本发明专利技术提供一种弹性波元件和弹性波滤波器。该弹性波元件具有叉指式换能器(IDT)电极、和与IDT电极对置的第一其它电极。IDT电极具有相互对置的第一和第二梳齿电极。第一梳齿电极包括：第一汇流条、多个第一交叉电极指、和多个第一虚设电极指。第二梳齿电极包括：第二汇流条、与多个第一交叉电极指在交叉区域交叉的多个第二交叉电极指、分别与多个第一交叉电极指对置的多个第二虚设电极指、多个加权部、和非加权部。多个加权部由设置在多个第二交叉电极指与多个第二虚设电极指之间的间隙部的电极构成。在非加权部中，在非交叉区域，在间隙部之中与其它电极最近的间隙部未设置电极。该弹性波元件可防止IDT电极与其它电极的短路，并且具有优异的抑制无用波的特性。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有相互对置的多个电极的弹性波元件和弹性波滤波器。
技术介绍
弹性波元件用于便携式电话等的通信设备的高频滤波器等弹性波滤波器中。图8A 是专利文献1所记载的现有的弹性波元件70A的俯视图。弹性波元件70A是弹性波谐振器。 弹性波元件70A具有在压电基板上形成的叉指式换能器(inter-digital transducer) 电极71 ；和在压电基板上形成的反射器电极72、73。IDT电极71具有相互对置的梳齿电极 71A、71B。梳齿电极7IA的交叉电极指71D与梳齿电极71B的交叉电极指71H交叉。反射器电极72、73形成在被IDT电极71激振的弹性波的传输方向的两侧。梳齿电极7IA由汇流条71C、与汇流条71C电连接的多个交叉电极指71D、和与梳齿电极71B的交叉电极指71H对置且与汇流条71C电连接的虚设电极指71F构成。此外， 梳齿电极71B由汇流条71G、与汇流条71G电连接的多个交叉电极指71H、和与梳齿电极7IA 的交叉电极指71D对置且与汇流条71G电连接的虚设电极指71J构成。能够通过设置在非交叉区域75A、75C的虚设电极指71F、71J，将无用的谐振成分艮口横模杂散(transverse mode spurious)封闭于这些区域。图8B是专利文献1所记载的其它现有弹性波元件70B的俯视图。弹性波元件70B 是弹性波谐振器。在图8B中，对与图8A中所示的弹性波元件70A相同部分赋予相同的参考标号。梳齿电极71A具有在非交叉区域75A设置有交叉电极指71D与虚设电极指71F的间隙部的加权部71K。此外，梳齿电极71B具有在非交叉区域75C设置有交叉电极指71H与虚设电极指71J的间隙部的加权部71M。通过使加权部71K、71M的大小沿汇流条71C、71G逐渐变化，能有效抑制被虚设电极指71F、71J封闭住的横模杂散。在弹性波元件70A中，IDT电极71与反射器电极72之间、或IDT电极71与反射器电极73之间有短路的可能性，会使特性变差。此外，在弹性波元件70B中，IDT电极71与反射器电极72之间、或IDT电极71与反射器电极73之间有可能更频繁地发生短路。以下，对更显著发生短路的弹性波元件70B进行说明。图9A-图9H是表示弹性波元件70B的制造方法的剖视图。首先，如图9A所示，在由LiTa03等压电材料构成的基板81的上表面，利用蒸镀或溅射等方法来成膜电极膜82。 接着，如图9B所示，在电极膜82的上表面形成抗蚀膜83。接着，如图9C所示，利用光刻技术，将抗蚀膜83加工成希望的形状。接着，如图9D所示，利用干法蚀刻技术等，将电极膜82 加工成IDT电极71或反射器电极72、73等所希望的形状之后，去除抗蚀膜83。接着，如图 9E所示，以覆盖电极膜82的方式，利用蒸镀或溅射等的成膜方法来形成由SiO2等的电介质的薄膜构成的保护膜84。接着，如图9F所示，在保护膜84的表面形成抗蚀膜85。接着，如图9G所示，利用曝光和显影技术等，将抗蚀膜85加工成希望的形状。接着，如图9H所示， 用于进行电信号的输入输出的焊盘86等，利用干法蚀刻技术等，去除掉保护膜84无用的部7分，然后，去除抗蚀膜85。最后，通过进行切片(dicing)而分割成各个芯片之后，通过上芯 (die bond)等将芯片安装于封装件，并进行线焊(wireb onding)之后，通过熔接等来固定盖而进行气密性密封，由此能制造弹性波元件70B。图IOA-图IOC是详细表示图9B-图9D所示的弹性波元件70B从抗蚀膜83的曝光到抗蚀膜83的去除的工序的剖视图。尤其，图IOC是图8B所示的弹性波元件70B的线 10C-10C的剖视图。如图IOA所示，对抗蚀膜83照射通过掩模91的来自光源的曝光光，然后，通过进行显影处理，仅在未曝光的部分残存抗蚀膜83。掩模91中所包含的掩模部分91B是用于形成IDT电极71的掩模部分，掩模部分91A、91C是用于分别形成反射器电极72、73的掩模部分。如图IOB所示，图IOA所示的抗蚀膜83在曝光和显影处理后成为抗蚀膜83A。有时，会在形成反射器电极72、73的抗蚀膜92A、92C分别与形成IDT电极71的抗蚀膜92B之间残存无用的抗蚀膜93。若通过无用的抗蚀膜93的残存的图IOB所示的抗蚀膜83A而对电极膜82进行干法蚀刻，则如图IOC所示，无法充分去除电极膜82，而使无用电极膜94残存，会发生使IDT电极71与反射器电极72、或IDT电极71与反射器电极73短路的情况，使弹性波元件70B的特性变差。专利文献1 JP特开2006-352764号公报
