a、1...

本发明能够降低温度控制系统的耗能。柔性配管(13)包括金属制的波纹管(130)和内管(131)。内管(131)配置于波纹管(130)的内侧，流体在其上流动的内侧的表面是光滑的。流体在其上流动的内管(131)的内侧的面可以比编织体的表面光...

一种在基片上涂敷涂敷液的方法，其中，在形成于基片上的涂敷液的液膜干燥之前，一边使该基片以规定的转速旋转，一边对基片上的涂敷液的该液膜上的周边部供给涂敷液的溶剂，以在该周边部形成涂敷液与溶剂的混合层，然后，使基片以比规定的转速快的转速旋转...

对基板上的抗蚀膜进行显影处理的显影处理方法包括如下工序：图案形成工序，对基板供给显影液而使基板上的抗蚀膜显影来形成抗蚀图案；涂布工序，对经显影的基板涂布水溶性聚合物的水溶液；以及冲洗工序，对涂布了该水溶性聚合物的水溶液的基板供给冲洗液来...

本发明提供一种等离子体喷涂装置，具有：供给部，将喷涂材料的粉末用等离子体生成气体来运送，从前端部的开口进行喷射；等离子体生成部，利用500W～10kW的电力将喷射出的上述等离子体生成气体分解而生成等离子体；以及，腔室，使上述供给部和上述...

本发明的技术问题为提供一种能够调节等离子体的状态的方法。解决方案为：在一实施方式的方法中，在腔室的内部空间中生成气体的等离子体。在等离子体的生成期间，增加由直流电源施加到电极的负极性的直流电压的绝对值。电极构成腔室的一部分或者设置于内部...

本申请提供一种基板处理装置，包括：载置台，其用于载置基板(W)，并以轴线(X)为中心进行旋转；天线，其设于第1区域；以及反应气体供给部，其用于向第1区域供给反应气体。反应气体供给部具有内侧喷射口和外侧喷射口。内侧喷射口在从轴线(X)的方...

基片处理装置(10)包括：保持晶片(W)并使其旋转的旋转保持部(21)；对由旋转保持部(21)保持的晶片(W)的周缘部(We)供给处理液的液供给部(22)；检测周缘部(We)的温度分布的传感器(23)；和控制装置(4)，其构成为能够执行...

本发明提供一种能够以高选择比对Ge浓度互不相同的SiGe系材料中的一者相对于另一者进行蚀刻的蚀刻方法。向具有Ge浓度互不相同的第1SiGe系材料和第2SiGe系材料的被处理体供给蚀刻气体，利用第1SiGe系材料和第2SiGe系材料的直到...

提供了一种用于在清洗系统中清洗基板的方法。为预处理系统选择一个或更多个目标，并且使用计量测量对包括UV计量、基板温度、氧分压强、氧和臭氧分压强和/或总压强的两个或更多个预处理操作变量进行优化以满足预处理目标。基板(6，14，224，93...

本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统和存储介质。不给基板的表面带来影响就能够去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序、剥离处理液供给工序和溶解处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，将含有挥发成...

本发明提供一种能够可靠地在短时间内清洗用于向基板供给处理液的流路的流路清洗方法和流路清洗装置。在利用清洗液对用于向基板(W)供给抗蚀剂等处理液来对基板进行处理的该处理液的流路(20A、20B)进行清洗的流路清洗方法中实施以下的工序：混合...

本发明提供一种能够容易地抽出待维修测试头的晶片检查装置。该晶片检查装置(10)包括在装载部(13)和能够进行各检查室(11)的维修作业的空间之间配置的多个检查室(11)被并列配置而成的室站(12)和在室站(12)的上述空间一侧的下方配置...

本发明提供一种钨膜的成膜方法和成膜系统。在薄膜化了的情况下也谋求钨膜的低电阻化。一种钨膜的成膜方法，将在表面形成有TiN膜的基板配置于处理容器内，在减压气氛下对基板进行加热，同时在基板的表面对钨膜进行成膜，其中，该钨膜的成膜方法具有在基...

本公开说明能够抑制棉状块的产生的基板处理装置。基板处理装置具备：旋转保持部，其保持基板，并且使所述基板绕沿与所述基板的表面正交的方向延伸的旋转轴以规定的转速旋转；处理液供给部，其构成为从位于所述表面侧的处理液喷嘴，向通过所述旋转保持部而...

本发明提供在对基板上的有机材料膜进行干燥处理时尽量地降低混入到处理容器内的水分的影响的干燥装置和干燥处理方法。干燥装置(100)包括能够抽成真空的处理容器(1)和用于在处理容器(1)内支承基板(S)的作为基板支承部的基板支承部(3)，在...

本发明能够检测干燥处理后的基片背面的残留液。实施方式的基片处理装置包括保持部、喷嘴、检测部和控制部。保持部保持基片并使其旋转。喷嘴向基片的背面排出处理液。检测部测量对象区域内的物体的温度。控制部控制保持部控制，在进行了干燥处理后，根据检...

本发明提供一种能够基于拍摄基片得到的检查对象的图像，对基片的缺陷适当地分类的技术。解决方案为：对拍摄基片得到的拍摄图像进行深度学习和两类别分类部(3)，从而得到包含缺陷区域的二值化数据。根据该二值化数据生成包含缺陷区域的矩形的彩色图像，...