真空处理系统技术方案

技术编号:8908081 阅读:134 留言:0更新日期:2013-07-12 00:49
一种真空处理系统,包括第一腔室、第二腔室以及位于两者之间的阀门结构,阀门结构包括:背板,设置有多个开口,多个开口沿平行背板的第一直线方向间隔排列,用于连通第一腔室和第二腔室;多个阀门单元,装配于背板第一面上,多个阀门单元与多个开口相对应,阀门单元包括固定部和移动部;固定部固定于背板,其包括一与背板上的开口相对应的通孔和围绕通孔的垂直于背板的第一密封面;移动部,包括与第一密封面相对应的第二密封面,用于与第一密封面相配合密封通孔;驱动机构,用于同时驱动多个阀门单元的移动部向相应的固定部移动,使得第一密封面与第二密封面相接触,从而密封通孔。本发明专利技术真空处理系统中的阀门结构可靠性较高、可承受双向压力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空
,尤其涉及一种真空处理系统
技术介绍
薄膜太阳能电池是在玻璃、金属或塑料等基板上沉积很薄(几微米至几十微米)的光电材料形成的一种太阳能电池。薄膜太阳能电池在弱光条件下仍可发电,其生产过程能耗低,具备大幅度降低原料和制造成本的潜力,因此,市场对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长,而薄膜太阳能电池技术更成为近年来的研究热点。一般而言,薄膜太阳能电池依次包括:基板、透明电极、P型掺杂硅薄膜、i层(非掺杂或本征的硅薄膜)、η型掺杂硅薄膜、以及背电极和保护板,其中P型掺杂硅薄膜、i层、η型掺杂硅薄膜组成一个光电单元,现有技术中薄膜太阳能电池通常还可以包括两个或多个叠加的光电单元。等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhanced Chemical VaporDeposition,PECVD)是最常用的沉积光电单元中各层硅薄膜的方法。沉积薄膜太阳能电池的真空处理系统包括=PECVD处理腔和与PECVD处理腔相连的传输腔,所述传输腔用于将基板传入或传出PECVD处理腔,所述PECVD处理腔和传输腔之间设置有阀门结构。在专利号为US6647665的美国专利中公开了一种用于真空系统的阀门结构,所述真空系统I包括处理腔12和传输腔11,所述传输腔11和处理腔12之间的腔壁中设置有开口 131,所述阀门结构13包括连通传输腔11和处理腔12的开口 131,还包括覆盖所述开口131的密封部132,所述密封部132放置于传输腔11的一侧,并且所述密封部132的面积大于所述开口 131的面积,从而可以完全覆盖所述开口 131,进而起到阻隔传输腔11和处理腔12的作用,避免传输腔11和处理腔12之间漏气现象的发生。使所述密封部132露出所述开口 131,可使传输腔11和处理腔12之间连通,传输腔11可以将基板传输至处理腔12中。所述密封部132覆盖于所述开口 131,所述密封部132与腔壁相接触处形成密封面,如图1所示,所述密封面与传输腔11和处理腔12之间气体流通方向相垂直,这样传输腔11和处理腔12之间的气压差所形成的压力差容易使密封部132与腔壁接触不够紧密从而造成阀门结构13密封不严的问题,从而使阀门结构13的密封性能下降,因而所述阀门结构13的可靠性较低。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是提供一种可靠性高、可承受双向压力的真空处理系统。为了解决上述问题,本专利技术提供一种真空处理系统,包括第一腔室、第二腔室以及位于所述第一腔室和第二腔室之间的阀门结构,所述阀门结构包括:背板,位于所述第一腔室和所述第二腔室之间,所述背板上设置有多个开口,所述多个开口沿平行所述背板的第一直线方向间隔排列,用于连通所述第一腔室和所述第二腔室;多个阀门单元,装配于背板的第一面上,所述多个阀门单元与所述多个开口相对应,所述阀门单元包括固定部和移动部;所述固定部固定于所述背板,其包括一与所述背板上的开口相对应的通孔和围绕所述通孔的第一密封面,所述第一密封面与所述背板垂直;所述移动部,包括与所述第一密封面相对应的第二密封面,用于与所述第一密封面相配合密封所述通孔;驱动机构,与所述多个阀门单元的移动部连接,用于同时驱动所述多个阀门单元的移动部向相应的固定部移动,使得所述第一密封面与所述第二密封面相接触,从而密封所述通孔。可选地,所述第一密封面包括第一密封部、第二密封部和两个连接密封面;所述第一密封部和所述第二密封部沿垂直所述背板的方向上错开;所述第一密封部的两端分别通过所述两个连接密封面与所述第二密封部的两端连接。