技术实现思路
一种弹性波元件，其具有叉指式换能器(IDT)电极和与IDT电极对置的第一其它电极。IDT电极具有相互对置的第一和第二梳齿电极。第一梳齿电极具有第一汇流条、多个第一交叉电极指和多个第一虚设电极指。第二梳齿电极具有第二汇流条、在交叉区域与多个第一交叉电极指交叉的多个第二交叉电极指、与多个第一交叉电极指分别对置的多个第二虚设电极指、多个加权部和非加权部。多个加权部由在所述多个第二交叉电极指与所述多个第二虚设电极指之间的间隙部设置的电极构成。在非加权部中，在非交叉区域，在间隙部之中与其它电极最近的间隙部未设置电极。该弹性波元件可防止IDT电极与其它电极的短路、且具有优异的抑制无用波的特性。附图说明图IA是本专利技术的实施方式1的弹性波元件的俯视图。图IB是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图IC是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图ID是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图IE是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图2A是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图2B是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图2C是表示实施方式1的弹性波元件的制造工序的剖视图。图2D是表示实施方式1的另一弹性波元件的剖视图。图2E是实施方式1的弹性波滤波器的电路图。图3是本专利技术的实施方式2的弹性波滤波器的俯视图。图4是本专利技术的实施方式2的另一弹性波滤波器的俯视图。图5A是本专利技术的实施方式3的弹性波滤波器的俯视图。图5B是实施方式3的另一弹性波滤波器的俯视图。图5C是实施方式3的其它另一弹性波滤波器的俯视图。图6A是实施方式3的其它另一弹性波滤波器的俯视图。图6B是实施方式3的其它另一弹性波滤波器的俯视图。图6C是实施方式3的其它另一弹性波滤波器的俯视图。图7A是本专利技术的实施方式4的弹性波滤波器的俯视图。图7B是本专利技术的实施方式4的另一弹性波滤波器的俯视图。图8A是现有弹性波元件的俯视图。图8B是另一现有弹性波元件的俯视图。图9A是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9B是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9C是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9D是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9E是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9F是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9G是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图9H是表示图8B所示的现有弹性波元件的制造工序的剖视图。图本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种弹性波元件，其中，具有：压电基板，其具有表面；第一叉指式换能器（ＩＤＴ）电极，其具有设置在所述压电基板的所述表面上的第一梳齿电极、和设置在所述压电基板的所述表面上并且与所述第一梳齿电极对置的第二梳齿电极；以及第一其它电极，其设置在所述压电基板的所述表面上，所述第一叉指式换能器电极和所述第一其它电极被排列于第一方向上，所述第一梳齿电极包括：第一汇流条，其在所述第一方向上延伸；多个第一交叉电极指，从所述第一汇流条向所述第二梳齿电极在与所述第一方向不同的第二方向上延伸；和多个第一虚设电极指，从所述第一汇流条向所述第二梳齿电极在所述第二方向上延伸，所述第二梳齿电极包括：第二汇流条，其在所述第一方向上延伸；多个第二交叉电极指，从所述第二汇流条向所述第一梳齿电极在与所述第二方向相反的第三方向上延伸，并且在交叉区域与所述多个第一交叉电极指交叉，并且分别与所述多个第一虚设电极指在所述第三方向上对置；多个第二虚设电极指，从所述第二汇流条向所述第一梳齿电极在所述第三方向上延伸，且分别与所述多个第一交叉电极指在所述第三方向上对置；多个加权部，在所述多个第二交叉电极指与所述多个第二虚设电极指之间的间隙部设置电极，并且被设置在所述交叉区域以外的非交叉区域；和非加权部，其在所述非交叉区域，在所述间隙部之中与所述其它电极最近的间隙部未设置电极。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：上口洋辉，中西秀和，滨冈阳介，冈本庄司，中村弘幸，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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