溅射装置制造方法及图纸

溅射装置包括：具有磁性的多个靶，位于所述多个靶中相邻的靶之间并且具有磁性的反射体，位于所述靶上并形成引导微波的导引空间且具有磁性的波导器，以及位于所述波导器上从而与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振区域并具有磁性的限幅器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及溅射装置，尤其涉及形成有机发光显示装置的薄膜封装层的溅射装置。
技术介绍
溅射装置为在被沉积对象形成沉积膜的装置。最近，在有机发光显示装置的制造工序中，通过在形成于基板的有机发光器件上交替地层叠无机膜和有机膜来形成将有机发光器件封装的薄膜封装层时，使用溅射装置来形成无机膜。 然而，由于有机发光器件和有机膜所包含的有机物的耐热性较差，因此现有的溅射装置不能在高温下加热基板，从而存在因溅射装置所形成的无机膜的质量降低的问题。
技术实现思路
本专利技术的一实施例用于解决上述的问题，其目的在于提供用于形成将有机发光器件封装的薄膜封装层的、无机膜的质量得以提高的溅射装置。为了实现上述的技术目的，本专利技术一方面提供一种溅射装置，所述溅射装置包括具有磁性的多个靶；位于所述多个靶中相邻的靶之间并且具有磁性的反射体；位于所述靶上、形成引导(guide)微波(microwave)的导引空间并且具有磁性的波导器；以及位于所述波导器上，与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振(electroncyclotron resonance)区域并且具有磁性的限幅器。所述靶可以是自旋的。所述靶可以包括在内部形成有圆形空间并且与所述电子回旋共振区域相邻的靶本体、以及与所述靶本体相接并且位于所述圆形空间的第一磁性体。所述反射体可以包括与所述电子回旋共振区域相邻的反射板、以及与所述反射板相邻的第二磁性体。所述波导器可以包括是沿着所述电子回旋共振区域的外围延伸的闭环(closedloop)形态并且形成所述导引空间的导引本体，与所述导引本体连接以向所述导引空间供应所述微波的波供应部，与所述电子回旋共振区域相邻的窗体，位于所述导引本体和所述窗体之间并且沿着所述导引本体延伸并且与所述导引本体相比更接近于所述电子回旋共振区域的第三磁性体，以及贯通所述第三磁性体并且使所述导引空间和所述窗体之间连通的槽。 所述限幅器可以包括互相间隔设置的多个第四磁性体。所述电子回旋共振区域可以具有I微托(μ Torr)至I毫托(mTorr)的压力。等离子体(plasma)可以在所述电子回旋共振区域中放电。所述溅射装置可以形成将形成在基板上的有机发光器件封装的无机膜。根据解决上述本专利技术技术问题的技术方案中的一部分实施例之一，提供使形成将有机发光器件封装的薄膜封装层的无机膜质量得以提高的溅射装置。附图说明图I为根据本专利技术一实施例的溅射装置的截面示意图；图2为图I所示的波导器的立体示意图；图3为通过根据本专利技术一实施例的溅射装置形成沉积膜的示意图。附图标记说明100 :靶；200 :反射体；300:波导器； 400:限幅器。具体实施例方式下面，参考附图，对本专利技术的实施例进行详细的说明，使得所属
的技术人员能够轻易地实施。然而，本专利技术能够以多种不同的方式实施，并不限于在本说明书中说明的实施例。在附图中省略了无关的部分以清楚地说明本专利技术。在整体说明书中，对相同或者类似的组成要素使用了相同的附图标记。并且，为了便于说明任意地显示了在幅图中出现的各个组成的大小及厚度，因而本专利技术并不限于附图所示的情况。在整体说明书中，若某一部分“包括”某一组成要素时，除了存在特别相驳的记载之外，并不排除其他的组成要素，而意味着还可以包括其他的组成要素。并且，在整体说明书中，..上”意味着对象部分的上部或者下部，并非仅意味着位于以重力方向为基准时的上侧。下面，参考图I至图3，对根据本专利技术一实施例的溅射装置进行说明。图I为根据本专利技术一实施例的溅射装置的截面示意图。如图I所示，根据本专利技术一实施例的溅射装置可以设置于腔室(chamber)内部，在作为被沉积对象的、形成有有机发光器件20的基板10上形成沉积膜。溅射装置包括形成电子回旋共振(electron cyclotron resonance)区域 ECRA 的祀 100 (target)、反射体200 (reflector)、波导器 300 (wave guide)以及限幅器 400 (limiter)。靶100具有磁性并且设置有多个。靶100进行自旋，并且其包括靶本体110以及第一磁性体120。靶本体110包括铝(Al)或者锡(Sn)等欲向基板10沉积的物质，并且在内部形成有圆形空间。靶本体Iio与电子回旋共振区域ECRA相邻。第一磁性体120位于在靶本体110内部形成的圆形空间并且与靶本体110相接。第一磁性体120设置成多个，相邻的第一磁性体120分别可以具有相互不同的磁化方向。第一磁性体120向电子回旋共振区域ECRA方向形成磁场。第一磁性体120可以是电磁铁或者永久磁铁。多个靶100中相邻的靶100之间置有反射体200。反射体200位于相邻的靶100之间，并且与限幅器400相对。反射体200具有磁性并且包括反射板210以及第二磁性体220。反射板210与电子回旋共振区域ECRA相邻，并且其可以包括选自钥(Mo)、金(Au)、银(Ag)、钼(Pt)、钽(Ta)以及不锈钢等中的一种以上金属。反射板210的板面与限幅器400相对。第二磁性体220与反射板210相邻，并且向电子回旋共振区域ECRA方向形成磁场。第二磁性体220可以是电磁铁或者永久磁铁。反射体200和靶100上设置有波导器300。图2为图I所示的波导器的立体示意图。如图2所示,波导器300引导(guide)微波MW(microwave),并且具有磁性。波导器300包括导引本体310、波供应部320、窗体330、第三磁性体340以及槽350。导引本体310是延伸的闭环(closed loop)形态，以使其沿着电子回旋共振区域ECRA的外围围绕电子回旋共振区域ECRA。导引本体310形成用于引导微波的导引空间GS。通过导引本体310的导引空间GS，由波供应部320供应的微波沿着电子回旋共振区域ECRA的外围移动。波供应部320连接于导引本体310的一部分，向导引空间GS供应微波。 窗体330与导引本体310相邻，并且其与导引本体310相比更接近于电子回旋共振区域ECRA。即，窗体330与电子回旋共振区域ECRA相邻，在导引本体310的导引空间GS移动的微波经由窗体330入射至电子回旋共振区域ECRA。第三磁性体340位于导引本体310和窗体330之间，并且沿着导引本体310以闭环形态延伸。第三磁性体340与导引本体310相比更接近于电子回旋共振区域ECRA。槽350贯通第三磁性体340，并且使导引空间GS和窗体330之间连通。在导引空间GS移动的微波经由槽350可以向窗体330移动，并且移动至窗体330的微波经由窗体330向电子回旋共振区域ECRA入射。限幅器400位于波导器300上，与电子回旋共振区域ECRA相邻，并且具有磁性。限幅器400包括相互间隔设置的多个第四磁性体410。限幅器400连同靶100、反射体200以及波导器300构成电子回旋共振区域ECRA。电子回旋共振区域ECRA具有I微托(μ Torr)至I毫托(mTorr)的压力。如上所述，在根据本专利技术一实施例的溅射装置中，靶100、反射体200、波导器300以及限幅器400分别具有磁性，并且由靶100、反射体200、波导器300以及限幅器400形成电子回旋共振区域ECRA，从而沿着电子回旋共振区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射装置，包括：多个靶，具有磁性；反射体，位于所述多个靶中相邻的靶之间，并且具有磁性；波导器，位于所述靶上，形成引导微波的导引空间，并且具有磁性；以及限幅器，位于所述波导器上，与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振区域，并且具有磁性。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔镕燮，许明洙，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：