提供了一种衬底支撑系统，包括：支撑部件，支撑部件被配置为将衬底的底表面支撑在支撑平面上；可移动部件，可移动部件在可移动部件的顶端位于支撑平面下方的缩回位置与可移动部件的顶端位于支撑平面上方的延伸位置之间可移动，使得顶端将衬底的底表面支撑...

用于从设计布局的多个图案中选择关键图案的子集的设备、系统和方法。在一些实施例中，所述方法包括获取基于表示待形成于晶片的至少一部分上的特征的所述多个图案的衍射阶数据，所述衍射阶数据包括与所述多个图案相对应的多个峰。所述方法也包括根据一个或...

本文描述了用于训练机器学习模型来确定衬底上印刷的图案的多个特征的误差贡献源的方法。方法包括：获取具有多个数据集的训练数据，其中每个数据集具有误差贡献值，误差贡献值表示来自多个源中的一个的对特征的误差贡献，并且其中每个数据集与实际分类相关...

一种用于激光器的偏振控制系统，包括被配置成与入射电磁辐射相互作用的光学元件。所述偏振控制系统也包括被配置成使所述光学元件移动以调整所述电磁辐射的偏振的致动器。所述致动器被配置成使所述光学元件绕第一轴线旋转以调整所述电磁辐射的偏振。所述致...

一种EUV辐射源包括：燃料发射器，所述燃料发射器被配置为产生燃料滴；激光系统，所述激光系统被配置为照射位于等离子体形成区处的燃料滴，所述激光系统包括：第一激光器，所述第一激光器被配置为以第一辐射束的形式产生具有第一波长的辐射；第二激光器...

一种用于增强带电粒子束检查系统中的检查图像的改进方法和装置。一种用于增强检查图像的改进方法，包括：获取分别以第一焦点和第二焦点拍摄的样品的多个堆叠层的第一图像和第二图像；将第一图像的第一片段与多个堆叠层中的第一层相关联；以及将第二图像的...

一种装置包括：机械绝缘设备，该机械绝缘设备具有柔性波纹管(315)，该柔性波纹管(315)在第一凸缘和第二凸缘(325、330)之间延伸，该柔性波纹管(315)限定波纹管通道，该波纹管通道沿着轴向方向在第一凸缘的开口和第二凸缘的开口之间...

披露了一种衬底和相关联的图案形成装置。所述衬底包括适于光刻过程的量测的至少一个目标布置，所述目标布置包括至少一对相似的目标区，所述至少一对相似的目标区被布置成使得所述目标布置是中心对称的、或至少用于在单个方向上的测量的目标区一起是中心对...

一种诊断机器或设备的未观察的操作参数的设备和方法。方法包括获得机器或设备的参数对之间的多个因果关系，其中每对包括原因参数和效果参数。针对参数中的至少一些，基于所确定的参数之间的因果关系，将参数分解为多个信息分量被确定。参数的分解包括协同...

本发明提供了一种确定产品特征在衬底上的位置的方法，该方法包括：获得衬底上的一个或多个产品特征的多个位置测量结果，其中该测量结果被参考到用于在测量之间放置衬底的定位系统，或平行于衬底的表面的平面；并且，基于位置测量结果确定衬底的失真分量。...

提供用于产生水平数据的系统、设备和方法。示例方法可以包括接收衬底的第一区的第一水平数据。所述第一区可以包括具有第一表面水平的第一子区，和具有第二表面水平的第二子区。所述示例方法还可以包括基于所述第一水平数据来产生测量控制图数据。所述示例...

描述了用于确定衬底上的图案的一部分的一个或更多个特性指标的系统和方法。接收用于所述衬底上的图案的图案信息。所述衬底上的图案具有第一部分和第二部分。所述图案的所述第一部分(404A、406B)基于所述图案信息，例如利用几何区块掩模(408...

披露了一种用于定位光学元件的致动器单元，包括第一磁阻致动器，所述第一磁阻致动器包括第一定子部分和第一动子部分，所述第一定子部分和第一动子部分沿第一方向由一间隙分离开。所述第一动子部分被构造并且布置成连接到所述光学元件并且用于移动所述光学...

蚀刻偏差是基于衬底图案中的轮廓的曲率来确定的。所述蚀刻偏差被配置成被用于提高半导体图案化过程相对于先前的图案化过程的准确度。在一些实施例中，所述衬底图案的表示被接收，所述表示包括所述衬底图案中的所述轮廓。所述衬底图案的所述轮廓的曲率被确...

本文中描述了用于确定目标轮廓的圆化轮廓、或用于掩模设计的其它的光刻有关轮廓的方法和系统。所述方法包括将轮廓表示转换成(i)在第一维度(例如，x)中的第一组轮廓点位置和(ii)在第二维度(例如，y)中的第二组轮廓点位置。基于所述第一组轮廓...

本发明涉及一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(WT)。衬底支撑件包括主体(MB)、夹紧装置(VC；VSO)和抖动装置(DD)。主体包括用于支撑衬底(W)的支撑表面(S)。夹紧装置被布置为提供夹紧力以将衬底夹紧在支撑表面上。抖动装置被配置...

一种装置包括被定位在第一层中、被配置为影响带电粒子束的第一带电粒子束操纵器和被定位在第二层中、被配置为影响带电粒子束的第二带电粒子束操纵器。第一带电粒子束操纵器和第二带电粒子束操纵器各自可以包括具有第一组相对电极和第二组相对电极的多个电...

检测器包括：感测元件的集合；第一区段电路系统，其将感测元件的第一集合通信地耦合到第一信号处理电路系统的输入端；第二区段电路系统，其将感测元件的第二集合通信地耦合到第二信号处理电路系统的输入端；以及互连电路，其将该第一信号处理电路系统的输...

本发明提供一种用于校准光学测量系统的方法，所述光学测量系统可以是外差干涉仪系统，其中，第一光学轴线和第二光学轴线具有不同的光学路径长度，所述方法包括：使用第一测量束测量沿着所述第一光学轴线的第一测量值；使用第二测量束测量沿着所述第二光学...

一种用于测量束的系统。该系统包括：测量装置，被配置成测量束，并且基于经测量的束确定信号；以及流体供应装置，被配置成将流体以流体流提供到束或围绕束。该系统被配置成计算信号的噪声，并且调节流体流的流体的参数以减少所计算的噪声。少所计算的噪声...