本发明提供一种能够对FOUP的内表面进行除电，抑制微粒向FOUP的内表面的附着的基板搬入搬出装置、处理装置和基板搬送容器的除电方法。一个实施方式的基板搬入搬出装置具有：隔壁，其划分出基板搬送区域和容器搬送区域；搬送口，其形成于所述隔壁；...

提供基板液体处理装置和基板液体处理方法。在将规定浓度的药剂的第一水溶液用作处理液来对基板进行液体处理的基板液体处理装置中，能够使用处理液对基板良好地进行处理。在本发明中，将处理液贮存于处理液贮存部，向上述处理液贮存部供给浓度与上述处理液...

本发明使多个处理容器的条件的差异在容许范围内，以实现由多个处理容器对产品基片的处理的一致性。本发明提供一种基片处理方法，其包括：调整步骤，其参照存储有传感器数据的推定模型的存储部来调整各处理容器的装置参数，使得对各处理容器输入或者输出的...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。抑制基板从支承槽脱落。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和处理槽。基板保持部保持多个基板。处理槽积存处理液。另外，基板保持部具备支承体、升降机构以及限制部。支承体具有多个支承槽，从下方将立起状...

本发明涉及基片处理装置和基片处理方法，能够提高基片的成品率。实施方式的基片处理装置包括液量检测部和覆盖检测部。液量检测部检测形成于基片上的液膜的液量。覆盖检测部检测液膜对基片的覆盖状态。

本公开涉及蚀刻方法。一个实施方式的蚀刻方法应用于具有第一膜～第三膜的基板。第三膜设置在基底区域上，第二膜设置在第三膜上，第一膜设置在第二膜上。第二膜包含硅和氮。对第一膜～第三膜依次进行蚀刻。在对第一膜～第三膜进行的蚀刻中，使用含氟和氢的...

本发明提供一种去除方法和处理方法。一种去除方法，其是选择性地去除在处理容器内的基板上形成的多个凹部内的多种金属氧化膜的方法，其中，该去除方法包括反复多次进行如下工序的内容：使所述多种金属氧化膜暴露于BCl3气体或导入BCl3气体而生成的...

提供处理基板的方法。一实施方式中，提供处理基板的方法。基板具有被蚀刻区域和图案化的区域。图案化的区域设置于被蚀刻区域上。方法中，在基板的表面上形成有机膜。接着，通过处理气体的等离子体，对被蚀刻区域进行蚀刻。有机膜的形成是在腔室内的处理空...

本发明提供一种能够缩短处理液的补充时间的基片处理方法和基片处理装置。实施方式的基片处理方法将基片浸渍在含有药液和硅的处理液中以进行蚀刻处理，包括准备步骤和补充步骤。准备步骤中，根据药液的补充量和硅的补充量来设定药液的供给流量。补充步骤中...

本发明提供一种基板处理装置和温度控制方法，对喷淋板和基底构件相分别地进行温度控制。基板处理装置(10)具有喷淋头(40)，所述喷淋头以与用于载置基板(S)的载置台(30)相向的方式配置在处理容器(20)内，用于喷出处理气体。喷淋头具有：...

本公开涉及等离子体蚀刻装置和等离子体蚀刻方法。目的在于提高等离子体蚀刻装置的生产率。等离子体蚀刻装置具有：能够进行真空排气的处理容器；在所述处理容器内载置基板的下部电极；在所述处理容器内与所述下部电极以并行的方式相向的上部电极；处理气体...

本发明的技术问题为，能够在该被处理体的面内均匀地进行被处理体的等离子体处理。本发明的解决方案为一种等离子体处理装置，其从天线经由处理容器的顶板向处理容器内辐射微波，生成等离子体，对处理容器内的晶片进行等离子体处理，该等离子体处理装置包括...

本发明提供一种排气装置、处理装置以及排气方法。目的在于减少处理室的压力的偏差。提供一种排气装置，该排气装置具有：排气机构，其具有第1叶片构件和第2叶片构件，该第1叶片构件和该第2叶片构件在处理容器的排气空间中同轴地配置于比被处理体靠外周...

为了在被处理基片上形成图案时实现随高度集成化带来的精细化，提供一种用于抑制颗粒产生的技术。一实施方式的方法是一种在形成于被处理基片上的图案上成膜的成膜方法，被处理基片被配置在载置台上，载置台被设置在能够在减压环境下进行等离子体处理的空间...

本实用新型提供一种液处理装置，其在将处理液供给到基片进行处理中，能够抑制颗粒向基片的附着。上述液处理装置在从各喷嘴部(5、6、7)对保持为水平的晶片(W)供给处理流体进行处理时，由设置有用于使各喷嘴部(5、6、7)移动的开口部(16a、...

本发明提供一种药液排出机构，在用于排出粘度较高的药液的药液排出机构中，能够使该药液的排液路径所占的高度变小。该药液排出机构包括：储存部，其具有用于储存药液的储存空间；稀释液供给口，其开口于储存空间，以便供给用于使药液的粘度降低的稀释液；...

提供一种不对载置台进行加工而能够对在搬送机构与载置台之间交接基板的交接位置进行示教的搬送机构的示教方法。一个实施方式的示教方法是用于将基板搬送到载置台的搬送机构的示教方法，包括以下步骤：搬送步骤，将在外周缘部具有多个摄影单元的检查用基板...

本文中公开的技术提供了一种用于衬底图案化的方法，该方法得到非均匀间距(混合间距)的线。技术还可以通过选择性地替换多线层中的材料线来实现高级图案化选项。形成具有三种不同材料的交替线的多线层。使用一个或更多个蚀刻掩模来选择性地去除至少一条未...

本发明提供一种能够抑制成本升高的电子器件测试装置。探针台(10)包括用于载置载体(C)或晶片(W)的载置台(11)，该载置台(11)包括用于载置载体(C)的载置台盖(27)、与该载置台盖(27)抵接的冷却单元(29)、和隔着载置台(27...

本发明提供一种微波等离子体处理装置，具有能够使等离子体密度增加的构造。该微波等离子体处理装置具有：微波供给部，其供给微波；微波辐射构件，其设置在处理容器的顶壁之上，辐射从所述微波供给部供给的微波；以及包括电介质的微波透过构件，其以封闭所...