提供了用于带电粒子检测的方法和装置。检测系统包括信号处理电路(502)，该信号处理电路(502)被配置为基于从多个电子感测元件(244)接收的电子强度数据来生成一组强度梯度。检测系统进一步包括束斑处理模块(506)，该束斑处理模块(50...

一种表膜框架(17)，包括：第一部分(40)；和多个第二部分(42)。所述第一部分用于连接至表膜(19)的边界(19a)。所述第一部分包括中空且大致矩形的本体。所述多个第二部分用于连接至图案形成装置(MA)。所述第一部分和所述多个第二部...

配置用于插补第二参数的插补器模型的设备和方法。所述方法包括将包括第一参数的值的第一数据集输入至所述插补器模型，并且评估所述插补器模型以获得包括所述第二参数的经插补值的第二数据集。所述方法还包括：获得包括第三参数的测量值的第三数据集，其中...

提供了一种检查系统、光刻设备和检查方法。照射检查系统包括照射系统、检测系统和处理电路。照射系统生成宽带束，并且用照射宽带照射束照射物体的表面。照射宽带束具有连续光谱范围。照射检测系统接收在照射表面处散射的辐射和由照射表面附近的结构散射的...

所公开的一些实施例包括电子检测器，电子检测器包括：具有第一部分和第二部分的第一半导体层；第二半导体层；第三半导体层；由第一半导体层、第二半导体层和第三半导体层形成的PIN区；被配置为在第一半导体层和第三半导体层之间施加反向偏置的电源；以...

公开了使用带电粒子束装置对样品进行成像的系统和方法。带电粒子束装置可以包括复合物镜，该复合物镜包括磁透镜和静电透镜，该磁透镜包括空腔，以及位于紧邻磁透镜的极片的上游并且在磁透镜的空腔内部的电子检测器。在一些实施例中，偏转器可以位于电子检...

一种检查工具包括：成像系统，被配置为对半导体衬底的一部分进行成像；图像分析系统，被配置为：从所述成像系统获得所述半导体衬底上的结构的图像；将所述结构的图像编码到潜在空间中，从而形成第一编码；从所述编码中减去表示所述图像中伪影的伪影向量，...

一种用于增强带电粒子束检查系统中的检查图像的改进方法和设备。一种用于增强检查图像的改进方法包括：获取在不同着落能量下获得的样品的多个测试图像；确定多个测试图像的失真水平；基于失真水平，确定在检查期间使样品能够处于中性电荷条件的着落能量水...

用于确定编码器和解码器网络的优化权重的方法，方法包括：针对多个测试权重中的每个测试权重，利用编码器和解码器使用测试权重进行操作来执行以下步骤：(a)使用编码器，将参考图像和畸变图像编码到隐空间中，以形成编码；(b)使用解码器对编码进行解...

提供了用于激光束沿公共光束路径进行双通道放大的系统、设备和方法。示例方法可以包括生成第一激光束和第二激光束。随后，示例方法可以包括沿公共光束路径，执行第一激光束和第二激光束的双通道放大。在一些方面，第一激光束可以包括第一波长，第二激光束...

描述了一种用于确定针对至少一个衬底的检查策略的方法，所述方法包括：使用预测模型，基于与所述衬底相关联的预处理数据以及与所述至少一个衬底相关联的任何可用的后处理数据中的一者或两者来量化与顺应品质要求的预测相关的顺应性指标的顺应性指标值；和...

一种组件，包括非线性元件，所述非线性元件被配置为从耦合至非线性元件中的输入辐射产生宽带辐射。所述组件还包括位于非线性元件下游的光学元件，所述光学元件被配置为将宽带辐射的一部分反射回非线性元件中。所述非线性元件通常是非线性光纤，例如空芯光...

本文描述了用于使用具有与MRC相对应的几何性质的检测器来确定与掩模特征相关联的所述掩模规则检查违规(MRC)的方法和系统。所述检测器(例如椭圆形的)被配置为包括用于检测曲率违规的弯曲部分、封闭区域(例如全封闭区域或者具有开口的部分封闭区...

公开了一种用于生成极紫外辐射的源和方法，其中被引入源或者从源排出的气体的流动特点至少部分地根据普遍的源操作模式而变化，诸如源是处于微滴接通操作模式还是微滴关闭操作模式。作模式。作模式。

一种用于光学放大器系统的气体混合物控制系统，包括：输入端，被配置为流体连接到该光学放大器系统以接收气体混合物；输出端，被配置为流体连接到该光学放大器系统，以向该光学放大器系统提供经修饰的气体混合物；以及该输入端和该输出端之间的捕集结构。...

公开了用于便于检查晶片的改进设备和方法。用于便于检查晶片的改进方法包括从与晶片的布局设计相关联的参考图像数据中标识多个重复图案。方法还包括基于参考图像数据的第一特性的变化来确定所标识的多个重复图案中的一个重复图案的图案特征。方法还包括使...

一种带电粒子工具，包括：聚光透镜阵列，其被配置为沿着相应的波束路径将带电粒子的波束分离成第一多个子波束，并将每个子波束聚焦到相应的中间焦点；物镜的阵列，每个物镜被配置为将多个带电粒子波束中的一个带电粒子波束投射到样品上；校正器，其包括细...

本发明涉及一种用于制备衬底以供光刻制造方法的曝光过程使用的方法，所述方法包括：施加跨越整个所述衬底的不同的局部温度以便在所述曝光过程之前引起跨越整个所述衬底的不同的热膨胀。此方法用于补偿当所述衬底被定位在光刻设备的衬底台上时所引起的所述...

公开了一种用于在电子投射系统中操纵电子射束的改进电子射束操纵器及其制造方法。电子射束操纵器包括本体，该本体具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；以及互连表面，该互连表面在第一表面与第二表面之间延伸并且形成穿过本体的孔径。本体包括电极，...

本公开涉及用于操纵带电粒子束的装置和方法。在一个布置中，提供了孔径组件，孔径组件包括第一孔径主体和第二孔径主体。第一孔径主体中的孔径与第二孔径主体中的孔径对准。对准允许带电粒子束穿过孔径组件。第一孔径主体包括第一电极系统，第一电极系统用...