【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种金属基微纳粉及其制备方法,尤其是一种激光再制造用金属基微纳粉及其制备方法,具体地说是ー种。
技术介绍
2010年5月13日,国家发改委、科技部、エ信部等11部委联合发文部署推进再制造产业的发展,将发展再制造工程提升为实现我国可持续发展战略的ー项基本国策。作为在我国率先倡导、积极推动再制造工程的中国工程院院士徐滨士教授在其《再制造工程基础及其应用》一书中明确指出再制造工程发展的核心在于再制造关键技术的发展,而再制造关键技术发展的重心则在于面向高成品附加值对象的再制造关键技术理论和方法的突破。以“严(性能严)、精(精度高)、薄(结构薄)”为特征的薄壁件,就是ー类具有极高成品附加值的再制造对象。相对于其他再制造技术而言,激光再制造技术具有众多优点如再制造界面为冶金结合、组织细小、成分可控、热影响较小等,再加上激光加工的高柔性、高效率、低污染及易于实现计算机控制等光加工特点,使之成为ー项备受关注的薄壁件再制造关键技术之一。然而,现有激光再制造用粉多采用微米金属粉,熔烧微米金属粉需要较大的激光能量,造成对基体尤其是再制造对象为薄壁件时的热输入偏大,进而导 ...
【技术保护点】
一种碳黑增强的高吸光性金属基微纳粉,其特征是:它由质量百分比为0.5~1.5%纳米碳黑粉和98.5~99.5%微米金属粉组成,两种组分之和为100%;纳米碳黑粉以镶嵌、粘附或化学键结合中的一种或几种包覆于微米金属粉表面,形成一种以微米金属粉为核、纳米碳黑粉为壳的核壳结构微纳粉。
【技术特征摘要】
1.一种碳黑增强的高吸光性金属基微纳粉,其特征是它由质量百分比为O. 5^1. 5%纳米碳黑粉和98. 5^99. 5%微米金属粉组成,两种组分之和为100% ;纳米碳黑粉以镶嵌、粘附或化学键结合中的一种或几种包覆于微米金属粉表面,形成一种以微米金属粉为核、纳米碳黑粉为壳的核壳结构微纳粉。2.根据权利要求1所述的碳黑增强的高吸光性金属基微纳粉,其特征是所述的纳米碳黑粉的平均粒径为HiSnm,所述的微米金属粉平均粒径为5(Γ75μπι。3.根据权利要求1所述的碳黑增强的高吸光性金属基微纳粉,其特征是所述的纳米碳黑粉按照ASTMD-3849或GB/T7046-2003标准检测的着色强度不低于100%。4.根据权利要求1所述的碳黑增强的高吸光性金属基微纳粉...
【专利技术属性】
技术研发人员:王宏宇,吴志奎,袁晓明,黎向锋,沈清,程满,金镜,许瑞华,张优,
申请(专利权)人:江苏大学,
类型:发明
国别省市:
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