运用多个程序的光学邻近校正方法和用于该方法的系统技术方案

本发明专利技术涉及一种运用多个程序的光学邻近校正方法和用于该方法的系统。标记层放置于设计布局的如下区域中，在这些区域中，图像斜率小于临界图像斜率或者周长与面积之比小于临界周长与面积。可以通过对其中误差均值和/或误差均方根(RMS)超过阈值的过程条件子集分组来生成多光学邻近校正(OPC)。用运用至少一个非标准抗蚀剂模型的严格OPC处理用标记层标记的区域，而用不及至少一个非标准抗蚀剂模型严格的标准OPC程序处理布局的未标记区域。此外，可以在布局剪辑之中比较边数和区域图像对比度以确定用于边数和区域图像对比度的阈值，这些阈值可以用来确定针对每个布局剪辑是否需要多OPC。

【技术实现步骤摘要】
运用多个程序的光学邻近校正方法和用于该方法的系统
本公开内容涉及一种用于光学邻近校正(OPC)的方法和用于实施该方法的系统，该方法运用基于多个过程模型的多个OPC程序。
技术介绍
运用OPC使在光刻过程中印刷受辐射光的波性质影响的光刻形状成为可能。OPC在待印刷的光刻形状包括亚光刻特征，即如下特征时特别有用，这些特征具有比最小可印刷孔、线或者间隔物更小的尺度。在本领域中已知的OPC方法通常运用对整个设计布局运用相同参数集合的单个OPC程序。在OPC程序中的参数集合例如包括片段和迭代数目。另外，在本领域中已知的OPC方法运用单个过程模型，该单个过程模型被应用于整个设计布局。单个过程模型包括单个抗蚀剂模型。因此，在本领域中已知的OPC方法无论设计布局内的各种图案的灵敏度如何都运用相同OPC程序。另外，由于抗蚀剂显影特性和横截面形状在与光刻剂量和聚焦深度的不同集合对应的不同过程条件中并不相同，所以运用单个抗蚀剂模型的单个过程模型不代表整个过程变化范围。
技术实现思路
标记层放置于设计布局的如下区域中，在这些区域中，图像斜率小于临界图像斜率或者周长与面积之比小于临界周长与面积之比。可以通过对其中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对设计布局执行光学邻近校正的方法，所述方法包括：从所述设计布局生成至少一个设计剪辑，其中所述至少一个设计剪辑中的每个设计剪辑包括所述设计布局的子集；向所述至少一个设计剪辑中的每个设计剪辑分配至少一个测量部位；针对在所述至少一个设计剪辑之中的每个选择的设计剪辑，确定所述选择的设计剪辑是否满足用于将所述选择的设计剪辑分类为包括至少一个复杂设计特征的预定标准；针对被标识为满足所述预定标准的每个选择的设计剪辑，用标记层标记满足所述预定标准的区域；以及用OPC程序对未用所述标记层标记的区域执行OPC，并且用与所述OPC程序不同的至少另一OPC程序对用所述标记层标记的区域执行OPC。

【技术特征摘要】
2012.05.18 US 13/474,7521.一种对设计布局执行光学邻近校正的方法，所述方法包括：从所述设计布局生成至少一个设计剪辑，其中所述至少一个设计剪辑中的每个设计剪辑包括所述设计布局的子集；向所述至少一个设计剪辑中的每个设计剪辑分配至少一个测量部位；针对在所述至少一个设计剪辑之中的每个选择的设计剪辑，确定所述选择的设计剪辑是否满足用于将所述选择的设计剪辑分类为包括至少一个复杂设计特征的预定标准，其中所述预定标准包括以下标准中的一个标准或者逻辑组合：所述选择的设计剪辑是否具有比预定义的临界周长与面积之比更大的周长与面积之比；以及所述选择的设计剪辑是否包括如下测量部位，在该测量部位处的区域图像斜率小于预定义的临界区域图像斜率；针对被标识为满足所述预定标准的每个选择的设计剪辑，用标记层标记满足所述预定标准的区域；以及用OPC程序对未用所述标记层标记的区域执行OPC，并且用与所述OPC程序不同的至少另一OPC程序对用所述标记层标记的区域执行OPC。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定标准包括所述选择的设计剪辑是否具有比预定义的临界周长与面积之比更大的周长与面积之比的逻辑组合。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定标准包括所述选择的设计剪辑是否包括如下测量部位的逻辑组合，在该测量部位处的区域图像斜率小于预定义的临界区域图像斜率。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定标准是所述选择的设计剪辑是否具有比预定义的临界周长与面积之比更大的周长与面积之比，或者所述预定标准是所述选择的设计剪辑是否包括如下测量部位，在该测量部位处的区域图像斜率小于预定义的临界区域图像斜率。5.根据权利要求1所述的方法，还包括：针对被标识为包括满足所述预定标准的至少一个测量部位的每个选择的设计剪辑，移动所述标记层以包括所述选择的设计剪辑内的满足所述预定标准的所有测量部位。6.根据权利要求1所述的方法，还包括：通过在光学模型预测值和与剂量和聚焦深度条件的多个组合对应的测量数据之间比较临界尺度来生成包括所述OPC程序和所述至少另一OPC程序的多个OPC程序。7.根据权利要求6所述的方法，还包括：从与标准剂量和聚焦深度条件对应的组合生成所述OPC程序；以及从与至少一个非标准剂量和聚焦深度条件对应的至少另一组合生成所述至少另一OPC程序。8.根据权利要求7所述的方法，还包括：针对所述多个组合中的每个组合生成在所述光学模型预测值与所述测量数据之间的误差均值和误差均方根(RMS)；标识所述多个组合的具有绝对值超过预定义的阈值误差均值绝对值的误差均值或者具有超过预定义的阈值误差RMS值的误差RMS的子集；以及将所述子集分类成具有用于所述误差均值和所述误差RMS的非重叠范围的类别。9.根据权利要求8所述的方法，还包括：生成用于所述类别中的每个类别的不同抗蚀剂模型；以及构造包括所述抗蚀剂模型中的一个抗蚀剂模型的所述至少另一OPC程序中的每个OPC程序。10.一种标识具有不同设计复杂度水平的区...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·巴雷，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：