转印用施主基板及使用其的器件的制造方法、及有机EL元件技术

本发明专利技术提供一种具有基板和光热转换层、且光热转换层的表面为粗糙面的转印用施主基板。由此，形成均匀的转印材料的膜，能够制造可形成高精度的细微图案的器件。另外，本发明专利技术还提供一种有机EL元件，所述有机EL元件的有机化合物层的至少一部分使用转印法形成，发光区域的发光亮度不均或膜厚不均少。由此，能够提供耐久性也优异的有机EL元件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及构成有机EL元件的薄膜的转印用施主基板、使用该转印用施主基板的器件的制造方法、以及有机EL元件。
技术介绍
有机EL元件是从阴极注入的电子和从阳极注入的空穴在被两极夹持的有机发光层内再结合的元件。自得到非专利文献I那样的研究成果以来，如上所述进行发光的有机 EL元件能够薄型化且能够在低驱动电压下高亮度发光、并且通过在发光层中使用各种有机材料可获得以红(R)、绿(G)、蓝(B)三原色为代表的多种发光色，因此作为彩色显示器的应用的实用化在不断进步，随之要求各种各样的技术。其中之一是在作为最终产品的形成有机EL元件的器件基板上形成为典型的膜厚为O.1 μ m以下的薄膜、且按照三原色高精度地形成细微图案的发光层的技术。一直以来，在薄膜的细微图案形成上使用光刻法、喷墨法或印刷法等湿法工艺 (涂布法)。然而，湿法工艺中，在先形成的底层上涂布光致抗蚀剂和油墨等时，难以完全防止极薄的底层的形态变化和不良的混合等，也难以实现从湿润状态干燥后的薄膜的膜厚均匀性。相对于此，几种干法工艺被实用化或被提出。其中，掩模蒸镀法是在金属板上密合开有精密的孔的蒸镀掩模，将其作为掩模，将各发光材料蒸镀在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.15 JP 2010-1603151.一种转印用施主基板，包括基板和形成在所述基板上的光热转换层，其特征在于，所述光热转换层的表面为粗糙面。2.如权利要求1所述的转印用施主基板，其中，所述光热转换层的表面的算术平均粗糙度为30nm以上。3.如权利要求1或2所述的转印用施主基板，其中，所述基板的形成光热转换层一侧的表面的算术平均粗糙度为30nm以上。4.如权利要求1 3中任一项所述的转印用施主基板，其中，表面的凹凸平均间隔为20 μ m以下。5.如权利要求1 4中任一项所述的转印用施主基板,其中,在所述光热转换层的上表面形成有分区图案。6.一种器件的制造方法，包括下述工序 使权利要求1 5中任一项所述的转印用施主基板与器件基板对置的工序；及 通过对所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅原正明，谷村宁昭，藤森茂雄，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：
国别省市：