一种光学镀膜挡边方法技术

本发明专利技术公开了一种光学镀膜挡边方法，它包括：制作掩模版——涂光刻胶——预烘烤——曝光——显影——坚膜——镀膜——脱膜——擦拭干净、镀膜完成，本发明专利技术的一种光学镀膜挡边方法，易于精确控制，适于批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学领域的元器件镀膜方法，尤其是。
技术介绍
目前，光电子技术已经被应用到人们生活中的各个领域，如照相、光显示、红外夜视、各种光电元器件、航天、航空等领域。对光学薄膜的需求体现在高损伤阈值的薄膜、多波段的光学薄膜和保护薄膜这些品种上，特别体现在对光学指标要求较高的高精度膜系、光电功能薄膜和形状各异的镀膜挡边要求上。波长上反映出宽波段，从紫外、可见、近红外到中红外区域(200nm-12000nm)，主要类型有减反膜、高反膜、分光膜、偏振膜、各种窄带和截止滤光片等。对于那些暴露在外面的窗口及透镜等，技术要求很高，不仅要求具有良好的光学性能，如工作波段的透射比高，均匀性好；还要有良好的机械性能和化学性能，如高硬度、 高摩擦、耐热冲击、化学性能稳定等。国内外光学领域镀膜挡边一般使用机械夹具或者高温胶布挡住不需要镀膜的部分，主要存在的技术问题是1、高温胶布的方式需要人员贴附和去除，挡边不均匀，以及经过高温镀膜后，会有参与的胶留在光学镜片上，而且膜系的牢固度和损伤阈值一定程度的降低；2、机械夹具挡边的方式，机械和镜片的加工精度需要配合，但是对于挡边要求很严格的镀膜，很难配合到位；另外，在机械夹具边缘存在阴影，一般有O. 2mm的区域，这样达不到需求的有效通光孔径及其它的加工要求。3、针对比较复杂的挡边要求，机械方式和胶布黏贴方式都无法实现。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供光学镀膜挡边方法，操作方便，能够精确控制、适用于各种镀膜挡边，尤其是复杂的光学镀膜挡边。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是采用铬版或者菲淋版制作掩模版， 掩模版的挡边区域可以为各种非常复杂的图案。掩模版的作用为使得平行紫外光通过有效通光孔径内，即非挡边区域；在挡边区域，平行紫外光被阻止通过。进一步的，在需要镀膜的光学镜片表面均匀涂附光刻胶，并进行预烘；然后在其表面覆盖掩模版，通过一定强度的平行紫外光的选择性照射，使受光照部位(即光学镜片挡边之外的区域，有效通过孔径)的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度。进一步的，采用低浓度的NaOH溶液喷淋曝光光学镜片表面，使其挡边之外区域被感光的光刻胶被溶解掉，没有被感光的光刻胶(挡边区域)仍然存在，再通过去离子水清洗， 这样在光学镜片上就形成与掩模版相同的图案，此时，挡边区域已被光刻胶覆盖住。进一步的，为了增加挡边区域光刻胶图案的牢固地黏附在光学镜片上，本专利技术采用加热方式坚膜，加热温度在40-300°C。进一步的，将挡边位置涂布光刻胶的光学镜片，擦拭干净后，放入镀膜机内，整个面制度减反膜、高反膜、分光膜、偏振膜、各种窄带或截止滤光片等。更进一步的，膜系镀完后，利用喷淋加超声波的方式冲洗，光刻胶可与高浓度的碱液起反应，把覆盖在光学镜片上的光刻胶反应掉，显露出挡边的区域，即挡边处没有镀膜， 剩下的区域为已经镀好膜的有效通光孔径区域。具体实施例本专利技术的的加工流程为制作掩模版——涂光刻胶—— 预烘烤一曝光一显影一坚膜一镀膜一脱膜一擦拭干净，镀膜完成。光用铬版制作掩模版，掩模版上也同样制作与挡边区域一样，制作与102 —样大小的区域能够使得平行紫外光的通过。