使用了微透镜阵列的曝光装置及光学构件制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够防止异物进入到微透镜阵列与基板之间并且能够防止由于基板的异常接近和上述异物导致对微透镜造成伤痕的曝光装置和光学构件。在透明基板（1）的上方配置有形成了多个微透镜（3a）的微透镜阵列（3），该微透镜阵列（3）在其端面（6）与掩模（4）接合。在掩模（4），在微透镜阵列（3）的两侧接合有对准标记台（12），在该对准标记台（12）的与基板（1）的相向面形成有对准标记（11）。对准标记台（12）与基板（1）之间的间隔小于微透镜阵列（3）与基板（1）的间隔。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用了微透镜阵列(microlens array)的曝光装置及光学构件。
技术介绍
以往,使用了微透镜阵列的曝光装置作为激光退火(laser annealing)装置而使用，并且作为在抗蚀剂膜上对掩模图像进行投影曝光并利用之后的显影处理形成抗蚀剂图案的光刻用的曝光装置而使用，上述激光退火装置是对非晶硅膜照射激光，利用激光的热使非晶硅膜熔融、凝固，由此将非晶硅膜改性为多晶硅膜的装置。作为使用了该微透镜阵列的曝光装置，有专利文献I中所公开的曝光装置。在该专利文献I所公开的曝光装置中，如图4所示，在工作台100上载置有被曝光体101,在该被曝光体101的上方配置有光掩模(photomask)102和微透镜阵列106。而且，来自光源111的曝光光线被准直透镜110聚光并照射于光掩模102。光掩模102是在透明基板103的上表面形成了具有开口 105的遮光膜104的光掩模,在透明基板103的下表面形成有许多二维地进行配置的微透镜107，构成微透镜阵列106。在该遮光膜104的开口 105中透射了的曝光光线透射微透镜阵列106的微透镜107而被聚束，并成像在被曝光体101上。光掩本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.30 JP 2010-1928611.一种使用了微透镜阵列的曝光装置，其特征在于，具有:基板台，支承曝光对象的透明基板；微透镜阵列，配置在该基板台的上方，形成有多个微透镜；遮光掩模，配置在该微透镜阵列的上方，并被固定于所述微透镜阵列；曝光光源；光学系统，将从该曝光光源射出的曝光光线引导至所述遮光掩模，利用所述微透镜阵列将透射了所述遮光掩模的曝光光线成像于所述基板台上的基板；对准标记台，配置在所述掩模的与所述基板的相向面；对准标记，形成在该对准标记台的与所述基板的相向面；以及标记感测单元，配置在所述透明基板的下方，将透射了所述透明基板的光照射至所述对准标记，在同一视场内感测设置于所述透明基板的基板标记和所述对准标记，所述对准标记台与所述基板的间隔小于所述微透镜与所述基板的间隔。2.根据权利要求1所述的使用了微透镜阵列的曝光装...

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，新井敏成，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：
国别省市：