有机EL元件的制造方法和制造装置制造方法及图纸

依次配置蒸镀源（60）、多个限制板（81）和蒸镀掩模（70）。使基板相对于蒸镀掩模以隔开一定间隔的状态相对地移动。从蒸镀源的蒸镀源开口（61）放出的蒸镀颗粒（91），通过相邻的限制板之间，并通过在蒸镀掩模形成的掩模开口（71）附着于基板，而形成覆膜（90）。限制板限制向掩模开口入射的蒸镀颗粒的、沿基板的相对移动方向看时的入射角度。由此，在大型的基板也能够以不扩大像素间距、不降低开口率等的方式形成有机EL元件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及例如能够利用于有机EL (Electro Luminescence :电致发光)显示器等的有机EL元件的制造方法和制造装置。
技术介绍
近年来，不断要求平板面板显示器的大型化、高画质化、低消耗电カ化，能够以低电压驱动且高画质的有机EL显示器受到高度瞩目。例如，在全彩色的有源矩阵方式的有机EL显示器中，在设置有TFT (薄膜晶体管)的基板上设置有薄膜状的有机EL元件。在有机EL元件中，在一对电极之间叠层有包括红色(R)、緑色(G)和蓝色(B)的发光层的有机EL层。在一对电极中的一个电极连接有TFT。而且,通过在ー对电极间施加电压使各发光层发 光来进行图像显示。为了制造有机EL元件，需要以规定的图案形成包括在各种颜色中发光的有机发光材料的发光层。作为以规定图案形成发光层的方法，例如已知有真空蒸镀法、喷镀法、激光转印法。例如在低分子型有机EL显示器(OLED)中，多使用真空蒸镀法。在真空蒸镀法中使用形成有规定图案的开ロ的掩模(也称为荫罩)。使紧密固定有掩模的基板的被蒸镀面与蒸镀源相対。然后，通过使来自蒸镀源的蒸镀颗粒(成膜材料)通过掩模的开ロ蒸镀于被蒸镀面，形成规定图案的薄膜。蒸镀按每种发光层的颜色进行(将这称为“分涂蒸镀”)。例如在专利文献1、2记载有使掩模相对于基板依次移动来进行各种颜色的发光层的分涂蒸镀的方法。在这样的方法中，使用与基板大小相同的掩模，在蒸镀时掩模以覆盖被蒸镀面的方式被固定。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平8-227276号公报专利文献2 :日本特开2000-188179号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题在这样的现有的分涂蒸镀法中，基板变得越大，相应地掩模也需要大型化。但是，当増大掩模时，因掩模的自重弯曲和延伸，而容易在基板与掩模之间产生间隙。因此，难以进行高精度的图案形成，产生蒸镀位置的偏离和/或混色而难以实现高精细化。此外，当増大掩模时，掩模和保持其的框架等变得巨大其重量也増加，因此处理变得困难，存在妨碍生产性和安全性的问题。此外，蒸镀装置和附设在该蒸镀装置的装置也同样变得巨大、复杂，因此，装置设计变得困难，设置成本也变得昂贵。因此，利用现有的分涂蒸镀法难以实现对大型基板的对应，例如对超过60英寸那样的大型基板，不能够实现能够以量产级别进行分涂蒸镀的方法。另ー方面，在有机EL显示器中，不仅大型化而且高分辨率化和高度化也被強烈地期望。因此，需要减小有机EL元件的像素间距，増大开ロ率。本专利技术的目的在于，提供能够以不扩大像素间距、不降低开ロ率等的方式应用于大型的基板的有机EL元件的制造方法和制造装置。用于解决问题的方式 本专利技术的有机EL元件的制造方法是在基板上具有规定图案的覆膜的有机EL元件的制造方法，其具有使蒸镀颗粒附着于上述基板上而形成上述覆膜的蒸镀エ序。在上述蒸镀エ序中，使用包括蒸镀源和蒸镀掩模的蒸镀单元，在使上述基板与上述蒸镀掩模隔开ー定间隔的状态下，ー边使上述基板和上述蒸镀单元中的一个相对于另ー个相对地移动，一边使通过在上述蒸镀掩模形成的多个掩模开ロ的上述蒸镀颗粒附着于上述基板，其中，上述蒸镀源包括放出上述蒸镀颗粒的蒸镀源开ロ，上述蒸镀掩模配置于上述蒸镀源开ロ与上述基板之间。当将上述基板和上述蒸镀单元间的相对移动方向设为第一方向，将与上述第一方向正交的方向设为第二方向时，上述蒸镀单元在上述蒸镀源开ロ与上述蒸镀掩模之间包括在上述第二方向上的位置不同的多个限制板。