【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种产生用于从基片去除金属氧化物的等离子的方法，包括：提供通电电极组件，所述通电电极组件包括通电电极，第一介电层，以及第一金属丝网，其被布置在所述通电电极和所述第一介电层之间；提供被布置在所述通电电极组件对面的接地电极组件以形成在其中产生等离子的腔，所述第一介电层当所述等离子存在于所述腔中时防护所述第一金属丝网不受所述等离子影响，所述腔在一端具有出口以用于提供所述等离子来去除所述金属氧化物；向所述腔中引入至少一种惰性气体和至少一种处理气体；以及利用所述通电电极对所述腔施加rf场，以由所述至少一种惰性气体和所述至少一种处理气体产生所述等离子。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：衡石·亚历山大·尹，威廉·蒂，耶兹迪·多尔迪，安德鲁·D·贝利三世，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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