感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板技术

本发明专利技术涉及感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板。本发明专利技术还涉及感光性导电膜的制造方法，其特征在于，在支撑膜上涂布含有导电性纤维、以及水和/或有机溶剂的导电性纤维分散液，干燥之后，涂布感光性树脂组合物的溶液并干燥。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板，特别涉及可用于液晶显示元件等平板显示器、触摸屏、太阳能电池等装置的电极配线的导电图形的形成方法以及导电膜基板。
技术介绍
在个人电脑、电视等大型电子设备，车载导航、手机、电子字典等小型电子设备，·OA *FA设备等显示设备方面，液晶显示元件、触摸屏的使用得到了普及。对于这些液晶显示元件、触摸屏以及太阳能电池等器件而言，在要求透明的配线、像素电极或端子的一部分中使用有透明导电膜。作为透明导电膜的材料，一直以来，使用对可见光显示高的透过率的IT0(氧化铟锡、Indium-Tin-Oxide)、氧化铟以及氧化锡等。在液晶显示元件用基板等的电极中，对由上述材料形成的透明导电膜进行成图而成的电极已成为主流。作为透明导电膜的成图方法，一般有如下方法形成透明导电膜之后，通过光刻法而形成抗蚀图形，通过湿法蚀刻去除导电膜的规定部分从而形成导电图形。在ITO和氧化铟膜的情况下，蚀刻液一般使用包含盐酸和氯化铁这2种溶液的混合液。ITO膜、氧化锡膜，一般通过溅射法而形成。但是，就该方法而言，因溅射方式的不同、以及溅射功率、气压、基板温度、环境气体种类等的不同，使得透明导电膜的性质容易变化。因溅射条件的变动而导致的透明导电膜的膜质的不同，成为在对透明导电膜进行湿法蚀刻时的蚀刻速度偏差的原因，并容易招致因成图不良而导致的制品的成品率降低。另外，就上述导电图形的形成方法而言，由于经过溅射工序、抗蚀层形成工序以及蚀刻工序，因此工序长,在成本方面也成为大的负担。最近，为了解决上述的问题，进行有如下尝试使用替代IT0、氧化铟以及氧化锡等的材料来形成透明的导电图形。例如，在下述专利文献I中公开有如下导电图形的形成方法在基板上形成含有银纤维等导电性纤维的导电层之后，在导电层上形成感光性树脂层，在其上隔着图形掩模而曝光、显影。现有技术文献专利文献专利文献I :美国专利公开第2007/0074316号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，通过本专利技术人的研究而判明，上述专利文献I中记载的方法，难以在确保基板与导电图形的粘接性的同时实现导电图形的表面电阻率的低电阻率化。另外，将前述导电图形用作配线、像素电极或端子的情况下，需要去除感光性树脂层的工序，而存在有导电图案形成的工序变繁杂化的问题。本专利技术鉴于上述现有技术所具有的问题而开发，其目的在于提供一种感光性导电膜、以及使用该感光性导电膜的导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板，就所述感光性导电膜而言，可在基板上以充分的分辨率来简便地形成与基板的粘接性充分且表面电阻率充分小的导电图形。解决课题的技术方案为了解决上述课题，本专利技术提供一种感光性导电膜，其具备支撑膜、设置于该支撑膜上并含有导电性纤维的导电层、设置于该导电层上的感光性树脂层。·根据本专利技术的感光性导电膜，通过具有上述结构，便可通过如下简便的工序，而以充分的分辨率来形成与基板的粘接性充分且表面电阻率充分小的导电图形；所述简便的工序为，按照使感光性树脂层密合于基板上的方式将感光性导电膜进行层压，将其曝光、显影。在本专利技术的感光性导电膜中，就上述导电层和上述感光性树脂层的层叠体而言，优选将两层的合计膜厚为1 10 U m时，在45(T650nm的波长域处的最小透光率为80%以上。在导电层和感光性树脂层满足这样的条件的情况下，显示面板等处的高辉度化变容易。另外，就本专利技术的感光性导电膜而言，从可容易调整所形成的导电膜的导电性的观点考虑，优选上述导电性纤维为银纤维。从进一步提高基板与导电图形的粘接性和导电膜的成图性的观点考虑，优选上述感光性树脂层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物以及光聚合引发剂。