上述多个限制板中的各个限制板的特征在于对向上述多个掩模开口中的各个掩模开ロ入射的上述蒸镀颗粒的沿上述第一方向看时的入射角度进行限制。本专利技术的有机EL元件的制造装置是在基板上具有规定图案的覆膜的有机EL元件的制造装置，其包括蒸镀单元，其包括蒸镀源和蒸镀掩模，其中，上述蒸镀源包括放出用于形成上述覆膜的蒸镀颗粒的蒸镀源开ロ，上述蒸镀掩模配置于上述蒸镀源开ロ与上述基板之间；和移动机构，其在使上述基板与上述蒸镀掩模隔开一定间隔的状态下，使上述基板和上述蒸镀单元中的一个相对于另ー个相对地移动。在上述蒸镀掩模，形成有从上述蒸镀源开ロ放出的上述蒸镀颗粒通过的多个掩模开ロ。当将上述基板和上述蒸镀单元间的相对移动方向设为第一方向，将与上述第一方向正交的方向设为第二方向时，上述蒸镀单元在上述蒸镀源开ロ与上述蒸镀掩模之间还包括在上述第二方向上的位置不同的多个限制板。上述多个限制板中的各个限制板的特征在于对向上述多个掩模开口中的各个掩模开ロ入射的上述蒸镀颗粒的沿上述第一方向看时的入射角度进行限制。专利技术的效果根据本专利技术，ー边使基板和蒸镀单元中的一个相对于另ー个相对地移动，ー边使通过在蒸镀掩模形成的掩模开ロ的蒸镀颗粒附着于基板，因此，能够使用比基板小的蒸镀掩模。从而，对大型基板也能够进行分涂蒸镀，形成条状的覆膜。此外，限制板对向掩模开ロ入射的蒸镀颗粒的沿第一方向看时的入射角度进行限制，因此，能够对通过掩模开ロ的蒸镀颗粒的前进方向进行管理。从而，即使蒸镀掩模与基板分离，也能够抑制条状的覆膜的两个端边的模糊的产生。其结果是，不需要扩大条状的覆膜的间隔或縮小其宽度等。由此，根据本专利技术，在大型基板能够以不扩大像素间距、不降低开ロ率等的方式形成有机EL元件。其结果是，能够制造高分辨率且高亮度的大型有机EL显示器。附图说明图I是表示有机EL显示器的概略结构的截面图。图2是表示构成图I所示的有机EL显示器的像素的结构的平面图。图3是沿图2的3-3线的构成有机EL显示器的TFT基板的向视图。图4是按エ序顺序表不有机EL显不器的制造エ序的时序图。图5是表示新蒸镀法的基本概念的立体图。图6是沿与基板的走向平行的方向看图5所示的蒸镀装置时的正面图。图7是说明在图5的新蒸镀法中、在覆膜的端边产生的模糊的产生原因的截面图。图8是表示本专利技术的实施方式I的有机EL元件的制造装置的概略结构的立体图。 图9是表示沿与基板的宽度方向垂直的方向看本专利技术的实施方式I的有机EL元件的制造装置时的正面图。图10是表示构成本专利技术的实施方式I的有机EL元件的制造装置的蒸镀单元的、从蒸镀掩模ー侧看时的透视平面图。图11是在本专利技术的实施方式I的有机EL元件的制造装置中，表示蒸镀块内的蒸镀颗粒的流向的、沿图10的11-11线的向视图。图12是本专利技术的实施方式I的有机EL元件的制造装置中，表示蒸镀块内的蒸镀颗粒的流向的、沿图10的12-12线的向视图。图13是本专利技术的实施方式I的有机EL元件的制造装置中，蒸镀块的、从蒸镀掩模一侧看时的透视平面图。图14是构成本专利技术的实施方式2的有机EL元件的制造装置的蒸镀单元的、从蒸镀掩模一侧看时的透视平面图。图15是本专利技术的实施方式2的有机EL元件的制造装置中，表示蒸镀块内的蒸镀颗粒的流向的、沿图14的15-15线的向视图。图16是本专利技术的实施方式2的有机EL元件的制造装置中，蒸镀块的、从蒸镀掩模一侧看时的透视平面图。图17是构成本专利技术的实施方式3的有机EL元件的制造装置的蒸镀单元的、从蒸镀掩模一侧看时的透视平面图。图18是表示构成本专利技术的实施方式3的有机EL元件的制造装置的蒸镀单元的、沿图17的18-18线的向视图。图19是构成本专利技术的实施方式4的有机EL元件的制造装置的蒸镀单元的、从蒸镀掩模一侧看时的透视平面图。图20是构成本发本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：川户伸一，林信广，园田通，井上智，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：
国别省市：