有机膜的烧制装置以及具有由该装置烧制的有机膜的有机元件制造方法及图纸

在对通过涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置中，防止水分向有机膜的侵入，防止因水分造成的有机元件的劣化。烧制装置（3）具备用来投入形成有有机膜的基板（4）的投入部（5）、将基板（4）上的有机膜中含有的溶剂加热除去来对该有机膜进行烧制的烧制部（6）、和用来从烧制部（6）将基板（4）取出的取出部（7）。投入部（5）、烧制部（6）及取出部（7）各自的内部被作为气体环境划分。由此，防止含有水分的溶剂成分从烧制前及烧制中的有机膜向烧制后的有机膜侵入，能够提供高品质、没有缺陷的有机膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对由涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置以及具有由该装置烧制的有机膜的有机元件。
技术介绍
以往，作为具有有机层的有机元件，已知有有机EL元件(有机电致发光元件)及有机太阳能电池。有机EL元件是通过施加电压而向有机层注入电子和空穴(空子)、使注入到有机层中的电子与空穴再结合、在该再结合时使有机层中的发光物质发光的发光元件。有机太阳能电池是通过对有机层照射光而产生空穴和电子、将电カ向外部取出的受光元件。这些有机元件在透光性的基板上依次形成透明电极、多个有机层、及阴极层。在有机元件的形成中，将透明电极通过溅镀法等形成，将透明电极以外的层利用全部通过蒸镀法形成的方法、通过涂敷法及蒸镀法的两方法形成的方法、全部通过涂敷法形成的方法中的某种方法形成。已知有将有机层中的空穴注入层用涂敷法形成在透明电极上、在该空穴注入层之上用蒸镀法形成有其他层的有机EL元件(例如，參照专利文献I)。这样形成的有机EL元件由于空穴注入层被平坦地涂敷、其他层被蒸镀到平坦的空穴注入层之上而平坦地形成，所以发光量被均匀化，防止因电流集中到一部分而造成的耐久性的下降。在有机太阳能电池的形成中也同样，希望将至少I层的有机层用涂敷法形成。另外，有机EL元件如果在暴露于大气中的状态下放置，则通过大气中的水分而劣化，例如发生称作暗斑(dark spot)的非发光区域，它随着时间的经过而扩大。为了防止这样的因水分造成的劣化，已知有将透明电极、有机层及阴极层用密封层密封的有机EL元件(例如，參照专利文献2 )。对具有密封层的有机EL元件而言，形成密封层时的密封层内的水分浓度管理是重要的，已知有使水分的管理浓度为IOppm以下的有机EL元件(例如，參照专利文献3)。形成密封层后的防止向密封层内的水分的侵入也是非常重要的，已知形成密封层物质及密封层时的气体环境(日本语雰囲気)的水分浓度管理也应以极微量进行管理。此外，在有机太阳能电池中，也需要防止因水分造成的劣化(例如，參照专利文献4)。但是，在有机元件中，将有机层用涂敷法形成、和防止因水分造成的劣化不容易兼顾。例如，如果涂敷液的溶剂是含有水的物质，则其水向有机层侵入。即使溶剂不是含有水的物质，也有在涂敷中吸收气体环境中的水分的可能性。通过涂敷法形成的有机膜被减压干燥或加热干燥，在基板上成为固体膜的有机层。该有机层在刚刚干燥后，膜中的水分极少，但之后有在向下个エ序进行前侵入微量的水分的可能性。例如，气体环境中的水分附着到有机层上而侵入。侵入了水分的有机层在进一歩形成了上层的情况下，水分的除去变得非常困难。此外，侵入了水分的有机层如果被照射能量高的光，则发生光氧化反应而劣化。现有技术文献专利文献专利文献I :国际申请W02003/053109说明书专利文献2 日本特开2002 — 50470号公报专利文献3 :日本特开平9 一 35868号公报专利文献4 :日本特开2009 — 099805号公报
技术实现思路
专利技术概要专利技术要解决的技术问题本专利技术是解决上述问题的，目的是提供一种对通过涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置；以及在具有由该装置烧制的有机膜的有机元件中防止水分向有机膜的侵入、防止因水分造成的有机元件的劣化、高品质而没有缺陷的有机元件。 用于解决技术问题的手段为了达到上述目的，本专利技术是一种对作为有机EL元件或有机太阳能电池的有机元件具有的通过涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置，具备投入部，用来投入形成有有机膜的基板；烧制部，将上述基板上的有机膜所含有的溶剂加热除去，来对该有机膜进行烧制；取出部，用来从上述烧制部将上述基板取出；上述投入部、烧制部及取出部的各自的内部被作为气体环境划分。