【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于真空镀膜设备,特别涉及一种通过转换镀膜工件位置实现蒸发镀膜的加工设备。
技术介绍
真空镀膜是指需要在较高真空度下进行镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种。 对于蒸发镀膜,一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片(或称工件)表面,通过成膜过程形成薄膜。厚度均匀性和组分均匀性主要取决于工件材料与靶材的晶格匹配程度;工件表面温度;靶材蒸发功率和速率;镀膜真空度;镀膜时间和厚度大小。当调整了工件镀膜温度和真空度,以及靶材蒸发条件后,就需要按照工件特定要求,需要通过合理设置的传机构来连续转换镀膜工件位置,才能确保工件镀膜质量,尤其对于如汽车轮毂之类的大型工件显得特别重要。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供了一种改进真空镀膜机传动机构,通过连续调整镀膜工件位置达到工件镀膜均匀度,提高了效率。本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种改进真空镀膜传动机构,包括第一旋转支架、第二旋转支架以及能驱动该第二旋转支架连带该第一旋转支架往 ...
【技术保护点】
一种改进真空镀膜传动机构,包括第一旋转支架、第二旋转支架以及能驱动该第二旋转支架连带该第一旋转支架往复转动的马达(22),该第一、第二旋转支架位于真空腔室内,该真空腔室由底座(1)和安装于该底座的穹顶罩(2)组成,其特征在于:其中:1)该第一旋转支架包括固定于该穹顶罩(2)顶部转动轴(28)的第一上内环(9)、位于该第一上内环(9)外围的第一上外环(10)、两端分别连接于该第一上内环(9)和第一上外环(10)并呈辐射状分布的多个辐条(25)以及第一下环(5),该第一上外环(10)与该第一下环之间通过多个并行的第一直立杆(6)连接固定,对应该第一下环的内边缘,该底座设有多个便 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:黄水祥,
申请(专利权)人:御林汽配昆山有限公司,
类型:发明
国别省市:
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