软光刻用实验台制造技术

软光刻用实验台，包括箱体，箱体安装有单片机控制台，还安装有照明系统、加热系统、紫外光照系统及压力控制系统；箱体底部为一个水平度可调节的操作台，操作台上有夹具；箱体内顶部安装有光源装置，照明系统的日光灯、加热系统的碘钨灯和紫外光照系统的紫外灯安装在其中；加热系统还包括箱体内两侧壁上的温度传感器和操作台两侧的加热器；压力控制系统包括与箱体联通的真空泵，真空泵旁安装有气压表。该软光刻用实验台，成本相对低廉，可以实现元尘、恒温、压力可控、紫外光照等多种功能，满足普通实验室进行微传递模塑等软光刻操作的要求，解决了普通实验室因加工设备比较昂贵，难以购置软光刻所需的多台设备的问题。

Experimental platform for soft lithography

Soft lithography experiment desk, which comprises a box body, a box provided with MCU console, also installed the lighting system, heating system, UV illumination system and pressure control system; the bottom of the box for a bench level adjustment, operation fixture table; box top mounted light source device, ultraviolet lamp fluorescent lamp illumination system, heating system and lamp UV light system is installed in the heating system; also includes a box on the wall on both sides of the temperature sensor and the operating table includes both sides; and the vacuum pump box Unicom pressure control system, vacuum pump are installed beside the barometer. The soft lithography experiment, relatively low cost, can realize the function of temperature, pressure, dust control, UV light etc., meet the ordinary laboratory micro transfer molding soft lithography operation requirements, solve the common laboratory for processing equipment is relatively expensive, it is difficult to purchase the required soft lithography equipment problems.