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，上述烧制部具有多个烧制有机膜的处理空间；各个上述处理空间被作为气体环境划分。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，在上述取出部的后级具备向烧制后的有机膜上蒸镀别的膜的蒸镀装置，从上述取出部向上述蒸镀装置将基板在80°C以上的状态下搬送。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，当从上述取出部将基板搬出时，上述基板与热容比该基板大的保温板密接。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，从上述取出部向上述蒸镀装置将基板在相対湿度10%以下的气体环境中搬送。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，上述烧制部以将内部减压的方式构成，来对上述有机膜进行干燥。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，上述取出部兼作为上述蒸镀装置具有的加载锁定室。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，具备通过透射分光或反射分光来测量烧制后的上述有机膜的光学常数的分光測量器。本专利技术在上述有机膜的烧制装置中，优选的是，上述投入部、烧制部及取出部的内部被遮光，以使紫外光及波长比规定的波长短的可视光不被照射到上述有机膜。本专利技术是ー种具有通过上述有机膜的烧制装置烧制得到的有机膜的有机元件。专利技术效果根据本专利技术，由于通过涂敷法形成的有机膜的烧制在与烧制前的有机膜不同的气体环境划分中进行，所以能够防止溶剂成分从烧制前的有机膜侵入。此外，由于烧制后的有机膜被取出到与烧制前及烧制中的有机膜不同的气体环境划分中，所以能够防止溶剂成分从烧制前及烧制中的有机膜侵入。因而，即使在溶剂成分中含有水分，也能够防止水分向烧制后的有机膜侵入，能够提供高品质、没有缺陷的有机膜。附图说明图I是具有由有关本专利技术的第I实施方式的烧制装置烧制的有机层的有机EL元件的剖视图。图2是具有由该装置烧制的有机层的有机太阳能电池的剖视图。图3是对该装置的内部进行透视的俯视图。图4是该装置的烧制部的剖视图。图5是对有关本专利技术的第2实施方式的烧制装置的内部进行透视的俯视图。 图6是该装置的烧制部的剖视图。图7是对有关本专利技术的第3实施方式的烧制装置的内部进行透视的俯视图。具体实施例方式(第I实施方式)有关本专利技术的第I实施方式的烧制装置是对有机元件具有的由涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置。有机元件的制造エ序具有在基板上涂敷有机膜的エ序、对涂敷的有机膜进行烧制的エ序、和在烧制的有机膜上蒸镀别的膜的エ序。本实施方式的烧制装置是在其中的、烧制有机膜的エ序中使用的。首先对有机元件进行说明。有机元件是有机EL元件或有机太阳能电池。图I表示有机EL元件I的结构。有机EL元件I具有透光性基板11、形成在其上的由透明导电层构成的透明电极12、作为对置电极的阴极层13、和两电极间的有机层14。有机层14至少具有有机发光层14c，例如具有多个层14a、14b、14c。有机EL元件I是底部发光型的元件，有机发光层14c的发光透过透明电极12和透光性基板11而射出。透光性基板11是透明的玻璃板或塑料板等。透明电极12是用来向有机层14注入空穴的透明导电层，例如是形成为层厚150nm的IT0(铟锡氧化物)。有机层14例如将空穴注入层14a、空穴输送层14b、有机发光层14c依次层叠到透明电极12上而成。空穴注入层14a例如是形成为层厚30nm的PEDOT — PSS (3,4 一こ撑ニ氧噻吩的聚合物与苯こ烯磺酸的聚合物的复合体)。空穴输送层14b例如是形成为层厚30nm的NPD(ニー萘基ー苯氨基ー联苯)。有机发光层14c例如是形成为层厚60nm的Alq (轻基喹啉招络合物)。阴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：葛冈义和，井出伸弘，宫川展幸，宫井隆雄，山本稔，川口敬史，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，龙云股份有限公司，
类型：
国别省市：