真空镀膜自动转换装置制造方法及图纸

技术编号:8268341 阅读:173 留言:0更新日期:2013-01-30 23:59
一种真空镀膜自动转换装置包括并排相连的进料室、真空镀膜室和出料室,进料室与真空镀膜室之间以及真空镀膜室与出料室之间分别设有能密封关闭的第二闸门和第三闸门,进料室设有用于托架滑动的第一轨道、控制托架沿第一轨道滑动的第一滑动机构以及能送入托架并密封关闭的第一闸门;真空镀膜室设有能由第一轨道上托架通过第二闸门滑入的第二轨道、控制托架沿第二轨道滑动的第二滑动机构;出料室设有由第二轨道上托架通过第三闸门能滑入的第三轨道、控制托架沿第三轨道滑动的第二滑动机构以及能取出托架并密封关闭的第四闸门,第一、第二和第三滑动机构分别设于对应轨道上并能支撑托架滑动的滚轮组,各滚轮组分别通过对应驱动马达控制滚动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于镀膜设备,特别涉及一种能送料、镀膜和出料连续操作的真空镀膜自动装置。
技术介绍
真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用,特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现,给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。如蒸发镀膜就是加热靶材,使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。·常见的蒸发镀膜就是将放置镀膜工件的托架置于真空沉积腔室内,关闭闸门后,启动控制装置抽真空,启动加热装置对镀膜工件加热,启动加热装置对靶材加热达到靶材蒸发,实现对托架上工件镀膜操作,镀膜工序结束后,打开闸门再取出镀膜工件,再放入下一批镀膜工件,按照上述重复操作。然而,这样操作效率低下。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供一种真空镀膜自动转换装置,能将放置工件、进行真空镀膜和取出镀膜工件连续进行,提高了加工效率。本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜自动转换装置,包括并排相连的进料室(21)、真空镀膜室(20)和出料室(22),其特征在于:该进料室(21)与真空镀膜室(20)之间,以及该真空镀膜室(20)与出料室(22)之间分别设有能密封关闭的第二闸门(23b)和第三闸门(23c),其中:1)该进料室(21)设有用于托架滑动的第一轨道(30a)、控制托架沿该第一轨道(30a)滑动的第一滑动机构以及能送入托架并密封关闭的第一闸门(23a);2)该真空镀膜室(20)设有能由该第一轨道(30a)上托架通过该第二闸门(23b)滑入的第二轨道(30b)、控制托架(46)沿该第二轨道(30b)滑动的第二滑动机构;3)该出料室(22)设有由...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄水祥
申请(专利权)人:御林汽配昆山有限公司
类型:发明
国别省市:

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