用于晶片级磷光体沉积的系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于晶片级磷光体沉积的系统。一种用于在具有多个LED裸片的半导体晶片上进行磷光体沉积的方法包括以下操作：用选择的厚度的光刻胶材料覆盖半导体晶片；去除光刻胶材料的多个部分以暴露半导体晶片的多个部分，使得与多个LED裸片关联的电接触保持未暴露；并且在半导体晶片的暴露的多个部分上沉积磷光体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐涛，
申请(专利权)人：普瑞光电股份有限公司，
类型：
国别省市：