然后，在整个光学镜片均匀的涂光刻胶，用100°c的温度预烘烤2-10小时；将掩模版贴在涂布好光刻胶的光学镜片上，采用平行紫外光照射曝光102区域，然后，利用NaOH溶液喷淋曝光光学镜片表面，使其挡边之外区域被感光的光刻胶被溶解掉，没有被感光的光刻胶仍然存在，再通过去离子水清洗，这样在光学镜片上就形成与掩模版相同的图案，此时，挡边区域已被光刻胶覆盖住。在整个光学镜片的表面镀膜，膜系直接与镜片接触很牢固的附在光学镜片上，但是光刻胶与光学镜片接触且凸起，采用与高浓度的碱液起反应，把覆盖在光学镜片上的光刻胶反应掉，显露出挡边的区域。权利要求1.，其特征为包含以下流程 Si:采用铬版或者菲淋版制作掩模版，掩模版的作用为阻止紫外光通过； S2在光学镜片表面均匀涂附光刻胶，并进行预烘；然后在其表面覆盖掩模版，通过一定强度的平行紫外光的选择性照射，使受光照部位(即光学镜片挡边之外的区域，有效通过孔径)的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度； S3采用低浓度的NaOH溶液喷淋曝光光学镜片表面，使其挡边之外区域被感光的光刻胶被溶解掉，没有被感光的光刻胶(挡边区域)仍然存在，再通过去离子水清洗，这样在光学镜片上就形成与掩模版相同的图案，此时，挡边区域已被光刻胶覆盖住； S4采用加热方式坚膜，加热温度在40-300°C，使得挡边区域光刻胶图案的牢固地黏附在光学镜片上； S5将挡边位置涂布光刻胶的光学镜片，擦拭干净后，放入镀膜机内镀制减反膜、高反膜、分光膜、偏振膜、各种窄带或截止滤光片； S 6光学镜片的膜系镀完后,利用喷淋加超声波的方式冲洗,光刻胶可与高浓度的碱液起反应，把覆盖在光学镜片上的光刻胶反应掉，显露出挡边的区域，即挡边处没有镀膜，剩下的区域为已经镀好膜的有效通光孔径区域。全文摘要本专利技术公开了，它包括制作掩模版——涂光刻胶——预烘烤——曝光——显影——坚膜——镀膜——脱膜——擦拭干净、镀膜完成，本专利技术的，易于精确控制，适于批量生产。文档编号G03F7/26GK102981369SQ20121055456公开日2013年3月20日 申请日期2012年12月20日 优先权日2012年12月20日专利技术者朱一村, 吴季, 郑熠 申请人:福建福晶科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学镀膜挡边方法，其特征为：包含以下流程S1：采用铬版或者菲淋版制作掩模版:，掩模版的作用为阻止紫外光通过；S2在光学镜片表面均匀涂附光刻胶，并进行预烘；然后在其表面覆盖掩模版，通过一定强度的平行紫外光的选择性照射，使受光照部位（即光学镜片挡边之外的区域，有效通过孔径）的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度；S3采用低浓度的NaOH溶液喷淋曝光光学镜片表面，使其挡边之外区域被感光的光刻胶被溶解掉，没有被感光的光刻胶（挡边区域）仍然存在，再通过去离子水清洗，这样在光学镜片上就形成与掩模版相同的图案，此时，挡边区域已被光刻胶覆盖住；S4采用加热方式坚膜，加热温度在40?300℃，使得挡边区域光刻胶图案的牢固地黏附在光学镜片上；S5将挡边位置涂布光刻胶的光学镜片，擦拭干净后，放入镀膜机内镀制减反膜、高反膜、分光膜、偏振膜、各种窄带或截止滤光片；S6光学镜片的膜系镀完后，利用喷淋加超声波的方式冲洗，光刻胶可与高浓度的碱液起反应，把覆盖在光学镜片上的光刻胶反应掉，显露出挡边的区域，即挡边处没有镀膜，剩下的区域为已经镀好膜的有效通光孔径区域。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱一村，吴季，郑熠，
申请(专利权)人：福建福晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：