【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】量测设备和衬底平台输送装置系统
专利技术的第一方面涉及一种对准测量设备以及一种用于测量衬底上的对准标记的位置的方法。本专利技术的第二方面涉及一种光刻设备和衬底平台输送装置系统。本专利技术的第三方面涉及一种量测设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所期望的-图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可例如用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于集成电路的单层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次性地曝光到所述目标部分上来照射每个目标部分；在扫描器中，通过利用辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描衬底，来照射每个...
【技术保护点】
1.一种量测设备，所述量测设备包括：/n第一测量设备；/n第二测量设备；/n第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；/n第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；/n第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和/n第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，/n其中，从第一前开式晶片盒、第二前开式晶片盒或第三前开式晶片盒装载所述第一衬底，/n其中，从所述第一前开式晶片盒、所述第二前开式晶片盒或所述第三前开式晶片盒装载所述第二衬底，/n其中，...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170714 EP 17181375.1;20180503 EP 18170698.71.一种量测设备，所述量测设备包括：
第一测量设备；
第二测量设备；
第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；
第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；
第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和
第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，
其中，从第一前开式晶片盒、第二前开式晶片盒或第三前开式晶片盒装载所述第一衬底，
其中，从所述第一前开式晶片盒、所述第二前开式晶片盒或所述第三前开式晶片盒装载所述第二衬底，
其中，所述第一测量设备是包括第一对准传感器系统的对准测量设备，所述第一对准传感器系统用于测量第一数量的对准标记在由所述第一衬底台和/或所述第二衬底台支撑的衬底上的位置，以及
其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。
2.根据权利要求1所述的量测设备，包括衬底平台定位系统，以在移动平面区域中移动所述第一衬底平台和所述第二衬底台平中的每一个，
其中，在所述第一衬底平台与第一线缆连接件支撑件之间设置第一线缆连接件，并且在所述第二衬底平台与第二线缆连接件支撑件之间设置第二线缆连接件，
其中，在所述移动平面区域的第一侧处设置第一线性引导件以引导所述第一线缆连接件支撑件，并且其中，在所述移动平面区域的与所述第一侧相反的第二侧处设置第二线性引导件以引导所述第二线缆连接件支撑件。
3.根据权利要求2所述的量测设备，其中，所述第一线性引导件和所述第二线性引导件在相同的连接线缆引导方向上延伸。
4.根据权利要求2或3所述的量测设备，其中，所述第一线性引导件和所述第二线性引导件是线性磁性支撑引导件。
5.根据权利要求2至4中的任一项所述的量测设备，其中，所述第一衬底平台和所述第二衬底平台...
【专利技术属性】
技术研发人员：F·G·C·比基恩，金原淳一，S·C·J·A·凯吉，T·A·马塔尔，P·F·范吉尔斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL
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