物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述...

一种确定对浸没式光刻设备的投影系统的变迹的测量结果的光电探测器贡献的方法，所述方法包括：提供辐射束，用所述辐射束照射物体，使用投影系统将所述物体的图像通过液体层进行投影并投影到光电探测器上，在第一液体层厚度执行横跨投影系统的光瞳平面的辐...

为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬...

一种方法，包括获得由器件制造过程产生的衬底上的多个图案的特征验证值；使用非概率模型获得特征计算值；基于验证值和计算值获得非概率模型的残差值；以及基于残差值获得残差分布的属性。本文还公开了计算由器件制造过程产生的衬底上的缺陷的概率的方法，...

本发明涉及一种用于显露由层覆盖的衬底上的传感器目标的方法，所述方法包括以下步骤：确定所述衬底上的具有良率目标部分的第一区域的部位和所述衬底上的具有非良率目标部分的第二区域的部位；至少部分去除覆盖所述第二区域中的特征的所述层的特征区以显露...

在一种确定周期性结构的边缘粗糙度参数的方法中，在检测设备中该周期性结构被照射(602)。照射辐射束可包括具有在1纳米至100纳米的范围内的波长的辐射。从辐射束获得散射信号(604)，该辐射束从该周期性结构散射。该散射信号包括散射强度信号...

一种系统，包括：衬底支撑件，所述衬底支撑件配置成保持衬底；导电或半导电元件，所述导电或半导电元件与衬底支撑件接触并覆盖衬底支撑件的至少一部分；和充电装置，所述充电装置配置成相对于衬底支撑件的被导电或半导电元件覆盖的部分向所述导电或半导电...

本发明披露了不依赖于子分辨率特征的聚焦量测图案和方法。可以通过测量印制图案(T)、或印制图案的互补对(TN/TM)的不对称性来测量聚焦。可以通过散射测量来测量不对称性。可以使用EUV辐射或DUV辐射来印制图案。第一类型的聚焦量测图案包括...

本发明涉及一种表膜组件，所述表膜组件包括表膜框架，所述表膜框架限定表膜所附接到的表面。所述表膜组件包括一个或更多个三维膨胀结构，所述三维膨胀结构允许所述表膜在应力下膨胀。本发明还涉及一种用于图案形成装置的表膜组件，包括用于使得表膜朝向图...

一种确定衬底变形的方法，具有以下步骤：(a)从多个衬底的测量结果获得(402)与标记位置相关联的第一测量数据(X

光刻过程的重叠误差是使用多个目标结构测量的，每个目标结构具有已知的重叠偏差。检测系统获取表示在多个不同的获取条件(λ1、λ2)下由所述目标结构衍射的辐射的选定部分的多个图像(740)。将所述被获取的图像的像素值组合(748)以获得一个或...

一种辐射源(SO)，包括：燃料供给装置(3)，被配置为供给燃料；激发装置(1)，被配置为将燃料激发成等离子体(7)；收集器(5)，被配置为收集由等离子体发射的辐射并且将该辐射引导至束出口；碎片缓解系统(20)，被配置为收集由等离子生成的...

一种确定边缘粗糙度参数的方法，包括以下步骤：(1010)控制辐射系统以在用于接收衬底的测量位置处提供辐射斑；(1020)接收来自传感器的测量信号，所述传感器用于当量测目标被所述辐射斑照射时测量在所述测量位置处被所述量测目标衍射的禁用衍射...

一种器件制造方法，所述方法包括：获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列应用滤波器以获...

本公开的实施例涉及极紫外光源。生成初始辐射脉冲；提取初始辐射脉冲的一段以形成修改辐射脉冲，修改辐射脉冲包括第一部分和第二部分，第一部分在时间上连接到第二部分，并且第一部分的最大能量小于第二部分的最大能量；修改辐射脉冲的第一部分与靶材相互...

一种用于极紫外(EUV)光源的供应系统，包括：装置，被配置为被流体地耦合到贮存器，该贮存器被配置为包含在等离子体状态时产生EUV光的目标材料，该装置包括两个或多个目标形成单元，目标形成单元中的每个目标形成单元包括：喷嘴结构，被配置为从贮...

本发明涉及一种传感器(SE)，包括：‑辐射源(LS)，朝向传感器目标(GR)发射具有相干长度的辐射(LI)；和‑偏振分束器(PBS)，将由所述传感器目标衍射的辐射分割成具有第一偏振态的辐射和具有第二偏振态的辐射，其中，所述第一偏振态与所...

一种系统，包括：形貌测量系统，配置成确定衬底上的多个部位中的每一个部位的各自的高度；和处理器，配置成：基于确定的多个部位的高度确定所述衬底的高度图；和通过对比所述高度图和参考高度图确定所述衬底的至少一个对准参数，其中所述参考高度图包括或...

一种在卸载过程期间从支撑台卸载物体的方法，所述物体在曝光过程期间通过以下方式被夹持到所述支撑台：向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力；以及向物体的周缘部分下方的支撑台的周缘区域施加第二压力，其中在夹持期间控制所述第...

公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根...