【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种近红外反射性、可见光透射性及膜柔软性优异的近红外反射膜及其制造方法及设有近红外反射膜的近红外反射体。
技术介绍
近年来，由于对节能对策的关注提高，因此，从减少施加于冷气设备的负荷的观点考虑，对安装在建筑物及车辆的窗玻璃上而遮断太阳光的热线透射的近红外反射膜的要求提闻。作为近红外反射膜的形成方法，主要提出了采用蒸镀法、溅射法等干式制膜法形成由交替叠层了高折射率层和低折射率层的结构构成的叠层膜的方法。但是，对干式制膜法而言，存在如下课题等形成时使用的真空装置等为大型机器，制造成本高，难以大面积化，而且，基体材料被限定于耐热性原材料。已知有采用湿式涂布法代替具有如上所述的课题的干式制膜法形成近红外反射膜的方法。例如，公开了如下方法通过使用棒涂机的湿式涂布方式在基体材料上涂布将含有金属氧化物及金属化合物微粒的热固化型有机硅树脂及紫外线固化型丙烯酸树脂分散在有机溶剂中而得到的高折射率层涂布液，形成透明叠层体的方法(例如参照专利文献I。)；通过使用了棒涂机的湿式涂布方式在基体材料上涂布由金红石型的氧化钛、杂环类氮化合物(例如吡啶)、紫外线固化型粘合剂及有机溶剂构成的高折射率涂膜形成用组合物，形成透明叠层体的方法(例如参照专利文献2。)。另一方面，也公开了使用球状金红石型氧化钛粒子的甲醇分散浆料和甲醇二氧化硅溶胶交替叠层的方法(例如参照专利文献3。)。但是，在专利文献I及专利文献2所公开的方法中，作为高折射率层形成用涂布液的介质，主要由有机溶剂形成，因此，在高折射率层形成及干燥时，导致大量的有机溶剂飞散，存在环境上的课题。进而，在上述公开的方法中，使...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.24 JP 2010-166591;2010.09.28 JP 2010-216681.一种近红外反射膜，其在基体材料上具有至少I个由高折射率层和低折射率层构成的单元，相邻的该高折射率层和该低折射率层的折射率差为O.1以上，其中，该高折射率层含有I)体积平均粒径IOOnm以下的金红石型氧化钛、2)水溶性高分子及3)选自下述化合物组中的至少I种化合物A， 化合物组含羧基化合物、异羟肟酸类、吡啶衍生物。2.根据权利要求1所述的近红外反射膜，其中，所述化合物A具有下述通式(I)或(2)所示的部分结构， [化学式I]通式(I)通式(2)3.根据权利要求1或2所述的近红外反射膜，其中，所述化合物A为下述通式(3)所示的化合物， [化学式2] 通式(3)4.根据权利要求1 3中任一项所述的近红外反射膜，其中，所述水溶性高分子为选自具有反应性官能团的聚合物、下述通式(4)所示的多价金属聚合物、增粘多糖类及明胶中的至少I种， 通式(4) (M1 (O) !(OR1)m (OR2)n (X)i(Y)jOk 式中，i及j各自为O或I, k为2以上的整数，1、m、η各自为O 2的整数，1+m+n =2 ^表示铝原子、锆原子或铪原子#及R2各自表示烷基、酰基或氢原子，可以相同或不同；X及Y各自表示OH、卤原子、N03、SO4, CO3> R3COO或H2O, R3表示烷基或氢原子。5.根据权利要求1 4中任一项所述的近红外反射膜，其中，所述水溶性高分子为明胶，所述近红外反射膜中， 相对于所述高折射率层的总质量含有1)15质量％以上且45质量％以下的平均分子量为3万以下的低分子量明胶或胶原...
【专利技术属性】
技术研发人员：当间恭雄，荒井健夫，中岛彰久，久光聪史，铃木伸一，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达控股株式会社，
类型：
国别省市：
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