基板处理系统技术方案

本发明专利技术提供一种基板处理系统，即使惰性气体的供给流量产生偏差，也能够稳定地保持腔室内的压力，在初期运行时，通过增加惰性气体的供给流量来能够缩短被惰性气体化所需的时间，为此，该基板处理系统包括：基板处理部，对基板进行规定的处理；腔室，将所述基板处理部以密封状态收纳；气体供给部，向腔室内供给惰性气体；气体排放部，排放腔室内的气体，其中，按照所述腔室内的压力达到比腔室外的压力大的腔室设定压力的方式调节所述气体供给部的惰性气体的供给流量和所述气体排放部的排放流量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀内展雄，
申请(专利权)人：东丽工程株式会社，
类型：
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