确定用于光刻相关图案的圆化轮廓制造技术

本文中描述了用于确定目标轮廓的圆化轮廓、或用于掩模设计的其它的光刻有关轮廓的方法和系统。所述方法包括将轮廓表示转换成(i)在第一维度(例如，x)中的第一组轮廓点位置和(ii)在第二维度(例如，y)中的第二组轮廓点位置。基于所述第一组轮廓点位置和所述第二组轮廓点位置来确定信号函数，所述信号函数指示所述轮廓表示的不同区段。基于第一滤波函数和所述信号函数来更新所述第一组轮廓点位置，并且基于所述第二滤波函数和所述信号函数来更新所述第二组轮廓点位置。基于更新后的轮廓点位置，产生所述轮廓表示的圆化轮廓。产生所述轮廓表示的圆化轮廓。产生所述轮廓表示的圆化轮廓。

【技术实现步骤摘要】
确定用于光刻相关图案的圆化轮廓


[0001]本文中的描述涉及确定用于与光刻有关的任何图案的圆化轮廓的方法或系统，所述任何图案包括在半导体制造中待采用的掩模图案。

技术介绍

[0002]光刻投影设备可以被用于例如集成电路(IC)的制造中。在这样的情况下，图案形成装置(例如，掩模)可以包含或提供与IC的单个层相对应的电路图案(“设计布局”)，并且这种电路图案可以通过诸如通过图案形成装置上的电路图案来辐照所述目标部分之类的方法而被转印到已经涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或更多个管芯)上。通常，单个衬底包括多个相邻的目标部分，所述电路图案被光刻投影设备连续地、以一次一个目标部分的方式被转印到所述多个相邻的目标部分上。在一种类型的光刻投影设备中，整个图案形成装置上的所述电路图案被一次转印到一个目标部分上；这样的设备通常称作为步进器。在一种替代的设备(通常称为步进扫描设备)中，投影束沿给定的参考方向(“扫描”方向)在图案形成装置上扫描，同时平行或反向平行于所述参考方向同步地移动衬底。图案形成装置上的电路本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种被配置成用于产生光刻掩模图案的圆化轮廓的非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质包括存储在其中的指令，所述指令在由一个或更多个处理器执行时引起包括以下各项的操作：将掩模图案的轮廓表示转换成(i)在第一维度中的第一组轮廓点位置和(ii)在不同于所述第一维度的第二维度中的第二组轮廓点位置；基于所述第一组轮廓点位置和所述第二组轮廓点位置来确定信号函数，所述信号函数指示所述轮廓表示的不同区段；(i)基于第一滤波函数和所述信号函数来更新所述第一组轮廓点位置，以及(ii)基于第二滤波函数和所述信号函数来更新所述第二组轮廓点位置；以及基于更新后的第一组轮廓点位置和更新后的第二组轮廓点位置来产生所述掩模图案的所述轮廓表示的圆化轮廓。2.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，更新包括：(i)通过将第一滤波函数应用至所述信号函数来产生与所述第一组轮廓点位置相对应的第一组权重，以及(ii)通过将第二滤波器应用至所述信号函数来产生与所述第二组轮廓点位置相对应的第二组权重；以及(i)基于所述第一滤波函数和所述第一组权重来更新所述第一组轮廓点位置，以及(ii)基于所述第二滤波函数和所述第二组权重来更新所述第二组轮廓点位置。3.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，转换所述轮廓表示包括：以特定间隔对所述轮廓表示上的多个点取样；将所述多个点转换成在所述第一维度中的所述第一组轮廓点位置；以及将所述多个点转换成在所述第二维度中的所述第二组轮廓点位置。4.根据权利要求3所述的非暂时性计算机可读介质，其中，转换所述轮廓表示还包括：基于在所述第一维度中的所述第一组轮廓点位置来确定第一梯度；以及基于在所述第二维度中的所述第二组轮廓点位置来确定第二梯度。5.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，确定所述信号函数包括：计算所述第一组轮廓点位置中的两个连续的点之间的第一差值与所述第二组轮廓点位置中的两个连续的点之间的第二差值的乘积。6.根据权利要求5所述的非暂时性计算机可读介质，其中，确定所述信号函数包括：确定具有大于零的值的第一函数，所述第一函数表征所述轮廓表示中的第一类型的拐角；和确定具有小于零的值的第二函数，所述第二函数表征所述轮廓表示中的第二类型的拐角。7.根据权利要求6所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所述第一函数指示所述轮廓表示的内拐角，并且第二函数指示所述轮廓表示内的外拐角，所述内拐角或所述外拐角表征所述轮廓表示内的拐角定向。8.根据权利要求7所述的非暂时性计算机可读介质，其中，产生所述第一组权重和所述第二组权重包括：在所述第一维度中产生与所述内拐角相对应的一子组权重和与所述外拐角相对应的另一子组权重；以及

【专利技术属性】
技术研发人员：吕稳，M，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：