【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及溅射装置，尤其涉及形成有机发光显示装置的薄膜封装层的溅射装置。
技术介绍
溅射装置为在被沉积对象形成沉积膜的装置。最近，在有机发光显示装置的制造工序中，通过在形成于基板的有机发光器件上交替地层叠无机膜和有机膜来形成将有机发光器件封装的薄膜封装层时，使用溅射装置来形成无机膜。 然而，由于有机发光器件和有机膜所包含的有机物的耐热性较差，因此现有的溅射装置不能在高温下加热基板，从而存在因溅射装置所形成的无机膜的质量降低的问题。
技术实现思路
本专利技术的一实施例用于解决上述的问题，其目的在于提供用于形成将有机发光器件封装的薄膜封装层的、无机膜的质量得以提高的溅射装置。为了实现上述的技术目的，本专利技术一方面提供一种溅射装置，所述溅射装置包括具有磁性的多个靶；位于所述多个靶中相邻的靶之间并且具有磁性的反射体；位于所述靶上、形成引导(guide)微波(microwave)的导引空间并且具有磁性的波导器；以及位于所述波导器上，与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振(electroncyclotron resonance)区域并且具有磁性的限幅器。所...
【技术保护点】
一种溅射装置，包括：多个靶，具有磁性；反射体，位于所述多个靶中相邻的靶之间，并且具有磁性；波导器，位于所述靶上，形成引导微波的导引空间，并且具有磁性；以及限幅器，位于所述波导器上，与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振区域，并且具有磁性。
【技术特征摘要】
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