【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于镀膜设备,特别涉及一种能送料、镀膜和出料连续操作的真空镀膜自动装置。
技术介绍
真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用,特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现,给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。如蒸发镀膜就是加热靶材,使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。·常见的蒸发镀膜就是将放置镀膜工件的托架置于真空沉积腔室内,关闭闸门后,启动控制装置抽真空,启动加热装置对镀膜工件加热,启动加热装置对靶材加热达到靶材蒸发,实现对托架上工件镀膜操作,镀膜工序结束后,打开闸门再取出镀膜工件,再放入下一批镀膜工件,按照上述重复操作。然而,这样操作效率低下。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供一种真空镀膜自动转换装置,能将放置工件、进行真空镀膜和取出镀膜工件连续进行,提高了 ...
【技术保护点】
一种真空镀膜自动转换装置,包括并排相连的进料室(21)、真空镀膜室(20)和出料室(22),其特征在于:该进料室(21)与真空镀膜室(20)之间,以及该真空镀膜室(20)与出料室(22)之间分别设有能密封关闭的第二闸门(23b)和第三闸门(23c),其中:1)该进料室(21)设有用于托架滑动的第一轨道(30a)、控制托架沿该第一轨道(30a)滑动的第一滑动机构以及能送入托架并密封关闭的第一闸门(23a);2)该真空镀膜室(20)设有能由该第一轨道(30a)上托架通过该第二闸门(23b)滑入的第二轨道(30b)、控制托架(46)沿该第二轨道(30b)滑动的第二滑动机构;3)该 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:黄水祥,
申请(专利权)人:御林汽配昆山有限公司,
类型:发明
国别省市:
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