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在对通过涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置中，防止水分向有机膜的侵入，防止因水分造成的有机元件的劣化。烧制装置（3）具备用来投入形成有有机膜的基板（4）的投入部（5）、将基板（4）上的有机膜中含有的溶剂加热除去来对该有机膜进行烧制的烧制部（6...该专利属于松下电器产业株式会社;龙云股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过松下电器产业株式会社;龙云股份有限公司授权不得商用。
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在对通过涂敷法形成的有机膜进行烧制的装置中，防止水分向有机膜的侵入，防止因水分造成的有机元件的劣化。烧制装置（3）具备用来投入形成有有机膜的基板（4）的投入部（5）、将基板（4）上的有机膜中含有的溶剂加热除去来对该有机膜进行烧制的烧制部（6...