光刻胶组合物制造技术

本发明专利技术提供一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式（ａ）所代表的化合物得到的结构单元：其中Ｒ１代表氢原子、卤素原子、Ｃ１－Ｃ６烷基或Ｃ１－Ｃ６卤代烷基，ｋ代表１－６的整数，Ｗ１代表Ｃ６－Ｃ１８二价芳族烃基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、Ｃ１－Ｃ１２烷基、Ｃ１－Ｃ１２烷氧基、Ｃ６－Ｃ１４芳基、Ｃ７－Ｃ１５芳烷基、缩水甘油氧基和Ｃ２－Ｃ４酰基的取代基，Ｒ２代表氢原子、式（Ｒ２－１）所代表的基团或式（Ｒ２－２）所代表的基团，其中Ｒ３、Ｒ４和Ｒ５各自独立地代表Ｃ１－Ｃ１２烃基且Ｒ３和Ｒ４可彼此键合形成环，Ｒ６和Ｒ７各自独立地代表氢原子或Ｃ１－Ｃ１２烃基，Ｒ８代表Ｃ１－Ｃ１２烃基，且所述树脂不溶于或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻胶组合物。
技术介绍
用于采用光刻工艺的半导体微加工的光刻胶组合物含有产酸剂，所述产酸剂包含通过辐照产生酸的化合物。US 2003/0099900 A1公开了一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由甲基丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯得到的结构单元和由对-羟基苯乙烯得到的结构单元。
技术实现思路
本专利技术提供光刻胶组合物。本专利技术涉及如下内容：<1>一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式(a)所代表的化合物得到的结构单元：其中R1代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基，k代表1-6的整数，W1代表C6-C18二价芳族烃基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、缩水甘油氧基和C2-C4酰基的取代基，R2代表氢原子、式(R2-1)所代表的基团或式(R2-2)所代表的基团，其中R3、R4和R5各自独立地代表C1-C12烃基且R3和R4可彼此键合形成环，R6和R7各自独立地代表氢原子或C1-C12烃基，R8代表C1-C12烃基，且所述树脂不溶于或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液；<2>根据<1>的光刻胶组合物，其中W1为亚苯基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、缩水甘油氧基和-->C2-C4酰基的取代基；<3>根据<1>或&lt;2>的光刻胶组合物，其中k为1；<4>根据<1>到<3>中任一项的光刻胶组合物，其中式(a)所代表的化合物为式(a-1)或(a-2)所代表的化合物：其中R1和R2与<1>中所定义的相同；<5>根据<1>到<4>中任一项的光刻胶组合物，其中所述光刻胶组合物还含有产酸剂；<6>根据<1>到<5>中任一项的光刻胶组合物，其中所述光刻胶组合物还含有碱性化合物；<7>一种产生光刻胶图案的方法，所述方法包括如下步骤(1)到(5)：(1)在衬底上施加根据<1>到<6>中任一项的光刻胶组合物的步骤，(2)通过进行干燥形成光刻胶膜的步骤，(3)使光刻胶膜暴露于辐照的步骤，(4)烘焙经曝光的光刻胶膜的步骤，和(5)用碱性显影剂使经烘焙的光刻胶膜显影从而形成光刻胶图案的步骤。具体实施方式本专利技术的光刻胶组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式(a)所代表的化合物(后文简称为化合物(a))得到的结构单元：其中R1代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基，k代表1-6的整数，W1代表C6-C18二价芳族烃基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、缩水甘油氧基和C2-C4酰基的取代基，R2代表氢原子、式(R2-1)所代表的基团或式(R2-2)所代表的基团，-->其中R3、R4和R5各自独立地代表C1-C12烃基且R3和R4可彼此键合形成环，R6和R7各自独立地代表氢原子或C1-C12烃基，R8代表C1-C12烃基，且所述树脂不溶于或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液。R1所代表的卤素原子的实例包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。R1所代表的C1-C6烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基和叔丁基，优选甲基。R1所代表的C1-C6卤代烷基的实例包括三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基和九氟丁基，优选三氟甲基。R1优选为氢原子或C1-C6烷基，更优选为氢原子或甲基。在式(a)中，k优选为1或2，更优选为1。W1所代表的C6-C18二价芳族烃基的实例包括亚苯基、亚萘基、亚蒽基和亚联苯基，优选亚苯基。所述C6-C18二价芳族烃基可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、缩水甘油氧基和C2-C4酰基的取代基。卤素原子的实例包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。