光学元件的制造方法以及光学元件技术

技术编号:15031075 阅读:115 留言:0更新日期:2017-04-05 08:18
本发明专利技术提供一种高效制造在光学元件的透射以及散射区域中抑制了响应不均的发生的光学元件的方法。本发明专利技术之一的光学元件的制造方法具有:在至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基板的一块基板上涂布含有吸收端的波长为λSmax的光聚合引发剂S的固化性树脂组合物、形成堰状部的工序;和在上述堰状部的内侧涂布含有液晶化合物、固化性化合物以及吸收端的波长为λTmax的光聚合引发剂T的液晶组合物的工序;和在一块基板上重叠另一块基板的工序;和从透明基板面侧对上述堰状部照射峰波长λS在λTmax以上、比λSmax短的第一光、形成密封部的工序;和从透明基板面侧对上述液晶组合物照射峰波长λT比λTmax短的第二光、形成光电学功能层的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有通过电压的施加而使光学特性发生变化的光电学功能层的光学元件的制造方法与光学元件。
技术介绍
已知具有被至少一个上设有电极的一对透明基板和上述透明基板间所夹持、由液晶化合物和柱状树脂的复合体构成、可对入射光的透射和散射进行电切换的光电学功能层的光学元件(例如专利文献1)。专利文献1中记载了在将一对透明基板通过设置在其周缘部的环氧树脂相对地贴合而成的液晶晶胞中注入液晶和柱状树脂的前体(固化前的组合物),对前体照射紫外线、形成柱状树脂的制造方法。近年来,期待利用该光学元件的光电学特性、将其应用于调光玻璃或投影显示器用屏幕等中。因此,要求提出可大面积或者大量生产光学元件的制造方法。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开2005-202391号公报专利文献2:国际公开第2013-027548号
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题作为液晶面板的制造方法,已知真空注入法和液晶滴下工法(OneDropFilling法,以下称为ODF法。)。专利文献1中记载的液晶面板的制造方法为真空注入法。ODF法的一例是在一对的带透明电极的基板的任一块的周缘上形成紫外线固化型的固化性树脂组合物的堰状部,以堰状部所包围的区域中不与上述树脂组合物接触的方式使用分配器或喷墨头等涂布液晶材料,在减压环境下与另一块基板贴合,之后,在常压环境下对固化性树脂组合物照射紫外线使其固化形成密封部,得到液晶面板的方法。如果用以往的ODF法来制造专利文献1中所述的光学元件,则在对堰状部的紫外线固化型的固化性树脂组合物照射紫外线时,由于其漏光,光学元件的前体材料部分固化。因此,光学元件有在漏光的照射部和非照射部间因施加电压而发生变化的透射/散射响应不同的现象(响应不均)产生的问题。真空注入法中,在将前体注入液晶晶胞的注入口上涂布紫外线固化性树脂组合物,照射紫外线形成密封部。因此,与上述的ODF法的情况相同,得到的光学元件有发生响应不均的问题。该问题虽然如专利文献1中记载的方法那样在一个一个制作液晶晶胞时不成为问题,但在大量制造液晶晶胞时有产生问题之虞。另一方面,专利文献2中,记载了利用ODF法制造改善了烧结的光学元件的方法。专利文献2中记载的方法的特征在于,导入了在构成与液晶相的界面的面上形成聚合物层的高分子稳定化工序。具体而言,记载了一种液晶表示装置的制造方法,其具有在一块基板的表面滴下含有液晶材料以及单体的液晶组合物的工序,和沿上述一块基板的外缘涂布密封材料、通过照射比上述单体的吸收波长端长40nm以上的长波长的光来固化密封材料的工序,和对上述液晶组合物照射光使单体聚合的工序。专利文献2中公开的方法虽然能够抑制响应不均,但由于对密封材料进行固化的光的波长长,因此化合物的反应性变低,难以高效地进行制造。本专利技术是鉴于上述问题而完成的,其目的在于,提供高效制造在光学元件的透射以及散射区域(以下,称为工作区域。)中抑制了响应不均的发生的光学元件的方法。此外,本专利技术的目的在于,提供在工作区域中抑制了响应不均的发生的光学元件。解决技术问题所采用的技术方案本专利技术是解决上述问题的专利技术。本专利技术之一的光学元件的制造方法具有:在至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基板的一块基板上涂布含有吸收端的波长为λSmax的光聚合引发剂S的固化性树脂组合物、形成堰状部的工序;和在上述堰状部的内侧涂布含有液晶化合物、固化性化合物以及吸收端的波长为λTmax的光聚合引发剂T的液晶组合物的工序;和在一块基板上重叠另一块基板的工序;和从透明基板面侧对上述堰状部照射峰波长λS在λTmax以上、比λSmax短的第一光、形成密封部的工序;和从透明基板面侧对上述液晶组合物照射峰波长λT比λTmax短的第二光、形成光电学功能层的工序。本专利技术的光学元件的制造方法中,在一块基板上重叠另一块基板的工序可在常压下进行,也可在减压下进行。从防止光学元件的缺陷的方面出发,重叠上述基板的工序优选在减压下进行。本专利技术的光学元件的制造方法只要具有上述工序则对其顺序没有特别限定。例如,可在形成密封部的工序之后,在一块基板上层叠另一块基板。本专利技术的另一光学元件的制造方法具有:将至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基板相对配置,对在一对基板的周缘部具有第二密封部和注入口的液晶晶胞从上述注入口真空注入含有液晶化合物、固化性化合物以及吸收端的波长为λTmax的光聚合引发剂T的液晶组合物的工序;和在上述注入口涂布含有吸收端的波长为λSmax的光聚合引发剂S的固化性树脂组合物,对上述固化性树脂组合物照射峰波长λS在λTmax以上且比λSmax短的第一光、形成密封部的工序;和从透明基板面侧对上述液晶组合物照射峰波长λT比λTmax短的第二光、形成光电学功能层的工序。本专利技术的光学元件具有:在至少一方上形成有电极的一对透明基板,和设于上述一对透明电极的周缘部的密封材料,和存在于上述一对透明基板和密封材料所包围的区域中、通过电压的施加可控制透射光的状态和散射光的状态的光电学功能层;密封材料和光电学功能层含有光聚合引发剂,密封材料中含有的光聚合引发剂S的吸收端的波长λSmax比光电学功能层中含有的光聚合引发剂T的吸收波长λTmax长。专利技术的效果如果采用本专利技术的光学元件的制造方法,则在光学元件的制造工序中,可在密封部的形成中不使工作区域的组合物固化,在密封部被固化后工作区域的组合物再固化。因此,抑制了工作区域与密封部邻接的区域中响应不均的发生。此外,本专利技术可得到工作区域与密封部邻接的区域中不存在响应不均的光学元件。附图说明图1是本实施方式的ODF法的形成堰状部的工序的俯视图。图2是本实施方式的ODF法的涂布液晶组合物的工序的俯视图。图3是用本实施方式的ODF法得到层叠体的工序的剖面图。图4是本实施方式的ODF法的形成密封部的工序的俯视图。图5是用本实施方式的ODF法得到的光学元件的俯视图。图6是本实施方式的ODF法的形成堰状部的工序的俯视图。图7是本实施方式的ODF法的切断光学元件的工序的俯视图。图8是液晶晶胞的剖面图。图9是用本实施方式的真空注入法形成密封部的工序的剖面图。图10是表示乙腈溶液的Irgacure819的吸收特性的图。图11是表示乙腈溶液的BiPE的吸收特性的图。图12是例1~5中光电学功能层的形成中使用的化学灯的光发色分布图。具体实施方式参照附图对本专利技术之一的光学元件的制造方法的一实施方式进行说明。(第一实施方式)本专利技术之一的光学元件的制造方法的第一实施方式具有:在至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基板的一块基板的周缘部上涂布含有吸收端的波长为λSmax的光聚合引发剂S的固化性树脂组合物、形成堰状部的工序;和在上述堰状部的内侧涂布含有液晶化合物、固化性化合物以及吸收端的波长为λTmax的光聚合引发剂T的液晶组合物的工序;和在减压气氛下在一块基板上重叠另一块基板、得到用一对基板和未固化的堰状部密封液晶组合物而得的层叠体的工序;从透明基板面对上述堰状部照射峰波长λS在λTmax以上、比λSmax短的第一光、形成密封部的工序;和从透明基板面侧对上述液晶组合物照射峰波长λT比λTmax短的第二光、形成光电学功能层的工序。(形成堰状部的工序)本实施方式具有在基板2的周缘部涂布固化性树脂组合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件的制造方法,其特征在于,具有:在至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基板的一块基板上涂布含有吸收端的波长为λSmax的光聚合引发剂S的固化性树脂组合物、形成堰状部的工序;和在所述堰状部的内侧涂布含有液晶化合物、固化性化合物以及吸收端的波长为λTmax的光聚合引发剂T的液晶组合物的工序;和在一块基板上重叠另一块基板的工序;和从透明基板面侧对所述堰状部照射峰波长λS在λTmax以上且比λSmax短的第一光、形成密封部的工序;和从透明基板面侧对所述液晶组合物照射峰波长λT比λTmax短的第二光、形成光电学功能层的工序。

