光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法技术

本发明专利技术公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及使用光刻设备制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或更多个管芯) 上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描” 方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式将图案从图案形成装置转移到衬底上。已经提出将光刻投影设备中的衬底浸入到具有相对高折射率的液体(例如水) 中，以便填充投影系统的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台包括：支撑部分，所述支撑部分被配置用于在其上表面上支撑衬底的下表面；以及调节系统，所述调节系统被配置用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元，每个调节单元被配置用于将热能供给至支撑部分的相应的调节区域和/或从支撑部分的相应的调节区域去除热能，每个调节区域被配置成使得它与支撑部分的上表面的一部分相对应，其中所述支撑部分的上表面的该部分的面积在衬底的与由流体处理结构提供的浸没流体相接触的面积的大约50％到大约350％的范围内并且所述支撑部分的上表面的该部分具有在1至大约2之间的长宽比...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：J·G·C·昆尼，J·H·W·雅各布斯，C·C·W·沃斯帕盖特，R·范德哈姆，I·A·J·托马斯，M·霍本，T·S·M·劳伦特，G·M·M·考克兰，R·H·M·J·布洛克斯，G·彼得斯，P·L·J·岗特尔，M·J·里米，S·C·R·德尔克斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：