C1-C12烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基和十二烷基。C1-C12烷氧基的实例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基、十一烷氧基和十二烷氧基。C6-C14芳基的实例包括苯基、萘基、蒽基、对甲基苯基、对叔丁基苯基和对金刚烷基苯基。C7-C15芳烷基的实例包括苄基、苯乙基、苯丙基、三苯甲基、萘甲基和萘乙基。C2-C4酰基的实例包括乙酰基、丙酰基和丁酰基。具有一个或更多个取代基的C6-C18二价芳族烃基的实例包括5-甲基-1，3-亚苯基、5-叔丁基-1，3-亚苯基、5-金刚烷基-1，3-亚苯基、2-甲基-1，4-亚苯基、2，6-二甲基-1，4-亚苯基、2-甲基-1，4-亚萘基和2-甲基-9，10-亚蒽基。式(R2-1)和(R2-2)中R3、R4、R5、R6、R7和R8所代表的C1-C12烃基的实例包括C1-C12烷基、C3-C12脂环烃基、C6-C12芳基、C7-C12芳烷基和由两个或更多个上述基团相结合所形成的基团。所述C6-C12芳基和C7-C12芳烷基可具有一个或更多个选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基和卤素原子的取代基。C1-C12烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丙基、2-乙基丙基、己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、3-乙基丁基、庚基、辛基、2-乙基己基、叔辛基、壬基、癸基、十一烷基和十二烷基。C3-C12脂环烃基的实例包括环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、1-金刚烷基、2-金刚烷基和异冰片基。C6-C12芳基的实例包括苯基、甲苯基、甲氧基苯基和萘基。C7-C12芳烷基的实例包括苄基、氯甲氧基苯乙基和甲氧基苄基。由两个或更多-->个上述基团相结合所形成的基团的实例包括如下的：作为C6-C12芳基和C7-C12芳烷基的取代基的C1-C6烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、戊基和己基，作为C6-C12芳基和C7-C12芳烷基的取代基的C1-C6烷氧基的实例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、叔丁氧基、戊氧基和己氧基，作为C6-C12芳基和C7-C12芳烷基的取代基的卤素原子的实例包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。由R3和R4彼此键合所形成的环的实例包括环丙烷环、环丁烷环、环戊烷环、环己烷环、环庚烷环、环辛烷环、环壬烷环、环癸烷环和金刚烷环。优选R3、R4和R5各自独立地代表C1-C12烷基、C3-C12脂环烃基、C6-C12芳基或C7-C12芳烷基，或R3和R本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式（ａ）所代表的化合物得到的结构单元：＊＊＊（ａ）其中Ｒ↑［１］代表氢原子、卤素原子、Ｃ１－Ｃ６烷基或Ｃ１－Ｃ６卤代烷基，ｋ代表１－６的整数，Ｗ１代表Ｃ６－Ｃ１８二价芳族烃基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、Ｃ１－Ｃ１２烷基、Ｃ１－Ｃ１２烷氧基、Ｃ６－Ｃ１４芳基、Ｃ７－Ｃ１５芳烷基、缩水甘油氧基和Ｃ２－Ｃ４酰基的取代基，Ｒ↑［２］代表氢原子、式（Ｒ↑［２］－１）所代表的基团或式（Ｒ↑［２］－２）所代表的基团，＊＊＊其中Ｒ↑［３］、Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］各自独立地代表Ｃ１－Ｃ１２烃基且Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］可彼此键合形成环，Ｒ↑［６］和Ｒ↑［７］各自独立地代表氢原子或Ｃ１－Ｃ１２烃基，Ｒ↑［８］代表Ｃ１－Ｃ１２烃基，且所述树脂不溶于或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液

【技术特征摘要】
JP 2009-8-10 2009-1856971.一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式(a)所代表的化合物得到的结构单元：其中R1代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基，k代表1-6的整数，W1代表C6-C18二价芳族烃基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、缩水甘油氧基和C2-C4酰基的取代基，R2代表氢原子、式(R2-1)所代表的基团或式(R2-2)所代表的基团，其中R3、R4和R5各自独立地代表C1-C12烃基且R3和R4可彼此键合形成环，R6和R7各自独立地代表氢原子或C1-C12烃基，R8代表C1-C12烃基，且所述树脂不溶于或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液。2.根据权利要求1的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：嶋田雅彦，市川幸司，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]