一种方法，方法包括：获得被配置用于基于输入过程数据来预测制造过程的过程度量的一个或多个模型；以及基于将新的过程数据输入到一个或多个模型，使用强化学习框架来评估一个或多个模型和/或一个或多个模型的模型配置，并且基于输入新的过程数据来确定在...

公开了控制图案化过程的方法。在一种布置中，获得从对穿过衬底上的结构的目标层的蚀刻路径中的倾斜的测量得到的倾斜数据。该倾斜表示蚀刻路径的方向与目标层的平面的垂直线偏离。倾斜数据被用于控制用于在另外的层中形成图案的图案化过程。图案的图案化过...

描述了一种用于将装置或装置的组件装配到地板或底板上的接口板，该接口板包括：

一种用于将带电粒子多射束投射到样品的带电粒子设备，该设备包括：被配置为生成朝向样品的初级束的初级柱、以及用于对样品的带电粒子泛射的泛射柱。泛射柱包括：带电粒子源(301)，被配置为沿着束路径发射带电粒子束；源透镜(310)，被布置在带电...

本文公开了一种包括多个衬底的衬底堆叠，其中：衬底堆叠中的每个衬底包括至少一个对准开口组；在每个衬底中的至少一个对准开口组被对准，以用于使光束穿过每个衬底中对应的对准开口；并且每个衬底包括至少一个对准开口，该至少一个对准开口具有比其他衬底...

一种用于测量第一目标的性质与第二目标的性质之间的差异的系统，系统包括第一构件和第二构件，其中第一构件包括第一图案，并且第一构件的旋转速度被配置为基于第一目标的性质；并且第二构件包括第二图案，其中，第二构件的旋转速度被配置为基于第二目标的...

公开了使用电子束装置观察样品的系统和方法。该电子束装置包括：电子源，其被配置为沿着主光轴(404)产生初级电子束；以及第一电子探测器(420)，其具有基本上平行于主光轴的第一探测层(421)，并且被配置为探测从样品上的探测斑点产生的多个...

对由多个衬底组成的半导体衬底集合执行光刻工艺。作为工艺的一部分，衬底集合被划分为多个子集。该划分可以基于与衬底上的第一层相关联的特性集合。然后，针对衬底集合的至少一个衬底确定性能参数的指印。在一些情况下，针对每个衬底子集中的每个衬底确定...

公开了一种确定采样方案的方法。该方法包括获得并行传感器描述，基于所述并行传感器描述和潜在量测位置来识别多个候选获取配置。在评估度量方面评估每个所述候选获取配置，并且基于所述评估来选择候选获取配置。将所选择的获取配置的相应量测位置添加到采...

本文中描述了一种用于确定对图案化过程的校正的方法。该方法包括：获得图案化过程的多个品质(例如多个参数映射，或者一个或更多个校正)，所述多个品质是从量测数据以及在图案化过程中使用的设备的数据导出的；由硬件计算机系统从所述多个品质中选择代表...

一种静电卡盘控制系统被配置为在晶片的检查过程期间利用，该静电卡盘控制系统包括载物台的静电卡盘，该载物台被配置为在检查过程期间被解除对接，其中静电卡盘包括多个部件，该多个部件被配置为在检查过程期间影响晶片与静电卡盘之间的相互作用；第一传感...

一种带电粒子评估工具包括多个射束列。每个射束列包括带电粒子射束源(201)，被配置为发射带电粒子；多个会聚透镜(231)，被配置为将从带电粒子射束源发射的带电粒子(211、212、213)形成为多个带电粒子射束；会聚透镜被配置为将多个带...

提供了一种使用接地组件对掩模(50)进行接地的系统。该系统的一些实施例包括接地组件，该接地组件包括基部和从基部突出的延伸部，该延伸部包括被配置为接触掩模的导电层(56)的导电接脚(52)。该系统的一些实施例包括多个导电接脚，该多个导电接...

一种被配置成支撑物体的物体保持器，所述物体保持器包括：芯体，所述芯体包括多个突节，所述多个突节具有位于支撑平面中以用于支撑所述物体的远端；和静电片，所述静电片位于所述突节之间，所述静电片包括被夹在介电层之间的电极；其中，所述静电片通过具...

公开了一种用于生成射束的设备、系统和方法，该射束用于检查被定位在带电粒子束系统中的工作台上的晶片。一些实施例中，控制器包括被配置为执行以下操作的电路系统：通过区域的类型对沿着晶片的条带的多个区域进行分类，该条带大于射束的视场，其中多个区...

公开了一种用于在带电粒子束检查系统中调整样品高度的改进的调平传感器和方法。一种改进的调平传感器包括：光源，被配置为将第一图案投射到样品上；以及探测器，被配置为在第一图案被投射到样品上之后捕获经投射图案的图像。第一图案可以包括不规则性，以...

本文公开了一种孔径体(500)，用于使沿着包括轴线的束路径传播的带电粒子束的一部分通过，所述孔径体包括：面向上束的表面(510)；腔室部分(511)，包括上束端、下束端和上束板(509)，其中所述上束板从所述上束端径向地向内延伸，并且所...

用于确定在衬底中或衬底上制作的结构的、针对漂移误差被补偿的参数的方法和设备。所述方法包括：在多个时间时利用电磁辐射照射所述结构的至少一部分，所述结构的所述至少一部分处于第一定向；在所述多个时间时感测所述结构的所述至少一部分的多个平均反射...

披露了用于形成材料的经图案化的层的方法和设备。在一个布置中，提供呈气态形式的沉积过程材料。通过引起气态沉积过程材料的冷凝或沉积，在衬底上形成所述沉积过程材料的层。照射沉积过程材料的所述层的选定部分以对所述选定部分中的所述沉积过程材料进行...

本文中的实施例描述用于在光刻设备中的动态气锁(DGL)隔膜和光瞳琢面反射镜的破裂检测和寿命终止监测的方法、装置和系统。一种用于检测在光刻设备中的动态气锁隔膜的破裂的方法包括：使用辐射源用测量束照射所述动态气锁隔膜，其中，所述动态气锁隔膜...