【技术特征摘要】
2015.09.25 JP 2015-1884921.一种光学元件的制造方法,其特征在于,具有:在至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基板的一块基板上涂布含有吸收端的波长为λSmax的光聚合引发剂S的固化性树脂组合物、形成堰状部的工序;和在所述堰状部的内侧涂布含有液晶化合物、固化性化合物以及吸收端的波长为λTmax的光聚合引发剂T的液晶组合物的工序;和在一块基板上重叠另一块基板的工序;和从透明基板面侧对所述堰状部照射峰波长λS在λTmax以上且比λSmax短的第一光、形成密封部的工序;和从透明基板面侧对所述液晶组合物照射峰波长λT比λTmax短的第二光、形成光电学功能层的工序。2.如权利要求1所述的光学元件的制造方法,其特征在于,在所述形成密封部的工序中,一边沿着所述堰状部的位置扫描光源一边照射所述第一光。3.如权利要求1或者2所述的光学元件的制造方法,其特征在于,在所述形成光电学功能层的工序中,对所述透明基板的至少下述区域照射所述第二光,所述区域是形成所述光电学功能层的区域。4.一种光学元件的制造方法,其特征在于,具有:对于将至少一块上形成电极、至少一块为透明的一对基...

【专利技术属性】
技术研发人员:新山聪川上玲美
申请(专利权)人:旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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