【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光刻胶清洗液，其包含：醇胺，四氢糠醇，以及苯并三氮唑和/或其衍生物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘兵，彭洪修，孙广胜，
申请(专利权)人：安集微电子上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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