再生模板的方法和再生设备技术

本发明专利技术涉及再生模板的方法和再生设备。本发明专利技术的一方面，这里提供了一种再生模板的方法。该模板包括转移表面和脱模层。该转移表面具有凹凸图案。该脱模层包含无机官能团和有机官能团，二者都键合到该转移表面上。该再生模板的方法包括下面两个步骤：通过对脱模层中所包含的有机官能团进行氧化和分解来除去有机官能团；和除去无机官能团；并且通过将硅烷偶联剂与转移表面偶联来形成脱模层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方案主要涉及一种再生模板的方法及其再生设备。
技术介绍
在近年，已经开发了这样的技术，其将纳米印记施加到半导体上的光刻胶图案上。纳米压印(NIL)将带有凹凸图案的模板压到涂覆有光刻胶的基底上，固化该光刻胶，和随后从基底上剥离该模板，由此形成精细图案。公开了一种
技术介绍
，其在模板表面上形成脱模层，来易于从固化的光刻胶上剥离模板。不幸的，该
技术介绍
需要更换所述模板，因为该模板在重复压印过程中可能劣化。因此,需要一种新技术来改进模板的耐久性。
技术实现思路
根据本专利技术的一方面，提供了一种再生模板的方法。该模板包括转移表面和脱模层。该转移表面具有凹凸图案。该脱模层包含无机官能团和有机官能团，这二者都键合到转移表面上。该再生模板的方法包括下面两个步骤:通过对脱模层中所包含的有机官能团进行氧化和分解来除去有机官能团；和除去无机官能团；并且通过将硅烷偶联剂与转移表面偶联来形成脱模层。此外，根据本专利技术的另一方面，提供了一种用于再生模板的再生设备。该再生设备包括第一加工区，该加工区用于通过氧化和分解来除去脱模层的有机官能团；第二加工区，该加工区用于除去脱模层的无机官能团；和第三加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种再生模板的再生方法，该模板包含：具有凹凸图案的转移表面，和包含无机官能团和有机官能团的脱模层，这两种官能团都键合到该转移表面上，该方法包含：通过对脱模层中所包含的有机官能团进行氧化和分解来除去有机官能团；除去无机官能团；和通过将硅烷偶联剂与转移表面偶联来形成脱模层。

【技术特征摘要】
2011.09.22 JP 2011-2078211.一种再生模板的再生方法,该模板包含: 具有凹凸图案的转移表面,和 包含无机官能团和有机官能团的脱模层，这两种官能团都键合到该转移表面上， 该方法包含: 通过对脱模层中所包含的有机官能团进行氧化和分解来除去有机官能团； 除去无机官能团；和 通过将硅烷偶联剂与转移表面偶联来形成脱模层。2.权利要求1的方法，其中无机官能团的除去是按如下进行的:用含有选自氨、胆碱、氢氧化钠和氟化氢中的至少一种的化学溶液进行处理。3.权利要求1的方法，其中在无机官能团的除去中，进行0.15n m或者更大的蚀刻。4.权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林正子，平林英明，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：