公开了一种用于控制制造半导体器件的过程的方法，所述方法包括：获得与第一光刻设备相关联的第一控制栅格，第一光刻设备被用于对第一衬底进行图案化的第一图案化过程；获得与第二光刻设备相关联的第二控制栅格，第二光刻设备被用于对第二衬底进行图案化的...

本公开涉及用于预测器件制造工艺的良率的方法。一种用于预测经受工艺的衬底的电特性的方法和相关联的计算机程序。该方法包括：基于电计量数据和包括至少一个参数的测量的工艺计量数据的分析，确定电特性对工艺特性的灵敏度，电计量数据包括从先前处理的衬...

一种用于EUV光刻术的隔膜，所述隔膜具有不大于200nm的厚度并且包括叠层，所述叠层包括：至少一个硅层；和至少一个硅化合物层，由硅和选自由硼、磷、溴组成的组中的元素的化合物组成。组成。组成。

披露了一种调整与制造装置的至少一个特定配置有关的预测模型的方法。所述方法包括：获得函数，所述函数至少包括与所述至少一个特定配置相关联的第一预测模型参数的第一函数、以及所述第一预测模型参数和所述制造装置和/或有关装置的与除了所述至少一个特...

公开了用于多束检查工具的束阵列几何形状优化的装置、系统和方法。在一些实施例中，一种微机电系统(MEMS)可以包括第一行孔口；位于第一行孔口下方的第二行孔口；位于第二行孔口下方的第三行孔口；以及位于第三行孔口的下方的第四行孔口；其中第一行...

披露了一种推断与产品结构相关联的至少一个局部均匀性度量的值的方法，所述方法包括：获得包括强度图像的强度数据，所述强度图像与根据关于目标的测量结果获得的至少一个衍射阶相关联；根据所述强度图像获得至少一个强度分布；根据所述至少一个强度分布确...

一种用于控制激光束的控制模块，包括：光学调制器，其中，光学调制器被配置为调制激光束；控制器，所述控制器被配置为控制光学调制器，所述控制器被配置为启用和停用光学调制器，其中，控制器被进一步配置为将至少一个触发信号发送至光学调制器，从而从激...

本文的实施例描述了用于掩模版夹具阻尼器和隔离系统的方法、装置和系统，用于输送掩模版并且减少光刻设备和系统的掩模版输送器中的振动。一种掩模版输送器设备包括掩模版输送器臂、被配置为保持掩模版的掩模版基板以及被布置为将掩模版基板连接至掩模版输...

公开了用于在带电粒子束装置中实施带电粒子浸没的系统和方法。根据特定实施例，带电粒子束系统包括带电粒子源和控制器，控制器控制带电粒子束系统以第一模式和第二模式发射带电粒子束，在第一模式中束被散焦，而在第二模式中束被聚焦在样本的表面上。模式...

一种方法包括：获得用于训练设计图案(5000)的在空间上移位版本的光学邻近校正；和使用关于所述训练设计图案的在空间上移位版本的数据(5051；5053)以及基于用于所述训练设计图案的在空间上移位版本的光学邻近校正的数据(5041；504...

一种训练机器学习模型来生成特性图案的方法，该方法包括：获得与参考图像中的参考特征相关联的训练数据。训练数据包括(i)参考特征的部分的位置数据，以及(ii)存在值，该存在值指示参考特征的部分是否位于针对参考特征生成的参考辅助特征内。该方法...

描述了一种光刻设备，该设备包括：投影系统(PS；200)，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束(B)投影到衬底(W)上；所述投影系统包括多个光学元件(200.1、200.2)；传感器框架(220)；第一位置测量系统(240)，所述第一位...

本文公开了一种用于使带电粒子束聚焦的操纵器透镜装置，其中该操纵器透镜装置包括：第一结构(401)，通过该第一结构(401)形成开口，其中束路径基本上沿着开口的纵向轴线；具有包围开口的表面(406)的第二结构(402)；支撑件(403)，...

本文描述一种方法，所述方法包括：确定对象的状态的序列，所述状态是基于与所述对象相关联的处理信息来被确定的，其中所述状态的序列包括所述对象的一个或更多个未来状态；基于所述状态的序列内的所述状态和所述一个或更多个未来状态中的至少一个状态来确...

一种用于在光刻设备中支撑衬底的衬底支撑件，该衬底支撑件包括：第一支撑体，该第一支撑体被配置成支撑衬底；主本体，该主本体与第一支撑体分离，并且被配置成支撑第一支撑体，主本体包括热调节器，该热调节器被配置成热调节主本体和/或第一支撑体和/或...

本文公开了一种用于测试电子光学组件的电子光学组件测试系统，该系统包括:带电粒子源(601)，带电粒子源(601)被配置为发射带电粒子束；电子光学组件保持器(604)，电子光学组件保持器(604)被配置为保持待测试电子光学组件(401)，...

一种设备，包括：辐射接收设备，该辐射接收设备设置有开口，该辐射接收设备能够操作为通过开口接收来自辐射源的辐射；其中，该辐射接收设备包括偏转设备，该偏转设备被布置成改变颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹。颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹...

一种带电粒子评估工具包括：会聚透镜阵列，准直器、多个物镜和电源。会聚透镜阵列被配置为将带电粒子的射束划分成多个子射束、并且将多个子射束中的每个子射束聚焦到相应的中间焦点。准直器位于每个中间焦点处，并且被配置为偏转相应的子射束以使得该子射...

公开了带电粒子评估工具和检查方法。在一种布置中，会聚透镜阵列将带电粒子束划分为多个子束。每个子束被聚焦到相应的中间焦点。中间焦点下游的物镜将来自会聚透镜阵列的子束投射到样品上。每个子束的路径基本上是从每个会聚透镜到对应物镜的直线。会聚透...

公开了在带电粒子束设备的多种操作模式中提供探测斑的系统和方法。该方法可以包括：激活带电粒子源以生成初级带电粒子束，并且在带电粒子束设备的第一操作模式和第二操作模式之间进行选择。在泛射模式中，聚束透镜可以使通过孔径板中的孔径的初级带电粒子...