本发明公开了一种加快工艺腔室复机的清洗方法。包括加热工艺腔室，以使得工艺腔室内的温度符合清洗杂质的预设温度；延时第一预设时间后，对工艺腔室进行初步抽真空；循环执行快速清洗工艺腔室的流程；循环执行深度清洗工艺腔室的流程，其中，循环执行深度...

本申请公开了一种原子层沉积设备及方法。该原子层沉积设备包括：反应腔室，与第一管路、第二管路和第三管路相连接，分别经由所述第一管路、所述第二管路和所述第三管路通入第一前驱体、第一吹扫气体和第二前驱体，其中，在所述第一管路上包括第一阀，所述...

本发明提供一种上电极机构及半导体加工设备，其包括上盖和可升降的线圈盒，在线圈盒的底部设置有具有圆孔的吊装板，上盖位于圆孔中，并且还包括拆装机构，上盖通过该拆装机构与吊装板连接，拆装机构用于使线圈盒能够独立上升或者与上盖同步上升。本发明提...

本申请公开了一种进气栅组件及原子层沉积设备。该进气栅组件包括：第一进气栅，包括至少一个出气孔；第二进气栅，包括至少一个进气孔；以及空腔，所述空腔位于所述第一进气栅和所述第二进气栅之间，且所述空腔与所述至少一个出气孔和所述至少一个进气孔连...

本发明公开一种腔室屏蔽装置和半导体处理腔室，腔室屏蔽装置包括依次拼接的上屏蔽板、侧屏蔽板和下屏蔽板，上屏蔽板与侧屏蔽板通过第一导体电连接，侧屏蔽板和下屏蔽板通过导电组件电连接。该腔室屏蔽装置的上屏蔽板、侧屏蔽板和下屏蔽板的电位相等，能够...

本发明提供一种晶片温控系统、晶片温控方法及反应腔室，该晶片温控系统包括用于承载晶片的卡盘、设置在卡盘中的用于加热晶片的加热装置以及用于向晶片与卡盘之间的间隙输送热交换气体的输送装置，该输送装置包括输送管路，该输送管路用于将热交换气体输送...

本发明公开了一种更新显示实时数据的方法和更新显示实时数据的系统。所述方法包括：由数据订阅管理模块获取并响应上位机的数据订阅请求，所述数据订阅管理模块根据所述数据订阅请求生成数据订阅信息，并向下位机发送一次所述数据订阅信息；下位机根据所述...

本实用新型公开了一种晶圆传输系统和半导体处理设备。包括：传输平台；至少两级相互连接的传输腔室，均依次设置在所述传输平台上，各级所述传输腔室内均安装有第一传输机械手，并且，各级所述传输腔室的外侧壁均挂接有多个工艺腔室；至少一个第一开关结构...

本实用新型提供的匹配器升降装置，其借由驱动机构驱动匹配器上升或下降，以使匹配器能够与位于其上方的射频分接盒对接，或者与射频分接盒分离。这样，在安装匹配器时，无需一人托举匹配器，因此单人就可以完成匹配器的装卸，操作方便，在拆卸匹配器时，在...

本实用新型提供一种反应腔室部件结构，包括部件本体和氧化膜层，其中，部件本体采用5系铝合金材料制成；氧化膜层通过部件本体氧化形成。本实用新型还提供反应腔室。本实用新型可提高反应腔室部件的抗腐蚀性，从而可以提高反应腔室的使用寿命。

本实用新型提供的传感器调节装置及腔室，包括：底座；导轨，所述导轨水平设置，且固定在所述底座上；滑块，所述滑块与所述导轨连接，且能够沿所述导轨滑动，传感器与所述滑块连接；调节机构，用于驱动所述滑块沿所述导轨滑动，且在所述滑块到达预定位置时...

本发明公开了一种新型氧化铝原子层沉积装置及其沉积方法，在ALD反应中通过多次将腔室和管路抽真空，可有效清除前驱体和氧化剂在管路和腔室壁的残留，降低非预期反应的发生以及降低杂质污染，因而可提高薄膜的纯度，而且避免了复杂的气体处理系统；还通...

本公开提供了一种射频电源的功率传输方法，利用功率传输网络将所述射频电源的功率传输至反应腔室，以激励所述反应腔室内的工艺气体，其包括以下步骤：对所述功率传输网络进行第一调节；判断所述工艺气体是否点火成功；如果未点火成功，则继续进行所述第一...

本发明公开了一种真空规连接组件和半导体设备。所述真空规连接组件用于将真空规和反应腔室密闭连通，包括依次连接的连接管、收集件和开关阀，所述连接管用于连通所述反应腔室和所述收集件，并向所述收集件引入所述反应腔室内的气流，所述收集件用于收集所...

本发明公开了一种原子层沉积设备的气路系统及其控制方法，通过增加氢气尾气处理装置或添加氢气替换管路两种方式，在不需要水反应的循环步骤，改变氢气的流向或进行氢气替代，使水汽发生器不能生成水，从而可有效避免因两种前驱物在真空管路或真空泵相遇而...

本发明公开了一种预清洗腔室和半导体加工设备。预清洗腔室包括腔体、顶盖、承载件和金属板，顶盖设置在腔体顶端，用于密封腔体，承载件设置在腔体底部，用以承载晶片，金属板水平设置在承载件和顶盖之间，且金属板上设置有贯穿其厚度的多个第一通气孔，金...

本发明提供了一种原子层沉积系统，具有反应腔室，与反应腔室相连接的前驱体传输管路，第一惰性气体传输管路与反应腔室连接，用于向反应腔室传输惰性气体，以维持反应腔室压力平稳；第二惰性气体传输管路与反应腔室连接，用于向反应腔室输送惰性气体，对反...

本发明提供了一种原子层沉积反应系统，包括：前驱物源分别连接载气管路的一端和前驱物气体管路的一端，载气管路中的载气通过载气管路流经前驱物源后，携带前驱物并沿着前驱物气体管路流动；稀释气体管路的一端与反应腔室相连；前驱物气体管路的另一端连接...

本发明公开了一种用于ALD工艺的气体传输装置，在传输前驱体A的过程中，携带气体通过所述携带流量计A和三通脉冲阀A进入储存器A，并携带前驱体A经过供应管路A进入ALD反应腔室，携带气体通过所述携带流量计B、三通脉冲阀B、旁路B和供应管路B...

本发明公开了一种增强清洗效果的沉积系统及方法，沉积系统包括：反应腔室，内设有基座，基座上方设有喷淋头，喷淋头周围通过绝缘环与腔室上盖相连，喷淋头上方覆盖有绝缘板，基座周围设有约束环，约束环以内、喷淋头和基座之间空间区域为反应区域，约束环...