用于测试电子光学组件的工具制造技术

本文公开了一种用于测试电子光学组件的电子光学组件测试系统，该系统包括:带电粒子源(601)，带电粒子源(601)被配置为发射带电粒子束；电子光学组件保持器(604)，电子光学组件保持器(604)被配置为保持待测试电子光学组件(401)，使得当系统与由电子光学组件保持器保持的电子光学组件一起使用时，电子光学组件被束照射；以及子束检测器(607)，子束检测器(607)用于检测已经透射通过电子光学组件的带电粒子子束。电粒子子束。电粒子子束。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测试电子光学组件的工具
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求在2020年2月20日提交的EP申请20158588.2号的优先权，该申请以整体内容通过引用并入本文。


[0003]本文提供的实施例主要涉及用于测试电子光学组件的工具。电子光学组件被配置为诸如通过偏转和/或聚焦带电粒子束来操纵一个或多个带电粒子束。实施例提供了一种用于测试电子光学组件性能的工具。根据实施例的工具可以用于在电子光学组件制造期间的多个阶段和/或包括电子光学组件的电子光学装置制造完全完成后测试电子光学组件的性能。

技术介绍

[0004]在制造半导体集成电路(IC)芯片时，在制备工艺期间，由于例如光学效应和附带粒子的原因，衬底(即晶片)或掩模上会不可避免地发生不期望的图案缺陷，从而降低良品率。因此，监控不期望图案缺陷的程度是IC芯片制造中的重要过程。更一般地，对衬底或其它物体/材料的表面检查和/或测量是其制造期间和/或之后的重要过程。
[0005]具有带电粒子束的图案检查工具已经用于检查物体，例如检测图案缺陷。这些工具通常使用电子显微镜技术，诸如扫描电子显微镜(SEM)。在SEM中，以相对高能量的初级电子束为目标，进行最终减速步骤，从而以相对低的着陆能量着陆在样本上。电子束在样本上聚焦为探测点。探测点处的材料结构和来自电子束的着陆电子之间的相互作用导致电子从表面发射，诸如次级电子、反向散射电子或俄歇电子。所生成的次级电子可以从样本的材料结构发射。通过在样本表面上扫描作为探测点的初级电子束，可以在样本的整个表面上发射次级电子。通过从样本表面收集这些发射的次级电子，图案检查工具可以获得代表样本表面的材料结构的特性的图像。
[0006]带电粒子束的另一应用是光刻。带电粒子束与衬底表面上的抗蚀剂层反应。通过控制带电粒子束向抗蚀剂层上被引导的位置，可以在抗蚀剂中形成期望图案。
[0007]带电粒子设备可以是用于生成、照射、投影和/或检测一个或多个带电粒子束的设备。在带电粒子设备内，提供一个或多个电子光学装置，用于操纵一个或多个带电粒子束。一种电子光学装置包括电子光学组件以及电子光学组件的必要支撑结构，诸如结构支撑件和到电子光学组件的电连接。电子光学组件包括用于操纵一个或多个带电粒子束的部件。

