一种具有绒面结构的AZO薄膜的制备方法技术

技术编号:9357711 阅读:130 留言:0更新日期:2013-11-21 01:06
本发明专利技术涉及一种具有绒面结构的AZO薄膜的制备方法,采用磁控溅射工艺,首先在玻璃基底上预制一层SiO2薄膜,接着再溅射一层呈岛状生长的锡膜将其覆盖,并进行等离子体刻蚀,得到具有类似岛状表面形貌的SiO2薄膜,接下来以其作为后续AZO薄膜(掺铝的氧化锌)溅射法生长的基底模板,使得薄膜能够模仿其表面形貌而生长,最终可直接形成表面具有一定绒度的AZO薄膜,免去常规工艺中的酸刻蚀制绒过程,降低了所需的初始薄膜厚度,以及生产制造成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有绒面结构的AZO薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:a、首先在玻璃基底上制备一层厚度为50~100nm的SiO2薄膜,并使其具有岛状的表面形貌,b、接着以岛状结构的SiO2薄膜为基底,采用磁控溅射工艺制备AZO薄膜,使其模仿基底SiO2薄膜的表面形貌生长,并控制膜厚为600~700nm,最终直接形成表面具有一定绒度的AZO薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:彭寿王芸马立云崔介东
申请(专利权)人:蚌埠玻璃工业设计研究院中国建材国际工程集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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