可选地,所述固定部为长条形的具有通孔的部件,所述通孔为狭缝;所述第一密封部处于所述狭缝沿着所述第一直线第一方向的一侧,所述第二密封部处于所述狭缝沿着所述第一直线第二方向的一侧;在垂直于背板的方向上,所述第二密封部靠近背板,所述第一密封部位于所述第二密封部远离背板的一侧;所述两个连接密封面位于所述狭缝的两端。可选地,所述第一密封部的两端和所述第二密封部的两端分别平滑地过渡到所述两个连接密封面。可选地,所述固定部包括一底板和一凸沿,所述狭缝为穿透所述底板的窄长缝,所述凸沿从所述狭缝第一直线第一方向侧背离所述背板的方向突出,所述凸沿朝向所述第一直线第二方向的面为第一密封部;所述底板朝向所述第一直线第二方向的面为第二密封部。可选地,所述固定部包括位于所述狭缝第一直线第一方向侧的第一凸沿结构,还包括位于所述狭缝第一直线方向第二方向侧的第二凸沿结构;所述第一凸沿结构包括第一底座和第一凸起部,所述第一凸起部从所述第一底座朝背向所述背板的方向凸起,所述第一凸起部朝向所述第一直线第二方向的面为第一密封部;所述第二凸沿结构包括第二底座和第二凸起部,所述第二凸起部从所述第二底座朝背向所述背板方向凸起,所述第二凸起部朝向所述第一直线第二方向的面为第二密封部。可选地,所述移动部为长条形部件;所述移动部包括底板和突起部,所述突起部从所述底板朝向所述背板方向突起;所述底板包括朝向所述第一直线第一方向的第一面,所述突起部包括朝向所述第一直线第一方向的第二面,所述第一面与所述第一密封部相配合,所述第二面与第二密封部相配合,以密封所述通孔。可选地,所述驱动机构用于驱动所述移动部沿着平行所述第一直线第一方向移动,以密封所述通孔;所述驱动机构用于驱动所述移动部沿着所述第一直线第二方向移动,以打开所述通孔。可选地,所述开口的形状为狭缝,所述通孔的形状也为狭缝。可选地,所述第一密封部、第二密封部沿所述狭缝的延伸方向为波浪形。可选地,所述第一密封部、第二密封部为平面。可选地,所述驱动机构包括驱动杆和气缸,其中,所述驱动杆装配于背板的第一面上,并且与所述各阀门单元的移动部均连接;所述气缸位于第一腔室和第二腔室之外,且与所述驱动杆相连接,所述气缸驱动所述驱动杆沿所述第一直线的第一方向和第二方向运动。可选地,所述移动部为长条形;所述驱动杆包括相互平行的第一驱动杆和第二驱动杆,所述移动部的两端分别与所述第一驱动杆和第二驱动杆连接。可选地,所述驱动杆还包括平行于第一驱动杆、第二驱动杆的第三驱动杆,长条形的移动部的中部连接于所述第三驱动杆。可选地,所述第一直线为竖直线,所述气缸用于驱动所述驱动杆,沿着所述竖直线进行上、下运动。可选地,所述气缸与所述驱动杆的顶部相连,所述气缸产生自下而上的拉力,用于驱动所述驱动杆沿竖直线进行上、下运动。可选地,所述气缸与所述驱动杆的底部相连,所述气缸产生自下而上的推力,用于驱动所述驱动杆沿竖直线进行上、下运动。可选地,所述阀门结构还包括固定于背板上第一面上的一个或多个环形件,所述环形件沿第一直线方向排布;所述驱动杆穿过所述环形件,以装配于所述背板的第一面上。 可选地,所述阀门结构还包括连接部,用于连接所述移动部和所述驱动杆。可选地,所述连接部包括用于夹持驱动杆的锁扣部件,所述锁扣部件通过铆接或卡扣方式使移动部、驱动杆连接在一起。可选地,所述移动部还包括背向所述开口、与所述背板平行的表面,所述表面上设置有多个凹槽。可选地,所述背板的第二面上设置有多个加强肋,所述多个加强肋位于各开口之间。可选地,所述第二腔室为PECVD处理腔室,第一腔室为传输腔室,所述背板的第一面朝向所述传输腔室。与现有技术相比,本专利技术具有以下优点:1.所述第一密本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种真空处理系统,包括第一腔室、第二腔室以及位于所述第一腔室和第二腔室之间的阀门结构,其特征在于,所述阀门结构包括:背板,位于所述第一腔室和所述第二腔室之间,所述背板上设置有多个开口,所述多个开口沿平行所述背板的第一直线方向间隔排列,用于连通所述第一腔室和所述第二腔室;多个阀门单元,装配于背板的第一面上,所述多个阀门单元与所述多个开口相对应,所述阀门单元包括固定部和移动部;所述固定部固定于所述背板,其包括一与所述背板上的开口相对应的通孔和围绕所述通孔的第一密封面,所述第一密封面与所述背板垂直;所述移动部,包括与所述第一密封面相对应的第二密封面,用于与所述第一密封面相配合密封所述通孔;驱动机构,与所述多个阀门单元的移动部连接,用于同时驱动所述多个阀门单元的移动部向相应的固定部移动,使得所述第一密封面与所述第二密封面相接触,从而密封所述通孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:胡兵吴红星周艳王谦
申请(专利权)人:理想能源设备上海有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1