温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体的树脂应用于光刻胶,属于紫外光固化领域。该支化型光敏树脂主要是以巯基链转移剂、苯乙烯、马来酸酐为单体在甲苯溶液中进行沉淀聚合合成具有支化结构的聚苯乙烯马来酸酐共聚物,再接枝含羟基的丙烯酸单体引...该专利属于苏州瑞红电子化学品有限公司;江南大学所有,仅供学习研究参考,未经过苏州瑞红电子化学品有限公司;江南大学授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体的树脂应用于光刻胶,属于紫外光固化领域。该支化型光敏树脂主要是以巯基链转移剂、苯乙烯、马来酸酐为单体在甲苯溶液中进行沉淀聚合合成具有支化结构的聚苯乙烯马来酸酐共聚物,再接枝含羟基的丙烯酸单体引...