真空镀膜装置制造方法及图纸

一种真空镀膜装置，包括真空沉积腔室、位于真空沉积腔室内的托架和靶材，托架为网状的穹顶结构，托架之环部通过环状滚珠轴承支撑在位于真空沉积腔室内的环形支撑架，托架之环部侧部为齿条，并与位于真空沉积腔室内的驱动齿轮啮合，驱动齿轮上转轴延伸出真空沉积腔室后，由控制马达驱动转动，靶材位于该穹顶结构下方，还设有一个可控制靶材加热挥发的加热机构，穹顶结构与真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对托架上的工件加热的电热丝加热体，加热机构为安装于真空沉积腔室内的、可放置靶材的槽状金属加热体，槽状金属加热体两侧设有一对电极，对电极另一端引出于真空沉积腔室后，分别与电源变压器之次级绕组引出端连接。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于镀膜设备，特别涉及一种在真空沉积腔室内对工件镀膜的加工装置。
技术介绍
真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用，特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现，给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜就是加热靶材，使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。溅射镀膜，就是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本专利技术提供了一种基于真空溅射沉积技术的真空镀膜装置，该装置简单实用，操作方便。本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种真空镀膜装置，包括真空沉积腔室、位于该真空沉积腔室内的托架和靶材，该托架为表面能放置镀膜工件的网状型穹顶结构，该托本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜装置，包括真空沉积腔室(1)、位于该真空沉积腔室内的托架(2)和靶材(3)，其特征在于：该托架(2)为表面能放置镀膜工件的网状型穹顶结构，该托架之环部(11)通过环状滚珠轴承(12)支撑在位于该真空沉积腔室内的环形支撑架(4)，该托架之环部(11)侧部为齿条，并与位于该真空沉积腔室内的驱动齿轮(5)啮合，而该驱动齿轮(5)上转轴(51)延伸出该真空沉积腔室后，由控制马达(6)驱动转动，该靶材(3)位于该穹顶结构下方，还设有一个可控制该靶材加热蒸发的加热机构，该穹顶结构与该真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对该托架(2)上的工件(100)加热的预加热机构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄水祥，
申请(专利权)人：御林汽配昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：