本专利技术另外提供一种导电膜的形成方法，其具备如下工序按照感光性树脂层密合于基板上的方式将本专利技术的感光性导电膜进行层压的层压工序；对基板上的感光性树脂层照射活性光线的曝光工序。根据本专利技术的导电膜的形成方法，通过使用本专利技术的感光性导电膜，并实施上述工序，从而可在基板上容易地形成与基板的粘接性充分且表面电阻率充分小的导电膜。本专利技术另外提供一种导电图形的形成方法，其具备如下工序按照感光性树脂层密合于基板上的方式将本专利技术的感光性导电膜进行层压的工序；对基板上的感光性树脂层的规定部分照射活性光线的曝光工序；通过将曝光过的感光性树脂层显影而形成导电图形的显影工序。根据本专利技术的导电图形的形成方法，通过使用本专利技术的感光性导电膜，并实施上述工序，便可在基板上以充分的分辨率来简便地形成与基板的粘接性充分且表面电阻率充分小的导电图形。本专利技术另外提供一种导电膜基板，其具备有基板、通过本专利技术的导电膜的形成方法而在该基板上形成的导电膜。本专利技术另外提供一种导电膜基板，其具备有基板、通过本专利技术的导电图形的形成方法而在该基板上形成的导电图形。就本专利技术的导电膜基板而言，优选上述导电膜或上述导电图形的表面电阻率为2000 Q/ □以下。专利技术效果根据本专利技术，可提供感光性导电膜、以及使用该感光性导电膜的导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板，所述感光性导电膜可在基板上以充分的分辨率来简便地形成与基板的粘接性充分且表面电阻率充分小的导电图形。附图说明图I是表示本专利技术的感光性导电膜的一个实施方式的模式剖视·图2是用于说明本专利技术的导电图形的形成方法的一个实施方式的模式剖视图。具体实施例方式以下，对本专利技术的优选实施方式进行详细说明。需要说明的是，本说明书中的“(甲基)丙烯酸酯”意为“丙烯酸酯”以及与其对应的“甲基丙烯酸酯”。同样地，“(甲基)丙烯酸”意为“丙烯酸”以及与其对应的“甲基丙烯酸”，“(甲基)丙烯酰基”意为“丙烯酰基”以及与其对应的“甲基丙烯酰基”。图I为表示本专利技术的感光性导电膜的优选的一个实施方式的模式剖视图。图I所示的感光性导电膜10具备有支撑膜I、设置于支撑膜I上并含有导电性纤维的导电层2、设置于导电层2上的感光性树脂层3。以下，分别对构成感光性导电膜10的支撑膜I、含有导电性纤维的导电层2以及感光性树脂层3进行详细说明。作为支撑膜1，例如列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚碳酸酯膜等具有耐热性和耐溶剂性的聚合物膜。它们之中，考虑到透明性、耐热性的观点，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。需要说明的是，就这些聚合物膜而言，由于之后必须可从感光性树脂层去除，因此不可采用实施了不可去除那样的表面处理的膜或者材质等。另外，就支撑膜I的厚度而言，优选为5 300 u m,更优选为1(T200 U m,特别优选为15^100 u m0如果支撑膜的厚度不足5 ym，则存在如下倾向机械强度降低，在为了形成导电层2而涂布导电性纤维分散液、或为了形成感光性树脂层3而涂布感光性树脂组合物的工序中，或者在将曝光了的感光性树脂层3显影之前剥离支撑膜的工序中，支撑膜便容易破裂。另一方面，如果支撑膜的厚度超过300 u m，则存在在隔着支撑膜而将活性光线照射于感光性树脂层的情况下图形的分辨率降低的倾向，另外存在价格变高的倾向。就支撑膜I的雾度值而言，从可使灵敏度和分辨率为良好的观点考虑，优选为0. Of 5. 0%，更优选为0. Of 3. 0%，特别优选为0. Of 2. 0%，极其优选为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性导电膜的制造方法，其特征在于，在支撑膜上涂布含有导电性纤维、以及水和/或有机溶剂的导电性纤维分散液，干燥之后，涂布感光性树脂组合物的溶液并干燥。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山崎宏，
申请(专利权)人：日立化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：