技术实现思路

[0008]本文提供的实施例公开了一种工具，该工具是用于测试电子光学组件的性能的系统。电子光学组件包括用于操纵带电粒子多束的部件。该工具可以用于测试电子光学组件和/或包括电子光学组件的电子光学装置的性能。包括电子光学组件的电子光学装置可以用于操纵带电粒子设备中的一个或多个带电粒子束。
[0009]根据本专利技术的第一方面，提供了一种用于测试电子光学组件的电子光学组件测试系统，该系统包括：带电粒子源，带电粒子源被配置为发射带电粒子束；电子光学组件保持器，电子光学组件保持器被配置为保持待测试电子光学组件，使得当系统与由电子光学组件保持器保持的电子光学组件一起使用时，电子光学组件被束照射；以及子束检测器，子束检测器用于检测已经透射通过电子光学组件的带电粒子子束。
[0010]根据本专利技术的第二方面，提供了一种电子光学组件测试方法，该方法包括:用至少一个带电粒子束照射电子光学组件，使得至少一个带电粒子束中的带电粒子以多个子束的形式透射通过电子光学组件；检测已经透射通过电子光学组件的带电粒子子束；以及根据检测到的子束确定电子光学组件的性能；其中，电子光学组件性能的确定的测试在将包括电子光学组件的电子光学装置用于SEM或光刻的带电粒子设备之前进行。
[0011]根据本专利技术的第三方面，提供了一种包括电子光学组件的电子光学装置的制造方法，该方法包括：根据第二方面的方法测试电子光学组件；以及根据测试确定构造包括电子光学组件的电子光学装置。
[0012]根据本专利技术的第四方面，提供了一种用于测试电子光学组件的电子光学组件测试系统，该系统包括:带电粒子源，带电粒子源被配置为发射带电粒子束；电子光学组件保持器，电子光学组件保持器被配置为保持电子光学组件，以通过使来自源的带电粒子束透射通过电子光学组件来测试电子光学组件；以及子束检测器，子束检测器被配置为检测从源透射通过由保持器保持的电子光学组件的带电粒子子束。
[0013]根据已知技术，只有当电子光学组件包含在电子光学装置中，电子光学装置安装在将要使用的带电粒子设备中时，才能确定电子光学组件的性能。因此，这种电子光学组件的测试发生在带电粒子设备中，无论是用于检查或光刻的电子束工具，还是工具(例如电子光学系统)的可操作模块。这种测试可能是昂贵的，因为这种电子光学装置的制造可以包括完全构造电子光学装置，电子光学装置可以包括电子光学组件和PCB，以及将电子光学装置安装在带电粒子设备中，使其可以被测试。这种带电粒子设备可以包括若干个此类电子光学装置，这些电子光学装置可以具有不同的设计。将每个电子光学装置安装在带电粒子设备中可能需要在带电粒子设备中准备真空，这是非常耗时的。另外，可能无法确定电子光学装置本身的性能。仅可以共同确定电子光学装置的性能和影响带电粒子设备中的带电粒子的其它装置的性能。
[0014]有利地，根据实施例的工具允许仅确定电子光学组件的性能。另外，可以在电子光学组件制造期间的多个阶段和/或在电子光学组件制造完全完成后确定电子光学组件的性能。因此，可以快速地确定关于电子光学组件性能的任何潜在问题。可以快速确定电子光学组件的故障，并且可以从电子光学装置生产过程中移除该组件。工具还可以用于确定包括该电子光学组件的电子光学装置的性能。
[0015]此外，在测试电子光学组件时，工具可以用带电粒子照射电子光学组件，该带电粒子的功率低于带电粒子设备用于检查(例如SEM)或光刻时所需的带电粒子功率。因此，根据实施例的工具能够比用于SEM或光刻的带电粒子设备更容易地安全使用。
[0016]通过以下结合附图的描述，本专利技术的其它优点将变得明显，其中，通过说明和示例的方式阐述了本专利技术的某些实施例。
附图说明
[0017]结合附图，从对示例性实施例的描述中，本公开的上述和其它方面将变得更加明显。
[0018]图1是示例性带电粒子束检查设备的示意图。
[0019]图2是作为图1的示例性带电粒子束检查设备的一部分的示例性多束设备的示意图。
[0020]图3是示出图1的示例性带电粒子束检查设备的源转换单元的示例性配置的示例性多束设备的示意图。
[0021]图4示出根据一个实施例的被测试示例性电子光学组件的一部分。
[0022]图5示出根据一个实施例的被测试示例性电子光学组件的一部分。
[0023]图6示出根据一个实施例的工具，该工具是用于测试诸如电子光学组件的样本的性能的系统。
[0024]图7A、7B和7C是根据一个实施例的可以包含在检测数据中或依赖于检测数据生成的图像的示例。
[0025]图8示出根据实施例的用于确定成像的大致圆形特征边缘上的多个点中每个点的位置的技术中的步本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于测试电子光学组件的电子光学组件测试系统，所述系统包括:带电粒子源，所述带电粒子源被配置为发射带电粒子束；电子光学组件保持器，所述电子光学组件保持器被配置为保持待测试电子光学组件，使得当所述系统与由所述电子光学组件保持器保持的电子光学组件一起使用时，所述电子光学组件被所述束照射；以及子束检测器，所述子束检测器用于检测已经透射通过所述电子光学组件的带电粒子子束。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述子束检测器包括：闪烁器，所述闪烁器被配置为根据入射在所述闪烁器上的对应的多个带电粒子子束，发射多个子光束；以及光子传感器，所述光子传感器被配置为检测与入射的每个带电粒子子束对应的每个子光束，其中所述系统还包括检测数据生成器，所述检测数据生成器被配置为根据入射在所述光子传感器上的子光束，生成检测数据。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述子束检测器被配置为：感测入射在所述子束检测器上的所述带电粒子子束；以及根据所述入射的带电粒子子束生成检测数据。4.根据权利要求2或3所述的系统，其中所述检测数据适于生成指示所述带电粒子子束的聚焦和/或偏转状态的一个或多个图像。5.根据前述任意一项权利要求所述的系统，还包括一个或多个计算设备，其中每个计算设备被配置为：确定所述电子光学组件的性能；和/或控制所述电子光学组件测试系统对所述电子光学组件的测试。6.根据前述任意一项权利要求所述的系统，其中所述电子光学组件被配置为同时，或单独地，操纵多个带电粒子束中的每个带电粒子束。7.根据权利要求6所述的系统，其中计算设备被配置为控制对所述电子光学组件的所述偏转和/或聚焦的测试。8.根据前述任意一项权利要求所述的系统，其中所述电子光学组件包括层堆叠；所述堆叠中的每个层包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：