【技术实现步骤摘要】
此处描述的实施例一般涉及干涉滤波器和显示设备。
技术介绍
在诸如液晶显示设备之类的显示设备中，存在对于低功耗的要求。期望的是具有增加的光利用效率和稳定特性的特定滤色器。附图说明图1是示出根据第一实施例的干涉滤波器的示意剖视图；图2是示出根据第一实施例的干涉滤波器的示意剖视图；图3是示出根据第一实施例的干涉滤波器的特性的图；图4是示出用于计算的膜厚度分布的图；图5A到5C是示出干涉滤波器的特性的图；图6是示出干涉滤波器的特性的示图；图7是示出干涉滤波器的特性的示图；图8A和8B是示出干涉滤波器的特性的图；图9A和9B是示出干涉滤波器的特性的图；图1OA和IOB是示出干涉滤波器的特性的图；图11是示出干涉滤波器的特性的示图；图12是示出根据第一实施例的干涉滤波器的配置的示意剖视图；图13A至图13C是示出根据第一实施例的另一干涉滤波器的配置的示意剖视图；图14是示出根据第一实施例的另一干涉滤波器的特性的图；图15是示出根据第二实施例的干涉滤波器的示意剖视图；图16A和16B是示出根据第二实施例的显示设备的一部分的波长选择吸收层的特性的图；图17是示出根据第二实施例的...
【技术保护点】
一种干涉滤波器，包括：包含主表面的基体；设置在所述主表面上的下侧半透射层；以及设置在所述下侧半透射层上的上侧半透射层，所述基体、所述下侧半透射层和所述上侧半透射层形成第一区域以选择性透射蓝光、形成第二区域以选择性透射绿光、并且形成第三区域以选择性透射红光，所述第一区域、所述第二区域、和所述第三区域被配置在与所述主表面平行的平面中，且所述第二区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离短于所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离，且短于所述第三区域中所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离。
【技术特征摘要】
2011.09.28 JP 2011-2120401.一种干涉滤波器，包括 包含主表面的基体； 设置在所述主表面上的下侧半透射层；以及 设置在所述下侧半透射层上的上侧半透射层， 所述基体、所述下侧半透射层和所述上侧半透射层形成第一区域以选择性透射蓝光、形成第二区域以选择性透射绿光、并且形成第三区域以选择性透射红光，所述第一区域、所述第二区域、和所述第三区域被配置在与所述主表面平行的平面中，且 所述第二区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离短于所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离，且短于所述第三区域中所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离。2.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述第三区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离短于所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离。3.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述第二区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离为零。4.如权利要求3所述的滤波器，其特征在于，所述第三区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离为大于等于10. 8纳米且小于等于13. 2纳米。5.如权利要求4所述的滤波器，其特征在于，所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离为大于等于76纳米且小于等于84纳米。6.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，还包括 第一间隔层，被设置在所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间；以及 第三间隔层，被设置在所述第三区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间。7.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，还包括 第一间隔层，被设置在所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间， 所述第一区域中的所述距离和所述第一间隔层的折射率的乘积为大于等于105. 8纳米并小于117. 5纳米。8.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于， 所述基体、所述下侧半透射层、和所述上侧半透射层形成了多个所述第一区域、多个所述第二区域、和多个所述第三区域，且 所述多个第一区域、所述多个第二区域、和所述多个第三区域被沿着所述平面中的至少一个方向而周期性设置。9.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述下侧半透射层包括 第一介电膜；以及 第二介电膜，其与所述第一介电膜层叠且具有与所述第一介电膜的折射率不同的折射率。10.如权利要求9所述的滤波器，其特征在于，所述第一介电膜包括TiO2，且 所述第二介电膜包括Si02。11.如权利要求9所述的滤波器，其特征在于，所述上侧半透射层包括 第三介电膜； 第四介电膜，其与所述第三介电膜层叠且具有与所述第三...
【专利技术属性】
技术研发人员：永户一志，宫崎崇，中井丰，山口一，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：
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