用于平板显示器的化学气相沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种用于平板显示器的化学气相沉积（chemical?vapor?deposition；CVD）装置，所述装置包括：基座，用于支撑基板；真空室，在所述真空室中对所述基板执行沉积工艺，且所述真空室包括形成于其底部中心区域上并使用于向上/向下移动所述基座的柱穿过其中的柱通孔、以及与所述柱通孔间隔开的真空抽吸端口；以及真空抽吸控制单元，其与所述真空抽吸端口相连接并控制所述真空室中的抽吸位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于平板显示器的化学气相沉积装置，更具体而言，涉及如下一种用于平板显示器的化学气相沉积装置其中调整真空室内的抽吸位置，以使所述真空室内的压力分布均匀，因此提高对基板的沉积品质，并在结构上改良用于相对于所述真空室放入或取出基板的狭缝阀总成。
技术介绍
平板显示器已被广泛用作电视机、计算机等的显示器、以及个人移动终端。存在各种平板显示器，例如液晶显示器(liquid crystal display ;LCD)、等离子体显示面板 (plasma display panel ;PDP)、有机发光二极管(organic light emitting diode ；0LED)坐寸ο有机发光显示器(organic light emitting display ;0LED)为基于其自身中的有机材料的发光而显示彩色图像的超薄显示器，鉴于其结构简单及光学效率高，有机发光显示器已作为下一代颇有前景的平板显示器而受到关注。为制造此种有机发光显示器(OLED)的基板，需重复地实现对无机材料的沉积及图案化工艺，以在基板上形成薄膜晶体管(thin film transistor ;TFT),并本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于平板显示器的化学气相沉积装置，所述装置包括：基座，用于支撑基板；真空室，在所述真空室中对所述基板执行沉积工艺，且所述真空室包括：柱通孔，形成于所述真空室的底部中心区域上并使用于向上/向下移动所述基座的柱穿过其中；以及真空抽吸端口，与所述柱通孔间隔开；以及真空抽吸控制单元，其与所述真空抽吸端口相连接并控制所述真空室中的抽吸位置。

【技术特征摘要】
2011.09.05 KR 10-2011-0089405;2011.09.16 KR 10-201.一种用于平板显示器的化学气相沉积装置，所述装置包括 基座，用于支撑基板； 真空室，在所述真空室中对所述基板执行沉积工艺，且所述真空室包括柱通孔，形成于所述真空室的底部中心区域上并使用于向上/向下移动所述基座的柱穿过其中；以及真空抽吸端口，与所述柱通孔间隔开；以及 真空抽吸控制单元，其与所述真空抽吸端口相连接并控制所述真空室中的抽吸位置。2.如权利要求I所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述真空抽吸控制单元包括 抽吸控制通道，具有大于所述真空抽吸端口的横截面积并与所述真空抽吸端口相连通；以及 抽吸控制盖，用于自上侧覆盖所述抽吸控制通道并以穿透方式形成有多个彼此间隔开的抽吸控制孔，以与所述抽吸控制通道相连通。3.如权利要求2所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述多个抽吸控制孔相对于穿过所述柱通孔及所述真空抽吸端口的参考线而对称地设置。4.如权利要求2所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述多个抽吸控制孔包括相对于穿过所述柱通孔及所述真空抽吸端口的参考线而对称地设置的两个抽吸控制孔。5.如权利要求2所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述抽吸控制通道自所述真空室的底部凹陷预定的深度。6.如权利要求5所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述抽吸控制通道具有关于穿过所述柱通孔及所述真空抽吸端口的参考线而对称的环形形状或U形形状其中之一。7.如权利要求5所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述抽吸控制盖包括 顶部，其上形成有所述多个抽吸控制孔；以及 侧部，自所述顶部延伸并向下弯曲。8.如权利要求7所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述侧部形成有自其底部凹陷预定深度的沟槽，以及 所述真空室的所述底部形成有肋，所述肋欲被插入于所述沟槽中。9.如权利要求8所述的化学气相沉积装置，还包括设置于所述沟槽与所述肋之间的O形环。10.如权利要求7所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述侧部形成有自其底部突出的插入突出部，以及 所述真空室的所述底部形成有插入孔，所述插入突出部强制配合于所述插入孔。11.如权利要求I所述的化学气相沉积装置，还包括基座支架，耦合至所述真空室中的所述柱，在其顶部的至少一个区域处被接触支撑于所述基座的后部上，并用于支撑所述基座的下侧，以防止所述基座下垂。12.一种用于平板显示器...

【专利技术属性】
技术研发人员：金荣敏，李春秀，权泰均，朴美星，郑元基，
申请(专利权)人：SFA工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：