半色调相移掩模坯料以及半色调相移掩模的制造方法技术

本发明专利技术涉及半色调相移掩模坯料以及半色调相移掩模的制造方法。本发明专利技术提供能够在确保由铬系材料构成的遮光膜所要求的光学特性和化学特性等各种特性的同时提高该遮光膜的干蚀刻速度的新技术。在透明衬底(1)上层叠有半色调相移膜(2)和遮光膜(3)。遮光膜(3)具有单层结构或多层结构，至少一层由含有锡的铬系材料形成。另外，半色调相移膜(2)由氮氧化硅钼构成。由含有锡的铬系材料构成的层能够在不使遮光性降低的情况下显著提高含氧的氯类干蚀刻时的蚀刻速度。因此，将图案转印到该遮光膜上时对抗蚀剂图案和硬掩模图案的负荷得到减轻，能够以高精度进行图案转印。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种半色调相移掩模坯料，其特征在于，在半色调相移膜上设置有单层结构或多层结构的遮光膜，所述遮光膜具备至少一层由铬系材料构成的层，所述由铬系材料构成的层中的至少一层由含有锡的铬系材料构成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：深谷创一，中川秀夫，笹本纮平，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：