薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示器技术

技术编号:9277723 阅读:67 留言:0更新日期:2013-10-24 23:56
本发明专利技术公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示器,用以避免半导体有源层受到光照影响而导致薄膜晶体管产生漏电流的问题。所述薄膜晶体管包括源极和漏极、半导体有源层、栅极绝缘层和栅极,该薄膜晶体管还包括:位于源极与漏极之间的遮光板,所述遮光板将源极与漏极阻断,并且该遮光板位于半导体有源层的入射光侧,用于阻挡入射光对半导体有源层的照射。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄膜晶体管,包括源极和漏极、半导体有源层、栅极绝缘层和栅极,其特征在于,该薄膜晶体管还包括:位于源极与漏极之间的遮光板,所述遮光板将源极与漏极阻断,所述遮光板位于半导体有源层的入射光侧,阻挡入射光对半导体有源层的照射。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:阎长江蒋晓纬姜晓辉谢振宇陈旭
申请(专利权)人:北京京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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