真空处理系统技术方案

一种真空处理系统，包括第一腔室、第二腔室以及位于两者之间的阀门结构，阀门结构包括：背板，设置有多个开口，多个开口沿平行背板的第一直线方向间隔排列，用于连通第一腔室和第二腔室；多个阀门单元，装配于背板第一面上，多个阀门单元与多个开口相对应，阀门单元包括固定部和移动部；固定部固定于背板，其包括一与背板上的开口相对应的通孔和围绕通孔的垂直于背板的第一密封面；移动部，包括与第一密封面相对应的第二密封面，用于与第一密封面相配合密封通孔；驱动机构，用于同时驱动多个阀门单元的移动部向相应的固定部移动，使得第一密封面与第二密封面相接触，从而密封通孔。本发明专利技术真空处理系统中的阀门结构可靠性较高、可承受双向压力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空
，尤其涉及一种真空处理系统。
技术介绍
薄膜太阳能电池是在玻璃、金属或塑料等基板上沉积很薄(几微米至几十微米)的光电材料形成的一种太阳能电池。薄膜太阳能电池在弱光条件下仍可发电，其生产过程能耗低，具备大幅度降低原料和制造成本的潜力，因此，市场对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长，而薄膜太阳能电池技术更成为近年来的研究热点。一般而言，薄膜太阳能电池依次包括:基板、透明电极、P型掺杂硅薄膜、i层(非掺杂或本征的硅薄膜)、η型掺杂硅薄膜、以及背电极和保护板，其中P型掺杂硅薄膜、i层、η型掺杂硅薄膜组成一个光电单元，现有技术中薄膜太阳能电池通常还可以包括两个或多个叠加的光电单元。等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhanced Chemical VaporDeposition,PECVD)是最常用的沉积光电单元中各层硅薄膜的方法。沉积薄膜太阳能电池的真空处理系统包括=PECVD处理腔和与PECVD处理腔相连的传输腔，所述传输腔用于将基板传入或传出PECVD处理腔，所述PECVD处理腔和传输腔之间设置有阀门结构。在专利号为US6647665的美国专利中公开了一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空处理系统，包括第一腔室、第二腔室以及位于所述第一腔室和第二腔室之间的阀门结构，其特征在于，所述阀门结构包括：背板，位于所述第一腔室和所述第二腔室之间，所述背板上设置有多个开口，所述多个开口沿平行所述背板的第一直线方向间隔排列，用于连通所述第一腔室和所述第二腔室；多个阀门单元，装配于背板的第一面上，所述多个阀门单元与所述多个开口相对应，所述阀门单元包括固定部和移动部；所述固定部固定于所述背板，其包括一与所述背板上的开口相对应的通孔和围绕所述通孔的第一密封面，所述第一密封面与所述背板垂直；所述移动部，包括与所述第一密封面相对应的第二密封面，用于与所述第一密封面相配合密封所述通孔；驱动机构，...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡兵，吴红星，周艳，王谦，
申请(专利权)人：理想能源设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：