【技术实现步骤摘要】
软光刻用实验台
本专利技术涉及软光刻

技术介绍
微纳技术是现代科技的前沿研究方向之以，在很多领域都得到了广泛应用.微纳加工技术作为微纳技术的基础，也因此获得了越来越广泛的需.传统微纳加工主要依赖光刻-蚀刻方法，它对半导体，特别是集成电路产业的发展起到了重要推动作用。但是，这种方法仪器昂贵，场地和人员要求都很高，很难广泛应用。软光刻的出现，解决了传统微加工技术面临的很多难题。它以表面自组装和复制模塑为基础，以表面有特定图案和微结构的弹性橡胶，如聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane，PDMS)为母板，可以实现微接触印制(mierocontactprinting，CP)”，复制模塑(replicamolding，REM)，微传递模塑(micro—transfermolding，μTM)，毛细管微模塑(micromoldingincapillaries，MIMIC)，溶剂辅助的微模塑(solvent—assistedmicromolding，SAMIM)等多种加工方法。软光刻技术具有操作方便、效率高、成本低、加工精度高、成型模式多样等很多优点，在微纳加工领域得到了越来越广泛的应用。与光刻类似，在软光刻工艺流程中，一个清洁无尘的环境是必要的。加工得到的微结构一般都是纳米或微米级的，即使很细微的灰尘，都有可能影响到最终成型结构的质量。同时，在加工有机材料时，常常需要对液态聚合物前体加热并恒温静置凝固。而且，由于液态前体在聚合成型前会溶解一些气体，为了防止在成型后的聚合物中有气泡出现，需要利用一定的真空度来除去溶液中的气体。此前，软光刻都需要在超净室或者超净台上完成。而且，根据加工任务的不同，一般都需要真空烘箱等多台设备才能实现。这样，加工设备一般都比较昂贵，普通实验室难以实现。
技术实现思路
本专利技术提供了一种成本相对低廉的软光刻用实验台，可以实现元尘、恒温、压力可控、紫外光照等多种功能，满足普通实验室进行微传递模塑等软光刻操作的要求，以解决普通实验室因加工设备比较昂贵，难以购置软光刻所需的多台设备的问题。该软光刻用实验台，包括箱体，箱体安装有单片机控制台，还安装有照明系统、加热系统、紫外光照系统及压力控制系统；箱体底部为一个水平度可调节的操作台，操作台上有夹具；箱体内顶部安装有光源装置，照明系统的日光灯、加热系统的碘钨灯和紫外光照系统的紫外灯安装在其中；加热系统还包括箱体内两侧壁上的温度传感器和操作台两侧的加热器；压力控制系统包括与箱体联通的真空泵，真空泵旁安装有气压表。箱体两侧有2个圆孔与伸入箱内的操作手套相连接。该软光刻用实验台，成本相对低廉，可以实现元尘、恒温、压力可控、紫外光照等多种功能，满足普通实验室进行微传递模塑等软光刻操作的要求，解决了普通实验室因加工设备比较昂贵，难以购置软光刻所需的多台设备的问题。附图说明图1为本专利技术的结构示意图。其中，1-箱体，2-单片机控制台，3-气压表，4-真空泵，5-温度传感器；6-加热器；7-操作台；8-光源装置。具体实施方式针对软光刻操作需求，实验台首先应该可以提供一个密闭的操作空间，以排除空气中灰尘的影响。同时，针对PDMS等高聚物的加工要求，需要对液态聚合物前体加热，并长时间保持在一定的温度，因此，实验台应该能实现恒温功能。在液态高聚物成型前，会有气泡出现，需要密闭空间能达到一定真空度来除去这些气泡。此外，紫外光源也需要集成到平台中，以用于部分高聚物的加工。如图1所示，该实验台的主体是一个密闭梯形箱体1，一个单片机控制台2和一台真空泵4。箱体1外壳为2mm厚不锈钢板，前斜面是5mm厚有机玻璃面板(观察窗口)，便于监测和观察加工过程。在紫外照射过程中，窗口由不透光盖板遮盖，防止外界光线的干扰和紫外光对操作人员的伤害。箱体1两侧有2个圆孔与伸入箱内的操作手套相连接。在不破坏封闭环境的情况下，可以通过操作手套对箱内样品进行操作。箱体1内顶部有光源装置8，分别装有照明用的日光灯，焙干用的碘钨灯和起固化作用的紫外灯。此外，箱体1还和压力控制系统连接，保证箱体1内的真空度。压力控制系统包括与箱体1联通的真空泵4，真空泵4旁安装有气压表3。箱体1内两侧壁上有温度传感器5，操作台7两侧的用于较热的加热器6；箱体1底部为一个水平度可调节的操作台7，用来固定待加工的基片材料。平台上的夹具用来保证固定的精度并在加工过程中产生适当的压力。控制台作为整个实验台的控制中心，是基于单片机的控制系统。它能实现设定温度、测定温度以及自动恒温功能。同时还可以将照明系统、加热系统、紫外光照及压力控制系统整合在一体，进行开关控制。该试验台在一个密闭的小型箱体中集成了温度与压力控制、照明及紫外光照、操作手套等组件，可以实现无尘、恒温、压力可控、紫外光照、无尘操作等多种功能。该实验台可用于聚二甲基硅氧烷进行微传递模塑实验研究，考察了温度、压力等对聚二甲基硅氧烷成模特性的影响。同时，还能利用聚二甲基硅氧烷与聚亚胺脂的两次复制完成了硅微芯片结构向玻璃基底的转移。本文档来自技高网...

【技术保护点】
软光刻用实验台，其特征在于：包括箱体(1)，箱体(1)安装有单片机控制台(2)，还安装有照明系统、加热系统、紫外光照系统及压力控制系统；箱体底部为一个水平度可调节的操作台(7)，操作台上有夹具；箱体(1)内顶部安装有光源装置，照明系统的日光灯、加热系统的碘钨灯和紫外光照系统的紫外灯安装在其中；加热系统还包括箱体(1)内两侧壁上的温度传感器(5)和操作台(7)两侧的加热器(6)；压力控制系统包括与箱体(1)联通的真空泵(4)，真空泵(4)旁安装有气压表。

【技术特征摘要】
1.软光刻用实验台，其特征在于：包括箱体(1)，箱体(1)安装有单片机控制台(2)，还安装有照明系统、加热系统、紫外光照系统及压力控制系统；箱体底部为一个水平度可调节的操作台(7)，操作台上有夹具；箱体(1)内顶部安装有光源装置，照明系统的日光灯、加热系统的碘钨灯和紫外光照系统的紫...

【专利技术属性】
技术研发人员：林敏，李蓉，
申请(专利权)人：四川航达机电技术开发服务中心，
类型：发明
国别省市：四川,51