沉积源及包括这种沉积源的沉积设备制造技术

本发明专利技术提供一种沉积源及包括这种沉积源的沉积设备。所述沉积源包括：掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术实施例的多个方面涉及一种沉积源和包括这种沉积源的沉积设备。
技术介绍
为形成用于电子装置中的精细薄膜，采用了多种方法。尤其是，平板显示装置通过形成多个薄膜制造而成，因此改善薄膜的特性尤为重要。在平板显示装置当中，有机发光显示装置由于相比于其它平板显示装置具有诸如大视角、高对比度以及快响应速度的优点，而被视为下一代显示装置。在有机发光显示装置中，发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成。尤其是，真空沉积方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空沉积方法中，将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中，并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。
技术实现思路
根据本专利技术实施例的多个方面，沉积源能够提高宿主材料和掺杂剂材料的真空沉积区域的均匀性以及宿主材料和掺杂剂材料的真空沉积率，并且沉积设备包括这种沉积源。根据本专利技术实施例，一种沉积源包括掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。所述掺杂剂蒸发源可包括线性蒸发源。所述线性蒸发源的多个喷嘴被布置的方向与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向可彼此交叉。所述线性蒸发源的所述多个喷嘴被布置的方向与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向可彼此垂直。所述掺杂剂蒸发源可包括点状源。所述掺杂剂蒸发源可包括位于所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元之间的第一点状源；以及位于所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元之间的第二点状源。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可包括线性蒸发源。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元中的每一个均可包括沿与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向相同的方向而布置的多个喷嘴。所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元中的每一个均可包括沿与所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元被布置的方向相同的方向而布置的多个喷嘴。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向与所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元被布置的方向可彼此平行。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可具有相同的尺寸和形状。 所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元可具有相同的尺寸和形状。所述第一宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第一蒸发源单元的第一坩埚和所述 第二蒸发源单元的第二坩埚的第一加热单元，所述第一加热单元被配置为对所述第一坩埚和所述第二坩埚进行加热。所述第二宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第三蒸发源单元的第三坩埚和所述第四蒸发源单元的第四坩埚的第二加热单元，所述第二加热单元被配置为对所述第三坩埚和所述第四坩埚进行加热。所述第一宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第一蒸发源单元的第一坩埚且被配置为对所述第一坩埚进行加热的第一加热单元，和环绕所述第二蒸发源单元的第二坩埚且被配置为对所述第二坩埚进行加热的第二加热单元。所述第二宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第三蒸发源单元的第三坩埚且被配置为对所述第三坩埚进行加热的第三加热单元，和环绕所述第四蒸发源单元的第四坩埚且被配置为对所述第四坩埚进行加热的第四加热单元。根据本专利技术另一个实施例，一种沉积设备包括室和用于将沉积材料沉积到被传送至所述室内的沉积目标材料上的沉积源，且所述沉积源包括掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。所述掺杂剂蒸发源可包括线性蒸发源。所述掺杂剂蒸发源可包括位于所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元之间的第一点状源；以及位于所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元之间的第二点状源。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称，并且所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可包括线性蒸发源。附图说明通过参照附图进一步详细地描述本专利技术的某些示例性实施例，本专利技术的上述和其它特征和方面将变得更加明显，在附图中图I是根据本专利技术实施例的包括沉积源的沉积设备的示意性主视图；图2是图I中的沉积设备的示意性侧视图3是根据本专利技术实施例的图I中的沉积源的平面图；图4是根据本专利技术另一个实施例的沉积源的平面图；图5是根据本专利技术另一个实施例的沉积源的平面图；以及图6是根据本专利技术另一个实施例的沉积源的平面图。具体实施例方式在下文中将参照附图更充分地描述本专利技术的某些示例性实施例；然而，本专利技术的实施例可以采用不同的形式来具体实现，而不应当被解释为限于这里所阐述和列举的示例性实施例。更确切地说，以示例方式提供这些示例性实施例是为了理解本专利技术，并且向本领域技术人员传达本专利技术的范围。本领域技术人员应当认识到，可以以均不背离本专利技术的精 神或范围的各种方式修改所描述的实施例。图I是根据本专利技术实施例的包括沉积源100的沉积设备1000的示意性主视图。图2是图I所示的沉积设备1000的示意侧视图。例如，图2可为沉积设备1000的左侧视图或右侧视图。参照图I和图2，根据本专利技术实施例，沉积设备1000包括基板20和位于室10中的沉积源100。为了维持真空或低压状态，一个或多个泵(未示出)可被连接至室10。而且，一个或多个进口和/或出口(未示出)可形成于室10的侧面上，使得基板20可被移入室10中或从室10中移出。基板20是即将在其上沉积期望材料的目标，且可被夹具或支撑物固定。在将基板20固定之后，可执行沉积工艺。沉积源100被布置为面向室10中的基板20。沉积源100可沿基板20的长度方向线性延伸。虽然如图I所示，沉积源100沿一个方向线性延伸，但如图2所示，沉积源100的沿另一个方向的宽度小于基板20的长度。由于沉积源100沿一个方向线性延伸，因此沉积源100可移动，以使材料沉积在基板20的整个表面上。在一个实施例中，如图2所示，沿一个方向或多个方向移动的移动单元30被置于沉积源100之下。由于移动单元30，沉积源100可直线移动，且均匀地或基本均匀地将材料沉积在基板20上。图3是根据本专利技术实施例的图I中的沉积源100的平面图。沉积源100包括第一宿主蒸发源110、第二宿主蒸发源130以及掺杂剂蒸发源150。第一宿主蒸发源110蒸发第一宿主材料。第二宿主蒸发源130蒸发第二宿主材料。掺杂剂蒸发源150蒸发掺杂剂材料。第一宿主蒸发源110可包括第一蒸发源单元IlOa和第二蒸发源单元110b。第一蒸发源单元IlOa可包括坩埚111和第一加热单元113。第二蒸发源单元IlOb可包括坩埚121和第一加热单元113。坩埚111和121填充有用于沉积的沉积材料。在一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积源，包括：掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李钟禹，曹永秀，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：