一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物制造技术

本发明专利技术公开了一种支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体的树脂应用于光刻胶，属于紫外光固化领域。该支化型光敏树脂主要是以巯基链转移剂、苯乙烯、马来酸酐为单体在甲苯溶液中进行沉淀聚合合成具有支化结构的聚苯乙烯马来酸酐共聚物，再接枝含羟基的丙烯酸单体引入光敏基团，得到具有光敏基团的支化型树脂，最终用于负性光刻胶中。本发明专利技术制备方法简单，反应条件温和，通过引入不同官能度的含羟基的丙烯酸单体可以控制树脂的双键当量，该支化型树脂应用在负性光刻制程中具有优良的显影性能，较快的显影速度，由此拓宽了该支化型光敏树脂的应用领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及功能高分子材料领域，尤其是涉及一种被应用于光刻胶领域的支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐共聚物。
技术介绍
聚苯乙烯马来酸酐是一种具有结构规整的高分子聚合物，而且可以利用常规的方法对其进行深入的结构和功能设计，进而促进了聚苯乙烯马来酸酐聚合物与其他学科的交叉，为传统的高分子材料领域开辟了新的应用平台。支化型聚苯乙烯马来酸酐共聚物由于具有良好的耐热性，刚性、尺寸稳定性和优异的成膜等特性，广泛应用于涂料、水处理剂，油墨等领域，一直以来都是高分子界研究的热点，但应用于光致抗蚀剂却鲜有报道。光致抗蚀剂又称光刻胶，在微电子行业具有重要地位，可借助其曝光前后溶解性能的变化，将电路图形转移到基板上制备微电子线路。光致抗蚀剂主要是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性发生明显变化。经适当的显影处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。传统的成膜树脂为线性聚合物，其分子链较长，易于缠结，在成像显影过程中，曝光交联的部分与显影洗掉部分的分界处，易发生分子链的牵连，造成断面的不平整性，而且当涂膜稍本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物，其特征在于所含组分及各组分的质量分数为：

【技术特征摘要】
1.一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物，其特征在于所含组分及各组分的质量分数为：2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于所述支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐树脂由苯乙烯、马来酸酐、含巯基链转移剂、光可聚合性单体在溶剂中聚合得到；具体步骤如下：(1)往装有回流冷凝搅拌装置的100ml三口烧瓶中一次加入10mmol苯乙烯、12mmol马来酸酐、占反应单体总摩尔数3～6％的对乙烯基卞硫醇、0.347～0.392g引发剂和50ml甲苯，往烧瓶中通N2除去氧后密封；(2)回流搅拌下于70℃油浴反应20～24小时，得到的产物在甲苯中沉淀，以四氢呋喃为溶剂，甲苯为沉淀剂，溶解、沉淀3次，将固体置于30℃真空烘箱干燥，得白色固体，即为支化聚苯乙烯马来酸酐。(3)向装有搅拌器和温度计的100ml三口烧瓶中加入16.68g丙二醇甲醚醋酸酯、支化型聚苯乙烯马来酸酐、0.1g三苯基膦和0.044g对甲氧基酚，搅拌使支化型聚苯乙烯马来酸酐全部溶解，再加入3.12g甲基丙烯酸羟乙酯，加热至115℃，回流反应10小时后降温冷却，将产物倒入石油醚中沉淀，过滤，干燥，得支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐。3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于所述光可聚合性单体为甲基丙烯酸羟乙酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、4-羟基乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘敬成，李虎，刘晓亚，穆启道，孙小侠，刘仁，纪昌炜，
申请(专利权)人：苏州瑞红电子化学品有限公司，江南大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32