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一种成像光谱滤光片制造技术

技术编号:8121784 阅读:241 留言:0更新日期:2012-12-22 12:01
一种成像光谱滤光片,它包括基片、像素层,其要点在于在基片的正、反两表面都覆盖有像素层,正、反两表面的像素层均为干涉薄膜系或一面为干涉薄膜系、另一面为彩色感光胶的组合。像素层具有二维周期结构,相邻的n个波段像素为一个周期,分别沿滤光片表面的X轴方向、Y轴方向重复排列,直至覆盖探测器的所有工作像素,本实用新型专利技术的优点在于将像素层分解到基片的两个表面,减少像素元中膜系的层数,降低膜系的总厚度,结构紧凑,有效地克服了陷阱效应,在基片的两个表面同时镀膜使其应力基本平衡,基片不会变形,保证了膜层的精度,减少时间,提高生产效率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本实用 新型属于滤光片,尤其涉及成像光谱滤光片
技术介绍
成像光谱系统硬件的核心器件包括照相镜头、成像光谱滤光片、成像探測器CMOS/(XD。成像镜头及成像探测器已经实现了エ业化生产,有多种型号的产品可以选用,所以设计与制备成像光谱滤光片就成为硬件系统的关键环节。成像光谱滤光片通常可能包含数万至数十万个像素元,并且尺寸范围在几个微米至20微米左右,所以无法想象使用机械组装的方式进行制备,而是采用半导体中的刻蚀技术与物理气相沉积技术相结合的方法,在同一个基片上制备各个透射波段的像素群。为了制备能够耐受各种恶劣环境的影响,同时保证光谱特性稳定的干渉薄膜系,通常使用荷能镀膜エ艺,使得膜层的微观结构非常致密。这种结构会在膜层的断面产生张应力,导致成像光谱滤光片的形变。此形变的尺度与基片的厚度有夫,基片愈厚,形变愈小,但是基片愈厚,图像会产生更大的象散,影响图像的质量。但如果使用的基片很薄(例如厚度为O. 3-0. 5mm),形变增加,需要克服应カ效应。采用普通制备掩模和镀膜エ艺存在的问题I陷阱效应大在基片上制备掩模时,基片的裸露部分就构成陷阱,掩膜的厚度成为陷阱的深度。为了提高湿法刻蚀的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像光谱滤光片,它包括基片(1)、像素层(2),其特征在于:在基片(1)的正、反两表面都覆盖有像素层(2)。

【技术特征摘要】
1.一种成像光谱滤光片,它包括基片(I)、像素层(2),其特征在于在基片(I)的正、反两表面都覆盖有像素层(2)。2.根据权利要求I所述的一种成像光谱滤光片,其特征在于正、反两表面的像素层(2)均为干涉薄膜系或一面为干涉薄膜系、另一面为彩色感光胶的组合。3.根据权利要求2所述的一种成像光谱滤光片,其特征在于所述的干涉薄膜系是指由Nb2O5和SiO2、或Ta2O5和SiO2膜层重复相间镀膜构成,即Nb2O5或Ta2O5和SiO2膜层相间,多次重复,每层膜的厚度各异。4.根据权利要求3所述的一种成像光谱滤光片,其特征在于干涉薄膜系的薄膜数目为20-80层。5.根据权利要求I所述的一种成像光谱滤光片,其特征在于基片(I)为光学玻璃或其他在工作波段透明的光学材料制成。6.根据权利要求2所述的一种成像光谱滤光片,其特征在于像素层(2)具有二维周期结构,相邻的η个波段像素为一个周期,η为大于或等于2的自然数,所述的二维周期结构是指在滤光片表面沿X或Y轴方向成像光谱滤光片按一定排列方式呈周期性排列,每个周期中包含η个不同的中心透过波长,所述每个周期波段像素只允许相应的一组波段的光通过,这组η个波段像素的几何形状和尺寸都是一样的,周期性排列的波段像素形成重复单元,该重复单元分别沿滤光片表面的X轴方向、Y轴方向重复排列,直至覆盖探测器的所有工作像素。7.根据权利要求6所述的一种成像光谱滤光片,其特征在于所述的二维周期结构排列方式是指沿Y轴方向即滤光片表面的宽度方向进行顺序排列,排好一列后再按顺序排第二列,一直到最后,最后...

【专利技术属性】
技术研发人员:孔令华赵博
申请(专利权)人:孔令华
类型:实用新型
国别省市:

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