The invention provides an exposure device and a device manufacturing method. An exposure device through the liquid on the substrate is irradiated with exposure light to make the substrate exposure, has a projection optical system, like through the liquid through the film; the movable member for supporting the substrate and mobile; liquid supply mechanism, from the top of the movable member through the supply port of the projection optical system of liquid supply; and the liquid recovery mechanism, from the top of the movable member through the suction port of the liquid and gas supply will be recovered together; the liquid recovery mechanism has a mouth and recovery from the attraction detector and gas separation of the liquid contained in the tank, and detecting the amount of liquid tank.
【技术实现步骤摘要】
曝光装置、器件制造方法本申请是申请号为201410333238.6、申请日为2004年7月26日、专利技术名称为“曝光装置、器件制造方法”的专利技术专利申请的分案申请。其中,申请号为201410333238.6的申请是申请号为200480021856.1、申请日为2004年7月26日、专利技术名称为“曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种通过投影光学系和液体对基板进行曝光的曝光装置、使用该曝光装置的器件制造方法、及曝光装置的控制方法。
技术介绍
半导体器件或液晶显示器件通过将形成于掩模上的图形转印到感光性基板上的所谓的光刻方法制造。该光刻工序使用的曝光装置具有支承掩模的掩模台和支承基板的基板台,一边依次移动掩模台和基板台,一边通过投影光学系将掩模的图形转印到基板。近年来,为了应对器件图形的更进一步的高集成化,希望获得投影光学系的更高的析像度。使用的曝光波长越短、投影光学系的数值孔径越大时,投影光学系的析像度越高。为此,曝光装置使用的曝光波长逐年变短,投影光学系的数值孔径也增大。现在主流的曝光波长为KrF受激准分子激光的248nm,但更短波长的ArF受激准分子激光的193nm也正得到实用化。另外,当进行曝光时,与析像度同样,焦深(DOF)也变得重要。析像度R和焦深δ分别用下式表示。R=k1·λ/NA…(1)δ=±k2·λ/NA2…(2)其中,λ为曝光波长,NA为投影光学系的数值孔径,k1、k2为过程系数。从(1)式、(2)式可知,当为了提高析像度R而减小曝光波长λ、增大数值孔径NA时,焦深δ变窄。当焦 ...
【技术保护点】
一种曝光装置,透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光,其特征在于,具备:投影光学系统,将像透过液体透影;可动构件,支承该基板并移动;液体供应机构,从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体;以及液体回收机构,从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收;该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
【技术特征摘要】
2003.07.28 JP 2003-281183;2004.02.20 JP 2004-045101.一种曝光装置,透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光,其特征在于,具备:投影光学系统,将像透过液体透影;可动构件,支承该基板并移动;液体供应机构,从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体;以及液体回收机构,从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收;该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。2.如权利要求1所述的曝光装置,其中,在该槽的下部连接有使液体从该槽流动的流路;在该槽收容有既定量以上的液体时,设在该流路的阀作动使该流路开放。3.一种曝光装置,透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光,其特征在于,具备:投影光学系统,将图案像透过该液体透影至该基板上;吸引口,连通于吸引系统;分离器,将从该吸引口吸入的液体与气体分离;以及干燥器,使被该分离器分离后的该气体干燥。4.如权利要求3所述的曝光装置,其中,以该干燥器...
【专利技术属性】
技术研发人员:马込伸贵,小林直行,
申请(专利权)人:株式会社尼康,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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