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本发明涉及一种运用多个程序的光学邻近校正方法和用于该方法的系统。标记层放置于设计布局的如下区域中，在这些区域中，图像斜率小于临界图像斜率或者周长与面积之比小于临界周长与面积。可以通过对其中误差均值和/或误差均方根(RMS)超过阈值的过程条件...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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