防反射膜及具备防反射膜的光学部件制造技术

本发明专利技术提供一种能够以较高生产率制造且具有充分的光学特性的防反射膜及具备该防反射膜的光学部件。在具有透光性的基材的表面上设置的防反射膜中，包括从基材(5)侧依次层叠的薄膜多层膜(20)及微细凹凸层(30)，所述薄膜多层膜(20)由多层构成，所述微细凹凸层(30)具有以比使用光的波长短的平均间距形成的凹凸结构，且根据凹凸结构中的膜厚方向上的空间占有率的连续的变化而相对于使用光的折射率连续进行变化，多层中包括具有相对高的折射率的至少两种金属元素种类的氧化膜或硅和至少一种金属元素种类的氧化膜(21)及具有相对低的折射率的氮氧化膜(22)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种防反射膜及具备防反射膜的光学部件。
技术介绍
在利用塑料等透光性部件的透镜(透明基材)中，为了降低因表面反射引起的透射光的损失，在光入射面设置防反射膜。例如，作为针对可见光的防反射膜，已知有电介质多层膜、在表面具备比可见光的波长短的间距的微细凹凸的微细凹凸层等。专利文献1中，以提供能够适用于各种表面形状的光学部件，且具有波长频带特性及入射角度特性优异的性能的光学膜为目的，公开有在透明基材上隔着作为第1层的薄膜层而形成微细凹凸层作为第2层的光学膜。专利文献1中所记载的光学膜中，第1层包括根据膜厚方向上的折射率物质的组合比的变化而折射率连续或阶段性地进行变化的区域，具体而言，可以举出利用二氧化钛和二氧化硅的双源蒸镀方法所形成的膜、利用氧化锆和二氧化硅的双源蒸镀方法所形成的膜等。专利文献2中公开有与专利文献1同样地在透明基材上隔着透明薄膜层而具备微细凹凸层的结构，并提出有实现提高能够以更少的材料种类来制作的生产率的结构的防反射膜。该专利文献2中，透明薄膜层具备多个相同种类的氮化物层和/或氮氧化物层，作为氮化物层，可以举出SiN、AlN、SiAlN，作为氮氧化物层，可以举本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射膜，其设置在具有透光性的基材的表面上，其中，所述防反射膜包括从所述基材侧依次层叠的薄膜多层膜及微细凹凸层，所述薄膜多层膜由多个层构成，所述微细凹凸层在其表面具有平均间距比使用光的波长短的凹凸结构，且根据该凹凸结构中的所述薄膜多层膜的膜厚方向上的空间占有率的连续的变化，所述微细凹凸层的相对于所述使用光的折射率连续进行变化，所述多个层包括具有相对高的折射率的层及具有相对低的折射率的层，所述具有相对高的折射率的层由至少两种金属元素种类的氧化膜、或硅和至少一种金属元素种类的氧化膜构成，所述具有相对低的折射率的层由氮氧化膜构成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.25 JP 2014-1706171.一种防反射膜，其设置在具有透光性的基材的表面上，其中，所述防反射膜包括从所述基材侧依次层叠的薄膜多层膜及微细凹凸层，所述薄膜多层膜由多个层构成，所述微细凹凸层在其表面具有平均间距比使用光的波长短的凹凸结构，且根据该凹凸结构中的所述薄膜多层膜的膜厚方向上的空间占有率的连续的变化，所述微细凹凸层的相对于所述使用光的折射率连续进行变化，所述多个层包括具有相对高的折射率的层及具有相对低的折射率的层，所述具有相对高的折射率的层由至少两种金属元素种类的氧化膜、或硅和至少一种金属元素种类的氧化膜构成，所述具有相...

【专利技术属性】
技术研发人员：园田慎一郎，吉弘达矢，高桥裕树，金谷元隆，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP