一种真空镀膜系统技术方案

本发明专利技术公开了一种真空镀膜系统，包括控制器、真空镀膜机、镀膜室、冷却室、排气阀以及人机界面，所述的控制器与真空镀膜机相连接，所述的镀膜室和冷却室分别与真空镀膜机相连接，所述的排气阀与镀膜室相连接，所述的人机界面与控制器相连接。通过上述方式，本发明专利技术提供的真空镀膜系统，设置有镀膜室和冷却室，可省时、省力、减少动力消耗和大气对镀膜室污染的镀膜装置，提供一种可使多个镀膜室保持一定真空度的节拍式连续工作的真空镀膜系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空技术的领域，尤其涉及一种真空镀膜系统。
技术介绍
大批量的真空镀膜应用越来越普遍，为了提高生产效率，镀膜系统已经出现了许多连续方式的生产设备，但目前这种设备多适用于平板型工件或带状工件；在一些实例中，为增加镀膜厚度，使镀膜工件经过重复循环镀膜。目前现有技术中大量工件的镀膜大都采用了单机工作模式和单个镀膜仓体，其工艺流程是:装入工件后关闭镀膜仓体并排气至高真空，再充入工作气体进行镀膜；镀膜完成后，向仓内充气至一个大气压后再开门取出工件，如此循环；该工艺流程存在的明显缺陷是:在镀膜仓内从大气至高真空的不断循环带来沉重的排气负担，费时、费力和动力消耗大等问题带来了高成本和低工效，而且充入大气时带来污染及靶材的氧化等问题，还会使工件膜层质量下降，明显不适应要求高的大批量镀膜生产需要。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种真空镀膜系统，设置有镀膜室和冷却室，可省时、省力、减少动力消耗和大气对镀膜室污染的镀膜装置，提供一种可使多个镀膜室保持一定真空度的节拍式连续工作的真空镀膜系统。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是:提供了一种真空镀膜系统，包括控制器、真空镀膜机、镀膜室、冷却室、排气阀以及人机界面，所述的控制器与真空镀膜机相连接，所述的镀膜室和冷却室分别与真空镀膜机相连接，所述的排气阀与镀膜室相连接，所述的人机界面与控制器相连接。在本专利技术一个较佳实施例中，所述的镀膜室和冷却室之间还设置有移动轨道。在本专利技术一个较佳实施例中，所述的镀膜室包括第一镀膜室和第二镀膜室，所述的排气阀包括第一排气阀和第二排气阀，所述的第一排气阀和第二排气阀分别与第一镀膜室和第二镀膜室相连接。本专利技术的有益效果是:本专利技术的真空镀膜系统，设置有镀膜室和冷却室，可省时、省力、减少动力消耗和大气对镀膜室污染的镀膜装置，提供一种可使多个镀膜室保持一定真空度的节拍式连续工作的真空镀膜系统。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中:图1是本专利技术真空镀膜系统的一较佳实施例的结构框图。【具体实施方式】下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1所示，本专利技术实施例包括: 一种真空镀膜系统，包括控制器、真空镀膜机、镀膜室、冷却室、排气阀以及人机界面，所述的控制器与真空镀膜机相连接，所述的镀膜室和冷却室分别与真空镀膜机相连接，所述的排气阀与镀膜室相连接，所述的人机界面与控制器相连接。上述中，所述的镀膜室和冷却室之间还设置有移动轨道，方便将镀膜好的工件移至冷却室内进行冷却，加快了工件的镀膜效率。其中，所述的镀膜室包括第一镀膜室和第二镀膜室，所述的排气阀包括第一排气阀和第二排气阀，所述的第一排气阀和第二排气阀分别与第一镀膜室和第二镀膜室相连接。装入工件后关闭镀膜室并通过排气阀排气至高真空，再充入工作气体进行镀膜。综上所述，本专利技术的真空镀膜系统，设置有镀膜室和冷却室，可省时、省力、减少动力消耗和大气对镀膜室污染的镀膜装置，提供一种可使多个镀膜室保持一定真空度的节拍式连续工作的真空镀膜系统。 以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。【主权项】1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括控制器、真空镀膜机、镀膜室、冷却室、排气阀以及人机界面，所述的控制器与真空镀膜机相连接，所述的镀膜室和冷却室分别与真空镀膜机相连接，所述的排气阀与镀膜室相连接，所述的人机界面与控制器相连接。2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述的镀膜室和冷却室之间还设置有移动轨道。3.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述的镀膜室包括第一镀膜室和第二镀膜室，所述的排气阀包括第一排气阀和第二排气阀，所述的第一排气阀和第二排气阀分别与第一镀膜室和第二镀膜室相连接。【专利摘要】本专利技术公开了一种真空镀膜系统，包括控制器、真空镀膜机、镀膜室、冷却室、排气阀以及人机界面，所述的控制器与真空镀膜机相连接，所述的镀膜室和冷却室分别与真空镀膜机相连接，所述的排气阀与镀膜室相连接，所述的人机界面与控制器相连接。通过上述方式，本专利技术提供的真空镀膜系统，设置有镀膜室和冷却室，可省时、省力、减少动力消耗和大气对镀膜室污染的镀膜装置，提供一种可使多个镀膜室保持一定真空度的节拍式连续工作的真空镀膜系统。【IPC分类】C23C14/56【公开号】CN105112881【申请号】CN201510581546【专利技术人】陈学兵, 王光辉 【申请人】苏州普京真空技术有限公司【公开日】2015年12月2日【申请日】2015年9月15日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜系统，其特征在于，包括控制器、真空镀膜机、镀膜室、冷却室、排气阀以及人机界面，所述的控制器与真空镀膜机相连接，所述的镀膜室和冷却室分别与真空镀膜机相连接，所述的排气阀与镀膜室相连接，所述的人机界面与控制器相连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈学兵，王光辉，
申请(专利权)人：苏州普京真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32